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E51'TT9 内容简介 ?910ki_ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 TQL_K8k@_ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 ?QRoSQ6 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 b O9PpOk+z w,zm$s ^ 讯技科技股份有限公司 :"Gd;~p.
FT;I|+H*P 目录 nd)`G$gL Preface 1 Ha/Gn!l 内容简介 2 <Kk[^.7C; 目录 i W<\*5oB%H 1 引言 1 |'QgL0?
2 光学薄膜基础 2 =`+c}i? 2.1 一般规则 2 ^!7|B3` 2.2 正交入射规则 3 OI)U c . 2.3 斜入射规则 6 :F.eyA|#@G 2.4 精确计算 7 Hdda/?{b 2.5 相干性 8 WNp-V02l 2.6 参考文献 10 $h|8z 3 Essential Macleod的快速预览 10 fX/k;0l 4 Essential Macleod的特点 32 Ih_=yk 4.1 容量和局限性 33 2>F`H7W 4.2 程序在哪里? 33 l<UJ@XID$ 4.3 数据文件 35 {(5M)|> 4.4 设计规则 35 7hAc6M$h; 4.5 材料数据库和资料库 37 Gj- *D7X5 4.5.1材料损失 38 XQStlUw8+ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 yv(\5)XF 4.5.2 材料库 41 *?R<gWCF 4.5.3导出材料数据 43 Clmz}F 4.6 常用单位 43 tD+K4
^ 4.7 插值和外推法 46 JQ<9~J 4.8 材料数据的平滑 50 YPmgR]=6 4.9 更多光学常数模型 54 yIf>8ed]# 4.10 文档的一般编辑规则 55 ;@/vKA3l. 4.11 撤销和重做 56 uuf+M-P 4.12 设计文档 57 %Hpz^<` 4.10.1 公式 58 8C4v 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 pKhV<MFB 4.10.3 沉积密度 59 NGAjajB 4.10.4 平行和楔形介质 60 - -ZSl 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 s}Q*zy 4.10.4 性能 61 Ixr#zt$T-G 4.10.5 保存设计和性能 64 =P`l+k3 4.10.6 默认设计 64 %)}y[
( 4.11 图表 64 Yg!xlrxA 4.11.1 合并曲线图 67 ^ Iy'<J 4.11.2 自适应绘制 68 ;#n+$Q#: 4.11.3 动态绘图 68 T?EFY}f 4.11.4 3D绘图 69 B'-L-]\H 4.12 导入和导出 73 !^IAn 4.12.1 剪贴板 73 D`@*udn= 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 xf4`+[ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 o0FVVS l 4.13 背景 77 4L/8Hj#g 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 0ChdFf7 4.15 生成Rugate 84 ?T7ndXX 4.16 参考文献 91 &DX 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 l^4! 5.1 Jobs 92 oWcBQ| 5.2 创建一个新Job(工作) 93 ]7
2wv#- 5.3 输入材料 94 {f[X) 5.4 设计数据文件夹 95 L<O"36R 5.5 默认设计 95 ky{-NrK 6 细化和合成 97 #RVN7-x 6.1 优化介绍 97 DS>qth 6.2 细化 (Refinement) 98 9p%8VDF= 6.3 合成 (Synthesis) 100
1ZRSeh 6.4 目标和评价函数 101 |C3~Q{A 6.4.1 目标输入 102 {GKq Ou 6.4.2 目标 103 &?#!%Ds 6.4.3 特殊的评价函数 104 t.6gyrV7>< 6.5 层锁定和连接 104 ALl0(<u67 6.6 细化技术 104 tjt#2i8/ 6.6.1 单纯形 105 }8?1)l 6.6.1.1 单纯形参数 106 Qhsk09K_=4 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 BZs?tbf 6.6.2.1 Optimac参数 108 .+2@(r 6.6.3 模拟退火算法 109 WG(%Pkowv 6.6.3.1 模拟退火参数 109 `ILO]+`5 6.6.4 共轭梯度 111 \
0aa0= 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 QP1bm]QYA 6.6.5 拟牛顿法 112 Q0-}!5`E1$ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 mIkc+X 6.6.6 针合成 113 4KT-U6zNx 6.6.6.1 针合成参数 114 7?EC
kuSv 6.6.7 差分进化 114 XdGA8%^cY 6.6.8非局部细化 115 F<|x_6a\ 6.6.8.1非局部细化参数 115 <O30X
!QuK 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ma7@vD 6.7.1 细化 116 D$/*Z5Z)] 6.7.2 合成 117 @Yy']!Ju 6.8 参考文献 117 p'`pO"EO 7 导纳图及其他工具 118 Fc.1)yh. 7.1 简介 118 h;`]rK;g 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 t*cVDA&K |