[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 \vg(@)$q   
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 [d"]AF[#  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 {"v~1W)  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 L<D<3g|4  
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系统构建块 UY5wef2sF  
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图片:1-21050H24406210.png

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组件求解器 [,bra8f[C  
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系统构建块 !{1;wC(b  
Cg8
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图片:1-21050H24504963.png

*SK`&V  
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总结 #lfW0?Y'  
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几何光学仿真 6!Q,XHs  
通过光线追迹 ('~}$%C  
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结果：光线追迹 yE#.Q<4  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 ;Rf@S$  
通过场追迹 /UqIkc  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 :w<Ga8\tZ  
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图片:1-21050H24F9561.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 nN2huNTf:  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 c2u*<x  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 +!K*FU=).  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 ^ib =fLu  
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图片:1-21050H2491WT.png