[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 q!Q*T^-rO  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 xO 6$:o-  
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图片:1-21050H24230433.jpg

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场景 ^EZ?wdL  
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图片:1-21050H24314539.png

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在VirtualLab Fusion中构建系统 7Rl/F1G o}  
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系统构建块 V[^+lR  
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组件求解器 P,*yuF|bk  
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系统构建块 LjY@b  
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图片:1-21050H24504963.png

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总结 dz,4);Mg  
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几何光学仿真 "VI2--%v3  
通过光线追迹 ?,oE_H  
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结果：光线追迹 +x)x&;B)/  
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图片:1-21050H24620F7.png

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快速物理光学仿真 sUN9E4  
通过场追迹 hO..
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 f,:2\b?.  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 G&@vTcF  
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图片:1-21050H24JA60.png

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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 m:5x"o7)ln  
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图片:1-21050H24QT15.png

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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 `V=F>s$W  
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图片:1-21050H24U19D.png

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总结 nAk;a|Q  
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图片:1-21050H2491WT.png