摘要
U#`2~Qv/1 5DJ!:QY! 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
\|C*b< xAr&sGMA
hjz`0AS YB.@zL0.( 建模任务
S@Aw1i p &q +l5L"
U+[h^M$U _6 @GT 入射平面波
pGr4b:N 波长 2.08 nm
q+
`QiPj 光斑直径: 3mm
[8&+4< 沿x方向线偏振
G4ycP8 O7m-_#/\ 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
Q]<6voyy 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
tBVtIOm9 G +AP."M? 概览
_<'?s>(U' •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
P1R[M|Fx •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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Y]!&, e, 光线追迹模拟
KE-0/m4yJ •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
gHFQs](G. •点击Go!
5> !N)pA •获得3D光线追迹结果。
lUdk^7:M n. vrq-
#e1iYFgS _w2%!+' 光线追迹模拟
gAgF$H . •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
i(kx'ua? •单击Go!
0"Zxbgu) •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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*BvdL:t ibLx'< 光场追迹模拟
bXA%|7* •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
RKp9[^/? •单击Go!
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v`S ;.iD *P|~vCnr 光场追迹结果(照相机探测器)
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G ^eQ •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
lMcO2006L •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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].sD#~L_ 0|g@;Pc 光场追迹结果(电磁场探测器)
db@^CS[P X ka+1c •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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