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摘要 [n< U>up LW2Sko?Yo 高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 1)
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g[eI-J+F 建模任务 g`1*p| G1P m!CM=  moc_}( 概述 1F$a
My? I/Vlw- •案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 wef QmRK •接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 K
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 *1elUI2Rg [IHT)%>E8& 光线追迹仿真 \(;5YCCE 63k8j[$ •首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 ?.,cWKGQ} •单击go！ ,:,c
ku l •获得了3D光线追迹结果。 ^ qE4:| e Mr`u!T&sc
 #}B~V3UD {&2$1p/9' 光线追迹仿真 52:oe1-8
3g5i5 G\ •然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 lSbAZ6 •单击go！ Qp-nr ] •结果得到点图（二维光线追迹结果）。 ]Mtb~^joG DE. Pw+5<.
 9@:& E LoTq 2 / 场追迹仿真 @9QHv Z9! goI •切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 us5`?XeX] •单击go！ *emUQ/uvf ,ciNoP*-~%  F msg*s7w
fTH?t_e 场追迹仿真（相机探测器） X?1 :Z|pJ lffw7T~ •上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 ( zTr/ •下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 HPU7
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 Nf$Y-v?i JQ.ZAhv 场追迹仿真（电磁场探测器） P = S)V •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 27 Lya!/ wRLkO/Fw  b@5bN\"x$
W'6*$Ron 场追迹仿真（电磁场探测器） o 'yR^`
J .El& Dev •使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 K=!J=R; gA .G:1v
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