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d87vl13 内容简介 G%p~m%zIK Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 F7m?xy 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 :!&;p 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 XhzGLYb~I` zZ-wG 讯技科技股份有限公司 mwv(j_
oj,lz? 目录 MWk:sBCqr Preface 1 vY|^/[x#B 内容简介 2 gxPx&Z6jF 目录 i $Kj&)&M 1 引言 1 PQW(EeQ 2 光学薄膜基础 2 TOF
'2&H 2.1 一般规则 2 k#TYKft 2.2 正交入射规则 3 gCd`pi
8 2.3 斜入射规则 6 |xr%6 [Ff 2.4 精确计算 7 stl 1QO(h 2.5 相干性 8 " }gVAAvc7 2.6 参考文献 10 $5`!Z%>/ 3 Essential Macleod的快速预览 10 fJ*:{48 4 Essential Macleod的特点 32 iyZZ}M 4.1 容量和局限性 33 Hk_y/97OO 4.2 程序在哪里? 33 !%<^K.wG 4.3 数据文件 35 pb60R|k 4.4 设计规则 35 0XwHP{XaO 4.5 材料数据库和资料库 37 .UCt|> $ 4.5.1材料损失 38 lor8@Qz 4.5.1材料数据库和导入材料 39 *MNHT`Y^o 4.5.2 材料库 41 m^%|ZTrwN7 4.5.3导出材料数据 43 'J*<iA*W 4.6 常用单位 43 $DFv30 f 4.7 插值和外推法 46 M/D)".; 4.8 材料数据的平滑 50 Uv_N x10 4.9 更多光学常数模型 54 +eQe%U 4.10 文档的一般编辑规则 55 *x~xWg9^ 4.11 撤销和重做 56 :Br5a34q 4.12 设计文档 57 gsar[gZ 4.10.1 公式 58 iVtl72O 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 5/[H+O1; 4.10.3 沉积密度 59 kID[#g' 4.10.4 平行和楔形介质 60 {eJt,[Y * 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 wyx(FinIH 4.10.4 性能 61 IJOvnZ("A 4.10.5 保存设计和性能 64 n;HHogA 4.10.6 默认设计 64 y #f
QPR 4.11 图表 64 =M 6[URZ 4.11.1 合并曲线图 67 TG48%L 4.11.2 自适应绘制 68 $FH18 4.11.3 动态绘图 68 }g+;y 4.11.4 3D绘图 69 o 6 {\Zzp 4.12 导入和导出 73 6[qA`x# 4.12.1 剪贴板 73 {",MCu_V 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 4!62/df 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 v1U?&C 4.13 背景 77 os3 8u!3- 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 o!TQk{0 4.15 生成Rugate 84 e;bYaM4UX 4.16 参考文献 91 09KcKhFB 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 h[KvhbD3 5.1 Jobs 92 <E;pgw! 5.2 创建一个新Job(工作) 93 }/dRU${! 5.3 输入材料 94 xVB;s.'! 5.4 设计数据文件夹 95 vgIpj3u 5.5 默认设计 95 `Ycf]2.,$ 6 细化和合成 97 h<<>3 A 6.1 优化介绍 97 U=Y)V% 6.2 细化 (Refinement) 98 NE8 jC7 6.3 合成 (Synthesis) 100 2N#$X'8 6.4 目标和评价函数 101 }TRAw#h 6.4.1 目标输入 102 )"(] Lf's 6.4.2 目标 103 g]@(E 6.4.3 特殊的评价函数 104 #qU-j/Qf 6.5 层锁定和连接 104 !2\ r LN 6.6 细化技术 104 z@|dzvjl
Q 6.6.1 单纯形 105 &adI (s~ 6.6.1.1 单纯形参数 106 V!%jf:k 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 &K_)#v`| 6.6.2.1 Optimac参数 108 0Q,g7K<d 6.6.3 模拟退火算法 109 #v#<itfFH 6.6.3.1 模拟退火参数 109 M4LP$N 6.6.4 共轭梯度 111 ;rI@*An 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 p?[Tm*r 6.6.5 拟牛顿法 112 k-V,~c 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 +=Jir1SLV 6.6.6 针合成 113 UrlM%Jnq1 6.6.6.1 针合成参数 114 \?>Hu
v 6.6.7 差分进化 114 c@[:V 6.6.8非局部细化 115 8*SDiZ 6.6.8.1非局部细化参数 115 CfEmT8sa 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Q'l^9Bz 6.7.1 细化 116 :Eh\NOc_O 6.7.2 合成 117 5IOFSy` 6.8 参考文献 117 0C<[9Dl.G8 7 导纳图及其他工具 118 q>f<u& 7.1 简介 118 r;9 r!$d 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 _LP/!D 7.2.1 四分之一波长规则 119 >4Y3]6N0.F 7.2.2 导纳图 120 *b *G2f^ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 (@X~VACT 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 dF0,Y? 7.5 斜入射导纳图 141 m p<1yY] 7.6 对称周期 141 k 4/D8(OXw 7.7 参考文献 142 7A\Cbu2tf 8 典型的镀膜实例 143 k$5 s{q 8.1 单层抗反射薄膜 145 %:>3n8n 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 h'J|K^na 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 LZPuDf~/ 8.4 W-膜层 148 0.$hn 8.5 V-膜层 149 xX3'bsN 8.6 V-膜层高折射基底 150 I{JU-Jk| 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 eD$M<Eu 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 )m6M9eC 8.9 四层抗反射薄膜 153 MUOa@O, 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ')a(.f 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 g71[6<D 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 kP#e((f, 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 kdz=ltw 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 NC&DF |