摘要 "0Wi-52=V IMKyFp]h- o=t@83Fh5 对于许多
光学应用来说,抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构,这些结构受到自然界(如蛾眼)的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域,具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
-VqZw&" kK27hfsw 设计任务 g>m)|o' :2'y=t # F3-<F_4.w 连接建模技术:蛾眼结构 0W92Z@_GY G E=J Y *Kpk1 光栅阶数分析器 x)Y?kVw21" S'Hb5C2u ne]P -50 元件内场分析器:FMM q&/<~RC* ,g.*Mx`- 5`TbM 参数运行 i`m&X6)\j |[)k5nUQ| WR&>AOWAD 参数优化 BGtr= &Hq y$
L@!r/s g[oa'.*OB 模拟结果 f<14-R= m*Zq3j 通过计算器进行参考测量 $+ z3 E,~|-\b}h J`E,Xw>2 结构内的场 1JRM@ !x -6Y@_N "!V-@F$@N QKW\z aG 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 Nl 4,c[$C ?Uq;> iyA=d{S;V 初始解决方案 #1 的参数优化 fH-fEMyW !"v[\||1 rr@h9bak;g 最终设计 #1 的性能分析 ,Wv@D"4? !lVOZ% 初始解决方案 #2 的参数优化 J0ysZ] )8cb @N Uuxx^>"h\ 最终设计 #2 的性能分析 8t1XZ