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-RJ 内容简介 D 13bQ&\B- Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 F=~LVaF/_ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 qre(3,VE5 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 "0Yb
2>F k= oCpXq^ 讯技科技股份有限公司 $1;@@LSw
u_X(c'aE; 目录 PgwNE wG Preface 1 DO9_o9' 内容简介 2 .Sjg 目录 i x @uowx_&m 1 引言 1 $5Tjo
T 2 光学薄膜基础 2 %2EHYBQjN 2.1 一般规则 2 H0Ck%5 2.2 正交入射规则 3 EF[I@voc 2.3 斜入射规则 6 jinXK 2.4 精确计算 7 &Vmx<w 2.5 相干性 8 p#tbN5i[{7 2.6 参考文献 10 v!%VH?cA8 3 Essential Macleod的快速预览 10 }X^CH2,R 4 Essential Macleod的特点 32 Bz*6M 4.1 容量和局限性 33 \6K1Z!*; 4.2 程序在哪里? 33 vON1\$bu` 4.3 数据文件 35 ,U#FtOec 4.4 设计规则 35 5WU?Km 4.5 材料数据库和资料库 37 H4JwgQ 4.5.1材料损失 38 $BWA=2$ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 QeipfK+me 4.5.2 材料库 41 Lo^gg#o 4.5.3导出材料数据 43 _cD-E.E% 4.6 常用单位 43 |A19IXZ\ 4.7 插值和外推法 46 Q804_F
F# 4.8 材料数据的平滑 50 m005*>IY 4.9 更多光学常数模型 54 `Fs- z 4.10 文档的一般编辑规则 55 _"'0^F$I 4.11 撤销和重做 56 >J_%'%%f 4.12 设计文档 57 wBIhpiJX0 4.10.1 公式 58 73>Hzpv0 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 <;':'sW 4.10.3 沉积密度 59 Lt\=E8&rh 4.10.4 平行和楔形介质 60 SH#!Y 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 sD,FJ:dy 4.10.4 性能 61 B*T;DE 4.10.5 保存设计和性能 64 `Uy'YfYF 4.10.6 默认设计 64 :}p<Hq 8Z 4.11 图表 64 wQw
y+S 4.11.1 合并曲线图 67 '"fZGz? 4.11.2 自适应绘制 68 2kVQ#JyuRI 4.11.3 动态绘图 68 bx=9XZ9g 4.11.4 3D绘图 69 v.Zr,Z=eV 4.12 导入和导出 73 TC^fyxq 4.12.1 剪贴板 73 f,QBj{M, 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 j<C p&}X 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 !S5_+.U# 4.13 背景 77 5Int,SX 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 7)37AK w 4.15 生成Rugate 84 ZRLS3*` 4.16 参考文献 91 O t1:z:Pl 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 x|q|> dPB 5.1 Jobs 92 wl:[Ad 5.2 创建一个新Job(工作) 93 Nr:%yvk%s 5.3 输入材料 94 |&0zAP"\ 5.4 设计数据文件夹 95 mVdg0 5.5 默认设计 95 &1$|KbmV4 6 细化和合成 97 9Jj:d)E>o 6.1 优化介绍 97 A,#a?O6m 6.2 细化 (Refinement) 98 LP:F'Q:< 6.3 合成 (Synthesis) 100 m. "T3K 6.4 目标和评价函数 101 31=vUS
6.4.1 目标输入 102 \2NT7^H# 6.4.2 目标 103 e]@R'oM?#` 6.4.3 特殊的评价函数 104 fMZzR|_18 6.5 层锁定和连接 104 mv\S1[<T 6.6 细化技术 104 ^.~m4t`U 6.6.1 单纯形 105 <^Sp4J 6.6.1.1 单纯形参数 106 j]bNOC2.L 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 _1kcz]]F 6.6.2.1 Optimac参数 108 w-?|6I}T 6.6.3 模拟退火算法 109 |]'0z0> 6.6.3.1 模拟退火参数 109 2<33BBlWA 6.6.4 共轭梯度 111 J1gLT $ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
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j_ 6.6.5 拟牛顿法 112 A~%h*nZc%I 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 APM!xX=N 6.6.6 针合成 113 ?Q G?F9? 6.6.6.1 针合成参数 114 q_[V9 6.6.7 差分进化 114 l~c# X3E 6.6.8非局部细化 115 ^b@&O-&s 6.6.8.1非局部细化参数 115 8KyF0r? 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ;/=6~% 6.7.1 细化 116 i*2l4 6.7.2 合成 117 ]0@
06G(y 6.8 参考文献 117 Bl!R
bh\ 7 导纳图及其他工具 118 *J|]E( 7.1 简介 118 ePxwN? 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 jz"-E 7.2.1 四分之一波长规则 119 V.^Z)iNf^ 7.2.2 导纳图 120 6qH^&O][ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 odNHyJS0 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 a0=>@? 7.5 斜入射导纳图 141 & |