R?J8#JPXD 内容简介
Ft_g~]kZo Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
@[Wf!8_ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
v7@*dg 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
B|=S-5pv* V3/OKI\o 讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
?DY6V;&F@f 目录
}$* z:E Preface 1
|_a^+!P 内容简介 2
x$pz(Q&v 目录 i
bvT$/(7 1 引言 1
aaI5x 2 光学薄膜基础 2
r/QI-Cf& 2.1 一般规则 2
{l\Ep=O vx 2.2 正交入射规则 3
q^L"@Q5; 2.3 斜入射规则 6
dd4^4X`j 2.4 精确计算 7
m=w #l>! 2.5 相干性 8
s1X?]A 2.6 参考文献 10
Ctk1\quz 3 Essential Macleod的快速预览 10
$]a*ZHd;2& 4 Essential Macleod的特点 32
gU?M/i2 4.1 容量和局限性 33
d-I=xpB 4.2 程序在哪里? 33
MI`<U:-lP 4.3 数据文件 35
G%CS1# 4.4 设计规则 35
_OK!/T*FBt 4.5 材料数据库和
资料库 37
7uzc1}r 4.5.1材料损失 38
tNAmA 4.5.1材料数据库和导入材料 39
>=3oe.$) 4.5.2 材料库 41
q%XjJ -s: 4.5.3导出材料数据 43
W^eQ}A+Z 4.6 常用单位 43
$`L
| 4.7 插值和外推法 46
cxIAI=JK 4.8 材料数据的平滑 50
p;mV?B?oAQ 4.9 更多光学常数模型 54
C~M,N|m+^ 4.10 文档的一般编辑规则 55
U:|:Y=O?Q 4.11 撤销和重做 56
b>' c
4.12 设计文档 57
S4!B;,?AxN 4.10.1 公式 58
(62Sc] 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
3RI%OCGF 4.10.3 沉积密度 59
tHFUV\D;, 4.10.4 平行和楔形介质 60
V@`%k]k 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
/K<>OyR? 4.10.4 性能 61
k:&B
b" 4.10.5 保存设计和性能 64
)
gxN'z 4.10.6 默认设计 64
IYhn* 4.11 图表 64
-R`nitf 4.11.1 合并曲线图 67
?VyiR40-Cx 4.11.2 自适应绘制 68
[6nN]U~ Y 4.11.3 动态绘图 68
!]&+g'aC3 4.11.4 3D绘图 69
/@", 5U# 4.12 导入和导出 73
98CS|NEe 4.12.1 剪贴板 73
8(H!iKHe 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
Qn/6gRLj 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
BD M"";u 4.13 背景 77
gbu)bqu2x 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
cq$_$jRx 4.15 生成Rugate 84
_ujhD 4.16 参考文献 91
.gCun_td# 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
= @ 1{LF; 5.1 Jobs 92
"[CR5q9Pr 5.2 创建一个新Job(工作) 93
| 5.3 输入材料 94
)OFf nKh 5.4 设计数据文件夹 95
= @lM* 5.5 默认设计 95
B06W(y,3Q> 6 细化和合成 97
nDz.61$[ 6.1 优化介绍 97
~vMJ?P@ 6.2 细化 (Refinement) 98
,fhK 6.3 合成 (Synthesis) 100
1gX$U00: 6.4 目标和评价函数 101
=@d->d 6.4.1 目标输入 102
yY"n: &T( 6.4.2 目标 103
,/dW*B 6.4.3 特殊的评价函数 104
Hr*xA x 6.5 层锁定和连接 104
$/Llzpvny 6.6 细化技术 104
c']m5q39' 6.6.1 单纯形 105
caL\ d 6.6.1.1 单纯形
参数 106
i`!>zl+D 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
e8k|%m<Sp 6.6.2.1 Optimac参数 108
Y 9BKd78Y 6.6.3 模拟退火算法 109
F1%^,; 6.6.3.1
模拟退火参数 109
pzT`.#N:M 6.6.4 共轭梯度 111
zuJ@@\75 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
:bqUA(k 6.6.5 拟牛顿法 112
RvyCc!d 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
r(g#3i4Q 6.6.6 针合成 113
9x#Tj/5% 6.6.6.1 针合成参数 114
)~ ^`[` 6.6.7 差分进化 114
e[db?f2! 6.6.8非局部细化 115
K#R|GEwr 6.6.8.1非局部细化参数 115
`X(H,Q}*; 6.7 我应该使用哪种技术? 116
/wi/i*;A 6.7.1 细化 116
$?DEO[p. 6.7.2 合成 117
NOl/y@# 6.8 参考文献 117
D=M'g}l 7 导纳图及其他工具 118
D_BdvWSxj 7.1 简介 118
qU ,{jD$ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
8k^1:gt^ 7.2.1 四分之一
波长规则 119
Pje1,B q 7.2.2 导纳图 120
sRC?l_n; 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
|W5lhx0U 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
Wp^A. 7.5 斜入射导纳图 141
D&D-