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cGE{dWz 内容简介 n'rq Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 e`Yj}i*bx] 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 (~|)Gmq2 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ^;II@n
i v9T3= 讯技科技股份有限公司 \t{iyUxY
#kQ! GMZH 目录 n3e,vP? R Preface 1 &UDbH* !4= 内容简介 2 qJ" (:~ 目录 i zDg*ds\ 1 引言 1 R/u0, 2 光学薄膜基础 2 4n#u?) 2.1 一般规则 2 mjOxmwo 2.2 正交入射规则 3 j'*.=cwsp 2.3 斜入射规则 6 Tp ;W 2.4 精确计算 7 ~U+<JC Z 2.5 相干性 8 ErN[maix# 2.6 参考文献 10 5REH`- 3 Essential Macleod的快速预览 10 Eq@sU?j 4 Essential Macleod的特点 32 ~ESw* 6s9 4.1 容量和局限性 33 U["<f`z4\ 4.2 程序在哪里? 33 iBWzxPv:z 4.3 数据文件 35 s=$xnc}mf 4.4 设计规则 35 E[hSL#0 4.5 材料数据库和资料库 37 fe\'N4 4.5.1材料损失 38 I
N@ ~~ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 C,;?`3bH@ 4.5.2 材料库 41 D~inR3(} 4.5.3导出材料数据 43 Gb2|e.z 4.6 常用单位 43 aT/2rMKPF 4.7 插值和外推法 46 zt2#K 4.8 材料数据的平滑 50 DN9x<%/- 4.9 更多光学常数模型 54 d%@0xsU1 4.10 文档的一般编辑规则 55 6rS
? FG= 4.11 撤销和重做 56 /XG7M=A$o 4.12 设计文档 57 <F`9;WX 4.10.1 公式 58 tzl,r"k3 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 :Gz$(!j1.' 4.10.3 沉积密度 59 iMry0z 4.10.4 平行和楔形介质 60 +%CXc% 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 kW+>"3 4.10.4 性能 61 Ym%#" 4.10.5 保存设计和性能 64 =}ZY`O*/ 4.10.6 默认设计 64 [/ CB1//Y 4.11 图表 64 2C0j.Ib 4.11.1 合并曲线图 67 \>T1&JT 4.11.2 自适应绘制 68 r<]^.]3zj 4.11.3 动态绘图 68 SdufI_'B 4.11.4 3D绘图 69 9[t-W:3c7 4.12 导入和导出 73 Z$0mKw 4.12.1 剪贴板 73 [L7S`Z 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 L9[m/(:y 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 `zs@W
4.13 背景 77 b5p;)# 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 [)IaXa 4.15 生成Rugate 84 ;J?fK69% 4.16 参考文献 91 +vFqHfmP 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 NgGpLdaC2v 5.1 Jobs 92 <q MX,h2 5.2 创建一个新Job(工作) 93 aSm</@tO& 5.3 输入材料 94 i(u zb< 5.4 设计数据文件夹 95 Vg(p_k45` 5.5 默认设计 95 Q#*qPgs 6 细化和合成 97 HVC|0} 6.1 优化介绍 97 z:n
JN%Qb 6.2 细化 (Refinement) 98 ( ^=kV?< 6.3 合成 (Synthesis) 100 PzjIM!> 6.4 目标和评价函数 101 J_
h\tM 6.4.1 目标输入 102 ?#5)TAW 6.4.2 目标 103 $
z+
=lF 6.4.3 特殊的评价函数 104 cP21x<n 6.5 层锁定和连接 104 ZZL%5{w_
6.6 细化技术 104 <^Q`
y 6.6.1 单纯形 105 Y5>'(A> 6.6.1.1 单纯形参数 106 6yaWxpW 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 [woxCfSA 6.6.2.1 Optimac参数 108 X bV?= 6.6.3 模拟退火算法 109 z ISy\uka 6.6.3.1 模拟退火参数 109 )P/~{Ci:T& 6.6.4 共轭梯度 111 m[5ed1+ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 H]lD*3b 6.6.5 拟牛顿法 112 V6<Ki 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 BD ,3JDqT 6.6.6 针合成 113 Z${@;lgP 6.6.6.1 针合成参数 114 %D^j7`Z 6.6.7 差分进化 114 _*(:6,8 6.6.8非局部细化 115 w68VOymD/ 6.6.8.1非局部细化参数 115 @0:mP 6.7 我应该使用哪种技术? 116 x(zW<J5X" 6.7.1 细化 116 la!rg#)-X 6.7.2 合成 117 I8hmn@ce 6.8 参考文献 117 :;x#qtv~Iz 7 导纳图及其他工具 118 aG1[85:,\i 7.1 简介 118 =1kjKE ! 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 8j%lM/ v 7.2.1 四分之一波长规则 119 ;UjP0z 7.2.2 导纳图 120 6~+?DIc 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 )3_g&& 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 *!(?=9[ 7.5 斜入射导纳图 141 )&elr,b/y 7.6 对称周期 141 [TpW$E0H 7.7 参考文献 142 *r3u=oWb 8 典型的镀膜实例 143 |}roR{gc| 8.1 单层抗反射薄膜 145 =HvLuVc 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 _bq2h%G=8 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 @*LESN>T@t 8.4 W-膜层 148 xZ"kJ'C4} 8.5 V-膜层 149 Q ?W6 8.6 V-膜层高折射基底 150 [+y/qx79 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 'uOp?g' 7 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 80M4~'3 8.9 四层抗反射薄膜 153 >G+?X+9 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 Ol@
YSk d 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ]+S.#x`# 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 hE/y"SP3 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 I1(,J 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 Ts:pk 8.15十五层宽带抗反射膜 159 g'b)] Q 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 \oGZM0j 8.17 1/4波长堆栈 162 'W j Q 8.18 陷波滤波器 163 ,Gd8 < |