[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 tmOy"mq67  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 9
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 ]h
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 sZ~03
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系统构建块 SOE-Kio=B  
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组件求解器 _p0gXb1m`  
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CVvl &on  
系统构建块 B8eZ}9X  
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总结 :!l.ze{F  
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几何光学仿真 34X]b[^  
通过光线追迹 G
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结果：光线追迹 QVRQUd  
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快速物理光学仿真 FX9WXb4w  
通过场追迹 9mp`LT  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 X.>~DT%0Lm  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 =BN<)f^*s  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 @`+\v
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 yPT o,,ca=  
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图片:1-21050H24U19D.png

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7Y-Q, ?1  
总结 hrD2-S  
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图片:1-21050H2491WT.png