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jwQ(E 内容简介 [G#PK5C Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 yd+.hg&J 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ZOIx+%/Vd# 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 UZD Xv=r| XUK!1} 讯技科技股份有限公司 ">
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B K/_hNz 目录 Ng 3r`S"_< Preface 1 tQYkH$e`/{ 内容简介 2 qy\Z2k 目录 i I|eYeJ3 1 引言 1 B3NDx+%m 2 光学薄膜基础 2 41oXOB 2.1 一般规则 2 |9*8u>|RC 2.2 正交入射规则 3 Yn+d!w<3: 2.3 斜入射规则 6 +5xVgIk# 2.4 精确计算 7 *%p`Jk-U 2.5 相干性 8 1Ax{Y#< 2.6 参考文献 10 \YMe&[C:o 3 Essential Macleod的快速预览 10 d:&=|kKw 4 Essential Macleod的特点 32 X1Vj"4'wT 4.1 容量和局限性 33 vDit&Lh{T 4.2 程序在哪里? 33 vOV$H le 4.3 数据文件 35 !QXPn}q^0 4.4 设计规则 35 )wdTs>W7 4.5 材料数据库和资料库 37 W9M~2<
L 4.5.1材料损失 38 -Ed<Kl 4.5.1材料数据库和导入材料 39 2T&n6t$p 4.5.2 材料库 41 ]mZN18# 4.5.3导出材料数据 43 G W@g 4.6 常用单位 43 4Uzx2
4.7 插值和外推法 46 S:YQVj 4.8 材料数据的平滑 50 `~;`q 4.9 更多光学常数模型 54 @Lk!nP 4.10 文档的一般编辑规则 55 , SB5" 4.11 撤销和重做 56 =b_/_b$q 4.12 设计文档 57 ~M Mv+d88 4.10.1 公式 58 Wfp>BC 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ;'i>^zX` 4.10.3 沉积密度 59 <l!{j? Kx 4.10.4 平行和楔形介质 60 3z~d7J 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 sn-P&"q 4.10.4 性能 61 "fN=Y$G 4.10.5 保存设计和性能 64 t;/s^-} 4.10.6 默认设计 64 tcD DX'S 4.11 图表 64 8H@] v@Z2 4.11.1 合并曲线图 67 $ts1XIK% 4.11.2 自适应绘制 68 SDHJX8Hq 4.11.3 动态绘图 68 8kYI ~ 4.11.4 3D绘图 69 O;8 3A 4.12 导入和导出 73 ApSzkPv* 4.12.1 剪贴板 73 zkb[u" 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Mv_-JE9#>o 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 kT1 2 4.13 背景 77 eFXQ~~gOj 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ]}z"H@k 4.15 生成Rugate 84 S17 c#6vT 4.16 参考文献 91 #Mm1yXNu 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 }BN!Xa 5.1 Jobs 92 kR/Etm5_ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 HD!2|b~@ 5.3 输入材料 94 }O+`X) 9 5.4 设计数据文件夹 95 t`Lh(` 5.5 默认设计 95 k^Qd%;bdF 6 细化和合成 97 5lrjM^E| 6.1 优化介绍 97 ~v|NC([( 6.2 细化 (Refinement) 98 *&O4b3R 6.3 合成 (Synthesis) 100 /|LQ?n 6.4 目标和评价函数 101 'aqlNBG* 6.4.1 目标输入 102 ArVW2gL 6.4.2 目标 103 mbZn[D_zi 6.4.3 特殊的评价函数 104 %}[/lIxaE 6.5 层锁定和连接 104 VxW>XxG0 6.6 细化技术 104 Y{7)$'At 6.6.1 单纯形 105 v7b+ 6.6.1.1 单纯形参数 106 8z)J rO} 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 32z2c:G 6.6.2.1 Optimac参数 108 GAU7w"sE 6.6.3 模拟退火算法 109 j^6,V\;l 6.6.3.1 模拟退火参数 109 (MzThGJK_ 6.6.4 共轭梯度 111 /C6$B)w_*{ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 6(8zt"E 6.6.5 拟牛顿法 112 {&uN q^Ch 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 >41K>=K 6.6.6 针合成 113 vWVQ8S. 6.6.6.1 针合成参数 114 pF<KhE*V 6.6.7 差分进化 114 I''X\/| 6.6.8非局部细化 115 5b$QXO 6.6.8.1非局部细化参数 115 TR'<D9kn 6.7 我应该使用哪种技术? 116 &1FyauH 6.7.1 细化 116 ;U[W $w[ 6.7.2 合成 117 %(A@=0r# 6.8 参考文献 117 Pj^O8 7 导纳图及其他工具 118 2Kz407|' 7.1 简介 118 -7u_ \XFk 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 %0q)PT\ 7.2.1 四分之一波长规则 119 s8+{##"1
q 7.2.2 导纳图 120 yi:1cLq2 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 hh8U/dVk* 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 D:0?u_[W 7.5 斜入射导纳图 141 siz:YRur 7.6 对称周期 141 ;7U"wI_~c 7.7 参考文献 142 &UIS |