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    [技术]元件内部场分析仪:FMM [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2024-01-03
    摘要 #})Oz| c  
    [y}/QPR  
    ?LgR8/Io@5  
    b>E%&sf  
    元件内部场分析器:FMM允许用户可视化和研究微结构纳米结构内部的电磁场分布。为此,使用傅立叶模态法/严格耦合波分析(FMM/RCWA)计算周期性结构(透射或反射、电介质或金属)内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化:正向模式、反向模式或两者同时显示。 MLY19;e  
    &d`Umm]  
    元件内部场分析仪:FMM ADA%$NhJ!  
    j2lo~J)  
    )V JAs|  
    元件内部场分析器:FMM是光栅光学装置的独有功能,可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 UA{sUj+?  
    [6 wI22  
    评估模式的选择  ?1r@r  
      
    '0X!_w6W  
    xC`Hm?kM  
    为了更容易地区分入射场、反射场和透射场,可以仅评估正向或反向传播模式,或者评估两者的总和。 'LFHZ&-  
    Xn"n5 =M  
    评价区域的选择 n0U^gsD4J  
       swG^L$r`  
    >NB}Bc  
    a\vf{2  
    元件内部场分析器:FMM可以输出整个元件(包括基板)内部的场,或者只输出一个堆栈或基块(基板)中的场。 G#5Cyu<r!  
    /`hr)  
    不同光栅结构的场分布 Q6,rY(b6  
    ixBM>mRK  
    任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子: tzi+A;>c(v  
    BArsj  
    \q Q5x  
    光栅结构的采样 vKAHf;1  
    Jkpw8E7  
    虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项,但系统中定义的光栅表面必须正确采样(例如,分解点和过渡点的层数足够)。 pW:h\}%`n  
    f Otrn  
    FO_nS   
    KwPJ0 ]('_  
    分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 'e3y|  
    )g:UH Ns  
    光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛,即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如,如果层分解过于粗糙,则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 2-llT  
    Qu!\Cx@  
    |rdG+ >  
    输出数据的采样:一维周期光栅(Lamellar) z(.$>O&6H  
    G&D N'bp  
    <B`}18x  
    对于1D周期性(片状)光栅,分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像 -/x +M-X#  
    m8 0+b8b  
    输出数据的采样:二维周期光栅 "1%<IqpU+  
    dadOjl)S)  
    当分析的光栅设置为2D Periodic时,Field Inside Component Analyzer:FMM将通过结构生成一系列二元截面,z方向的采样参数决定执行的切割次数。
    PC\Xm,,  
     
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