摘要
Qa )+Tv 'A7!@hVy 高数值孔径
物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在聚焦
模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
NOXP}M ZxwrlaA -GPJ,S V> iiIns.V 建模任务
:QGo
-,6- C:t>u.. ^py=]7[I 0HoHu*+FX 入射平面波
X_o#! 波长 2.08 nm
[_(J8~va 光斑直径: 3mm
S=!WFKcJR 沿x方向线偏振
}]o8}$&( ]wU/yc)e 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
lTMY|{9 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
ZPG,o5`% P>X[} 概览
j}ob7O&U'w •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
WK`o3ayH- •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
fe/;U=te OVi<d AF{uFna 光线追迹模拟
jL\j$'KC •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
Qq`S=:}~x •点击Go!
<}{<FXk[ •获得3D光线追迹结果。
$kTm"I 7 mCf*| ^:{8z;w!( nD
BWm`kN 光线追迹模拟
//2O#Fg{/ •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
lfHN_fE>Mq •单击Go!
\DQu!l@1U •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
BJux5Nh . fja;aG y2_rm w{*kbGB8s7 光场追迹模拟
s`bGW1#io •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
8j#S+=l> •单击Go!
Ra|P5 iN
Oj@3x Q`9c/vPU MRt"#CO 光场追迹结果(照相机探测器)
=m2_:&@0x (`dz37@* •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
KBB)xez8 •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
j J{F0o ih0a#PB8 ~ps,U 0Gs\x 光场追迹结果(电磁场探测器)
_,L_H[FN }( F:U# •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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