摘要 |wf:|% "9[K 如今，大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统，结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的物理
光学方法对此类设备进行详细建模，包括所有效应（例如相干、
偏振和
衍射）。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力，该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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-5NP@ O= 1uF 建模任务：专利WO2018/178626 ?l_>rSly5 b8 J\Lm|J 
%*.;3;m i3.8m => 任务描述 r\Wp\LfY&{ _"Q
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E<3hy q{UP_6O F 光波导元件 tUq* -9
V Y2Mti- \ 使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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W%09.bF RB_7S!qC5 光波导结构 /UjRuUC] xPh%?j?*v 使用光波导组件，可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外，这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构，以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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)_T[thf] 1fL@rR 光栅#1:一维倾斜周期光栅 uNnwz%w qH6DZ| 几何布局展示了2个光栅：
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|4 rsf A.o 
<Ebkb3_ •光栅1耦合器：层状（一维周期性），例如倾斜光栅
;T6^cS{ Gj •光栅2 EPE和输出耦合器：交叉光栅（二维周期，非正交）
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+byw*Kk @hm %0L 光栅#2：具有菱形轮廓的二维周期光栅 .jr1<LE G=3/PYp 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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'oTcx Jx ##u+[ ! 可用
参数：
U:MkA(S%c •周期：400纳米
$'X*L e@k •z方向延伸（沿z轴的调制深度）：400nm
K 3&MR=#^ •填充系数（非平行情况下底部或顶部）：50%
/[[zAq{OA •倾斜角度：40º
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PZ pwi?N c6s(f 总结—元件 t2OXm dqUhp_f2qK 具有非正交二维周期的菱形（菱形）光栅结构，通过定制接口实现。
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KN~E9oGs D5T\X-+]O 可用参数：
^i-%FY_i5} •周期（锥间方向）：（461.88纳米，800纳米）
)gR14a •调制深度：100nm
/~7H<^ } •填充系数：65%
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*&UVr =JO|m5z8> 总结——元件 ~c?yHpZx% 1a4 QWGpq 
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v_c'npC 2y_rsu\ 结果：系统中的光线 b daZ{5^{ &O0+\A9tP 
@dCu]0oNI 5Tu#o () 结果：
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|D h *%T2 结果：场追迹 ,C&h~uRi#f Q^MB%L;D 
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VirtualLab Fusion技术 0BaL!^> gP( -Op 
