[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 LY7'wONx  
V@F~Cx  

图片:1-231212162159159.png

KpWQ;3D2  
sBh|y F,  
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 }Q*8QV  
awUIYAgJ3  
元件内部场分析仪：FMM MCvjdc3:  
Ood&cP'c  
#'8E%4  
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
dPS}\&1  
y3lsAe#  
评估模式的选择 %NKf@If)  
   a`}HFHm\2,  
"&An9H'  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 :Q89j4,  
UGIyNMY  
评价区域的选择 TB9ukLG^<<  
   >qOhzbAH{<  

图片:1-23121216263M27.png

yzYPT}t  
9G&l{7=  
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 3.Y/ZWON  
tjGQ0-Lo  
不同光栅结构的场分布 m}k rG  
n-uoY<;hp  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： yB&s2J  
6j0!$q^  
Nt/>RCh  
光栅结构的采样 SH"O<cDp  
1^vN?#Kt  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 ~qRP.bV%f  
]R(=)  

图片:1-231212162P94N.png

0^4Tem@  
r@ ]{`qA  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 }oU0J  
lbMb  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 a *>$6H;  
v]BN.SHE_  
$Z #  
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） -(P"+g3T  
C"K(-/  
Y*0mC"n}  
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 5G|(od3  
XfharJ_b  
输出数据的采样：二维周期光栅 A^xDAxk  
0I1bY]*  
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 c<|;<8ew