介绍
6*OL.~WE cTqkM@S 在高约束
芯片上与亚微米波导上耦合光的两种主要方法是
光栅或锥形耦合器。[1]
U)S=JT~h 耦合器由高折射率比
材料组成,是基于具有
纳米尺寸尖端的短锥形。[2]
Wboh2:TH: 锥形耦合器实际上是
光纤和亚微米波导之间的紧凑模式转换器。[2]
d_RgKdR )k 锥形耦合器可以是线性[1]或抛物线性[2]过渡。
7*/{m K) 选择Silicon-on-insulator(SOI)技术作为纳米锥和波导的平台,因为它提供高折射率比,包括二氧化硅层作为
光学缓冲器,并允许与集成
电子电路兼容。[2]
]BQYVx/ 3r\8v`^> x-^6U
gT+/nSrLV [1] Jaime Cardenas, et al., “High Coupling Efficiency Etched Facet Tapers in Silicon Waveguides,” IEEE Phot. Tech. Lett. VOL. 26, NO. 23, 2380-2382 (2014)
xNP_>Qa~ [2] Vilson R. Almeida, et al., "Nanotaper for compact mode conversion," Opt. Lett. 28, 1302-1304 (2003);
D7Q+w gr=h!'m 3D FDTD仿真
p7h#.m~Qu 1+o]+Jz| 要
模拟的关键部件是来自参考文献[1]的线性锥形硅波导(160 nm至500 nm宽度变化超过100 um长度,250 nm高度),它埋在二氧化硅波导中(注意:使用的尺寸减小了(1.5 umx1.5 umx105 um),以便达到更快的模拟时间)
+^)v"@,VP 为了精确模拟线性锥形硅波导,锥形的网格尺寸应该要设置密度大一些,因此在这种情况下使用不均匀的网格。
P T"}2sR) 光源在时域中设置为CW( = 1.55 um),在空间域上设置为高斯横向分布,并且位于二氧化硅波导的硅纸尖端。
V5|ANt 注意:模拟时间应足够长,以确保稳态结果
,pNx(a R[WiW RfD }`"`VLh Rx%S<i;9 仿真结果
6CJMQi,kn ! -gU~0 n,la<N] &W `xZyb3 顶视图展示了锥形硅波导的有效耦合。
>}5?`.K~Q* gk ]QR. 底部视图显示了不同位置的模式转换(左:25 um,中间:65 um,右:103 um)
g 7oY 1; NnZW@ln"|