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Fh/ psd Y <`X$ 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
]UkqPtG; Uw]o9 e0S 元件内部场分析仪：FMM `z`=!1 Ey.%:
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hrp? 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
P v=]7> e p1[|5r5Day 评估模式的选择 j<QK1d17 )gz]F_ g:.LCF 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
Pc`)D:/}R E@%1HO_ 评价区域的选择 vT MCZ+^g L8f_^
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03A QB;. n^rbc ;} 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
#S] O|$&* G O"E>FyB 不同光栅结构的场分布 M?Fv'YE fT{jD_Q+3 任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子：
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tKeozV[V Unansk 光栅结构的采样 @ Z7s3b V3 T.EW 虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但
系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。
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UV</Nx)3 !]9qQ7+R% 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
kyZZ 0 YE:5'@Z 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
bdvpH DA &|h9L' mr 82V;J 8T? 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） -<AGCiLz 
