摘要 j3$KYf`T} f5'+F-`N ]+J]}C]\d 对于许多
光学应用来说，抑制元件表面的反射是一个引人关注的问题。一种非常有趣的控制表面反射的方法是使用抗反射
纳米和微米
结构，这些结构受到自然界（如蛾眼）的启发。这些结构的特征尺寸处于亚
波长领域，具有独特的波长和
角度依赖性质。本文介绍了在
VirtualLab Fusion中分析和设计确定性抗反射结构的方法。
-1 fT2e AR&u9Y)I 设计任务 ,#s}nJ4 y M>c**9 $PNR ? 连接建模技术：蛾眼结构 :
G< 1 r l !c\ W4Zi?@L>' 光栅阶数分析器 ^ G5 _d"Gr _m;Y ' qg+ 8i9Y! 元件内场分析器：FMM N8:vn0ww y%43w4 (d@lG* K 参数运行 [7$. )}Q- 4SmhtC e5MX5 T^ 参数优化 ,b 2Cl[ Dk/;`sXV ZE4~rq/W 模拟结果 3.
Kh zxXm9z rLo 通过计算器进行参考测量 -$t#AYKz _8kZ>w( L &d=j_9 结构内的场 U ^[<G6<9] ga VWfG 9= Y-w s }VdohX- 在参数空间中扫描以获取初始解决方案 tZwZZ0]Z S$ dFz ]r{y+g| 初始解决方案 #1 的参数优化 , LX] ,{7Z OzA v-EcJj % 最终设计 #1 的性能分析 Ee d2`~ iq=<LOx 初始解决方案 #2 的参数优化 o[0Cv* eA4@)6W P( u05Zg*.[ 最终设计 #2 的性能分析 3
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