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8Pl+yiB/o` Xp<A@2wt? 元件内部场分析器：FMM允许用户可视化和研究微
结构和
纳米结构内部的电磁场分布。为此，使用傅立叶模态法/严格耦合波分析（FMM/RCWA）计算周期性结构（透射或反射、电介质或金属）内部的场。还可以指定场的哪一部分应该可视化：正向模式、反向模式或两者同时显示。
jsK|D{m? Kx(76_XD 元件内部场分析仪：FMM \7OJN
~&< |iLx $P6 hr )+Pk 元件内部场分析器：FMM是
光栅光学装置的独有功能，可提供光栅结构内部电磁场的可视化。
UrD=|-r` !D.= 'V 评估模式的选择 $.suu^> ^w J3]qg.B%z EqNz L* E 为了更容易地区分入射场、反射场和透射场，可以仅评估正向或反向传播模式，或者评估两者的总和。
RT8 _@8 BK`Q)[ 评价区域的选择 ]%cHm4#m3 ,v$2'm)V 
GFASF,+ >o0&:h|>$' 元件内部场分析器：FMM可以输出整个元件（包括基板）内部的场，或者只输出一个堆栈或基块（基板）中的场。
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yP<:iCY +[ZMrTW!0C 分解预览展示了如何根据当前采样因子对光栅结构进行采样。
LoV*YSDAY -Z/6;2Q 光栅结构的充分采样意味着已经实现了收敛，即进一步增加采样不会显著影响产生的场。例如，如果层分解过于粗糙，则可能会由于纵断面中的大台阶而产生其他影响。
N$ qNe'b ;*j6d3E VAF:Z 输出数据的采样：一维周期光栅（Lamellar） ki*79d"$ Y|x6g(b [X$|dOm'N 对于1D周期性（片状）光栅，分析仪使用对话框“采样”部分中指定的
参数生成2D横截面
图像。
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tT o;q 输出数据的采样：二维周期光栅 !Wdt:MUI8 [6/%V>EM 当分析的光栅设置为2D Periodic时，Field Inside Component Analyzer：FMM将通过结构生成一系列二元截面，z方向的采样参数决定执行的切割次数。
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