[技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

摘要 pU4k/v555;  
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在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 " sh%8 <N  
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场景 J,@SSmJ`  
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在VirtualLab Fusion中构建系统 qfF/X"#
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组件求解器 (J!FW(Ma|=  
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系统构建块 & w%%{lM  
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总结 k[6%+  
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几何光学仿真 3aMfZa<=  
通过光线追迹 a;},y|'E  
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结果：光线追迹 gDY+'6m;  
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快速物理光学仿真 G8Hj
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通过场追迹 ?|Q[QP  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 if|j)h&  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 j,7NLb9M  
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在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 V1aWVLltj  
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聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 <:v2N/i  
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