摘要 0Y,_
DU {0+gPTp 如今,大多数创新的AR&MR设备都是基于光波导或波导
系统,结合微
结构来耦合光的输入和输出。VirtualLab Fusion能够通过应用我们独特的
物理光学方法对此类设备进行详细建模,包括所有效应(例如相干、偏振和
衍射)。我们通过对专利WO2018/178626中提到的设备进行建模来证明这一能力,该设备由复杂的一维和二维菱形
光栅结构组成。
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AF g* ^a4 y+! 建模任务:专利WO2018/178626 @%q0fj8b Z"<aS&GH
X2hV)8Sk (9]`3^_,J 任务描述 *
xdS< ^} P|L
b*S:wfw *|h-iA+9 光波导元件 n*(Vf'k Adp:O"-H1o 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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tobM 光波导结构 rC
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Sh( 使用光波导组件,可以轻松定义具有复杂形状区域的系统。此外,这些区域可以配备理想的或真实的光栅结构,以充当入射耦合器、出耦合器或出瞳扩展器。
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光栅#1:一维倾斜周期光栅 pMnkh}Q# FZ'|z8Dm 6AV@O 几何布局展示了2个光栅:
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flDe*F^ •光栅1耦合器:层状(一维周期性),例如倾斜光栅
E:/G!1 •光栅2 EPE和输出耦合器:交叉光栅(二维周期,非正交)
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8##-fv] sN0S~}F+ 光栅#2:具有菱形轮廓的二维周期光栅 w=5 D>] rKEi1b fQ c%a1' 使用内置调制介质的具有倾斜脊的一维周期光栅结构。
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AB<|iJC ^*(*tS|M 可用
参数:
VL=. JwK •周期:400纳米
`(s&H8x# •z方向延伸(沿z轴的调制深度):400nm
F0h`>{1% •填充系数(非平行情况下底部或顶部):50%
)jkX&7x •倾斜角度:40º
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W FVx7 tUouO0_l G q%q x4 总结—元件 5u
+U^D x_Zi^ ] x<^+nTzN 具有非正交二维周期的菱形(菱形)光栅结构,通过定制接口实现。
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:xOne<@ 9qc<m'MZ 可用参数:
+oa\'.~? •周期(锥间方向):(461.88纳米,800纳米)
sXHrCU •调制深度:100nm
hTgWqp •填充系数:65%
zAT7^q^ •菱形网格的角度:30°
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0/{$5gy& Py2AnpYa 总结——元件 ~uqpF-. "|P8L|
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B \?We\y *12,MO>go 结果:系统中的光线 /ZC/yGdIS_ 9 0PF)U
\XDc{c] W(jXOgs+_ 结果:
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ODS8bD0!i h#_KO-#.[ 结果:场追迹 M0Eq
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_i@{:v fL3Px VirtualLab Fusion技术 3&H#LGoV$ "9mVBa|Q