[技术]分析高数值孔径物镜的聚焦特性 [复制链接]

摘要 H_a[)DT  
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高数值孔径的物镜广泛用于光刻、显微等方面。 因此，在仿真聚焦时考虑光的矢量性质是至关重要的。VirtualLab可以支持此类透镜的光线和场追迹分析。通过场追迹分析，可以清楚地显示出由于矢量效应引起的非对称焦点。相机探测器和电磁场探测器可以方便地研究聚焦区域的场，也可以深入研究矢量效应。 (PLUF
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建模任务 @ArSC  
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图片:1-1911251A00R22.png

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概述 _BufO7`.  
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•案例系统已预先设置了高数值孔径物镜。 =_CzH(=f#  
•接下来，我们演示如何按照VirtualLab中建议的工作流程在示例系统上执行仿真。 dtDFoETz  
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图片:1-1911251A211D3.png

F?0Ykjh3  
=;L|gtH"  
光线追迹仿真 Z,gk|M3.  
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•首先选择“光线追迹系统分析器”作为模拟引擎。 )%TmAaj9d  
•单击go！ z{q`GwW  
•获得了3D光线追迹结果。 awRX1:T#;O  
Qs!5<)6  

图片:1-1911251A23G14.png

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光线追迹仿真 "+c-pO`Wg  
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(ffk  
•然后，选择“光线追迹”作为模拟引擎。 ctQ/wrkU  
•单击go！ F|8&  
•结果得到点图（二维光线追迹结果）。 gGYKEq{j(  
JF]JOI6.e  

图片:1-1911251A311b4.png

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场追迹仿真 (FV >m  

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•切换到场追迹，然后选择“第二代场追迹”作为模拟引擎。 S:}7q2:  
•单击go！ 4H/OBR  
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图片:1-1911251A335531.png

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z?zL97H  
场追迹仿真（相机探测器） l;U?Z'n  
ZCw]m#lS  
•上图仅显示Ex和Ey场分量积分的强度。 3|7QUld  
•下图显示Ex、Ey和Ez分量积分的强度：由于在高数值孔径情况下Ez分量相对较大，因此可见明显的不对称性。 3`HV(5U[  
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图片:1-1911251A41O04.png

f1? >h\F8  
XW9!p.*.U  
场追迹仿真（电磁场探测器） Bvj0^fSm  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 K
oYF]  
PF2nLb2-  

图片:1-1911251A519A0.png

yZ:qU({KhD  
=Qq+4F)MD  
场追迹仿真（电磁场探测器） rQXzR  
U*:!W=XN  
•使用电磁场探测器可获得所有电磁场分量。 :&Nbw  
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图片:1-1911251A5594c.png