[技术]元件内部场分析仪：FMM [复制链接]

摘要 fpK`
 
S.kFs{;1x  

图片:1-231212162159159.png

^"?b!=n!  
raPUx_$PH  
元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微结构和纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。 iTq~^9G  
NXyuv7%5=  
元件内部场分析仪：FMM D@yuldx'/  
Q, !b  
Gr a(DGX  
元件内部场分析器：FMM是光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。 ^"Nsb&  
rH<iUiA?O  
评估模式的选择 ErDt~FH  
   Mi5"XQ>/  
7:_\t!]  
为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。 G$buZspL'd  
s3LR6Z7;i  
评价区域的选择 ]&D;'),   
   tt7l%olw  

图片:1-23121216263M27.png

5E#koy7 $s  
6c/Tm0[  
元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。 ;_^"}  
B?xu
!B,  
不同光栅结构的场分布 t/baze;V  
%Jr6pmc  
任意形状的光栅结构可以通过元件内部场分析仪进行分析。以下是几个例子： ]GS@ub  
X[cSmkp7  
vG<JOxP  
光栅结构的采样 [@qUQ,Ie  
]v^;]0vcr  
虽然分析仪为输出数据提供了一些采样选项，但系统中定义的光栅表面必须正确采样（例如，分解点和过渡点的层数足够）。 NNQro)Lpe  
Hkv4t5F  

图片:1-231212162P94N.png

-pRyN]YD  
B0:[3@P7  
分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。 "lp),  
mYudUn4Wo  
光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。 g8{?;  
;5P>R[p  
4^KoHeM6  
输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） hOX$|0i  
jnK8 [och  
USnKj_e  
对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的参数生成2D横截面图像。 gJVakR&  
_cZ`7]Z  
输出数据的采样：二维周期光栅 I]`>m3SJ  
^;2dZgJ4^  
当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。 {
)t6DH#