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    [技术]元件内部场分析仪:FMM [复制链接]

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    摘要 })yb   
    u0$5Fd&X  
    %Tm' aY"  
    S+E3;' H  
    元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 `b,g2XA  
    =,} !Ns{k  
    元件内部场分析仪:FMM 36D,el In  
    -^SD6l$  
    8)Bn?6.  
    元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。  =}1~~  
    a} Iz  
    评估模式的选择 "MVN /Gl  
      
    _|2";.1E  
    5E!|on  
    为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 5tbiNm^X  
    r%?}5"*  
    评价区域的选择 =*O9)$b  
       @o-evH;G  
    @rDv (W  
    wE=8jl*  
    元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 l.t.,:  
    ?)ZLxLV::  
    不同光栅结构的场分布 rBL_]\$7}  
    7[VCCI g  
    任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: BtDgv.;GH  
    { N8rZ[Oo  
    lVK F^-i  
    光栅结构的采样 >5YYij5Aj  
    d`rDEa  
    虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 !-Tmu  
    9= ;g4I  
    W71#NjM2Z  
    :r[-7 [/  
    分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 4?6'~G$k  
    "\P~Re"EH  
    光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 fTnyCaB  
    Mdq'> <ajL  
    O"w_sw  
    输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) Tlv|To  
    Ymh2qGcj]8  
    % w/1Uo24  
    对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像 _O'rZ5}&  
    nHL>}Yg  
    输出数据的采样:二维周期光栅 E?W!.hbA  
    y#SD-# I-  
    当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
    w+ )GM  
     
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