RNsJ!or 内容简介
69[w/\ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
?m`R%>X" 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
I*%&)Hj~ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
]ZBgE\[ ,2Sv1v$ 讯技科技股份有限公司
q|m#IVc 2015年9月3日
<%T%NjNPQ 目录
tVK?VNW Preface 1
]g>T9,)l 内容简介 2
W\z L 目录 i
~0:$G?fz 1 引言 1
c1=;W$T(s 2 光学薄膜基础 2
m mw)C" 2.1 一般规则 2
JB: mbH 2.2 正交入射规则 3
6oe$)iV 2.3 斜入射规则 6
C&qDvvk 2.4 精确计算 7
X*D5y8< 2.5 相干性 8
~6pCOS} 2.6 参考文献 10
U*c{:K-C 3 Essential Macleod的快速预览 10
#0#V$AA> 4 Essential Macleod的特点 32
aa'0EU: 4.1 容量和局限性 33
!dYX2!lvT 4.2 程序在哪里? 33
]*t*/j;N 4.3 数据文件 35
u:p:*u_^I 4.4 设计规则 35
kY0g}o'< 4.5 材料数据库和
资料库 37
~j\;e 4.5.1材料损失 38
k,o=1I 4.5.1材料数据库和导入材料 39
H znI R 4.5.2 材料库 41
_r^G%Mvy| 4.5.3导出材料数据 43
4l#T_y 4.6 常用单位 43
X_EC:GU 4.7 插值和外推法 46
!~VR|n- 4.8 材料数据的平滑 50
&)/H?S;yN 4.9 更多光学常数模型 54
;nHo%`Zt 4.10 文档的一般编辑规则 55
0n =9TmE 4.11 撤销和重做 56
+5seT}h 4.12 设计文档 57
WL*W=( 4.10.1 公式 58
6='_+{
4.10.2 更多关于膜层厚度 59
z.\[Va$@l 4.10.3 沉积密度 59
Z{|.xg sY 4.10.4 平行和楔形介质 60
K{7S 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
Jh/M}%@| 4.10.4 性能 61
Vtc)/OH 4.10.5 保存设计和性能 64
cC(ubUR 4.10.6 默认设计 64
Q?I"J$]&L 4.11 图表 64
hBs>2u|z9 4.11.1 合并曲线图 67
1&>nL`E[3 4.11.2 自适应绘制 68
FcbA)7dD 4.11.3 动态绘图 68
~,3v<A[5Vi 4.11.4 3D绘图 69
WhVmycdv 4.12 导入和导出 73
R*c0NJF 4.12.1 剪贴板 73
M<|~MR 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
eUUD|U*b 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
vVvt
]h 4.13 背景 77
n?ZH2dI\0 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
h-)A?%Xt 4.15 生成Rugate 84
N!4xP.Ps 4.16 参考文献 91
>8{`q!=|~ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
v"?PhO/{= 5.1 Jobs 92
bQnwi?2 5.2 创建一个新Job(工作) 93
NiQc2\4% 5.3 输入材料 94
8b#Yd
5.4 设计数据文件夹 95
qjRiTIp9q 5.5 默认设计 95
)v$Cv|" 6 细化和合成 97
,uD*FSp> 6.1 优化介绍 97
h"Yqm"U/ 6.2 细化 (Refinement) 98
+#*z"a` 6.3 合成 (Synthesis) 100
@_weMz8} 6.4 目标和评价函数 101
E'kQ 6.4.1 目标输入 102
N<i Vs 6.4.2 目标 103
Xrzh*sp 6.4.3 特殊的评价函数 104
RX<^MzCDV 6.5 层锁定和连接 104
(nZ=9+j]d 6.6 细化技术 104
TB3T:A>2 6.6.1 单纯形 105
cB"F1~z 6.6.1.1 单纯形
参数 106
0?*I_[Y 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
Q; /!oA_ 6.6.2.1 Optimac参数 108
Wg;TXs/ 6.6.3 模拟退火算法 109
3U.B[7fOM 6.6.3.1
模拟退火参数 109
nN]vu 6.6.4 共轭梯度 111
N?<@o2{ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
B7jlJqV 6.6.5 拟牛顿法 112
5FR#_}k]_F 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
"=RoI 6.6.6 针合成 113
$T%<'=u|E 6.6.6.1 针合成参数 114
fkUH]CdaB 6.6.7 差分进化 114
~v,KI["o 6.6.8非局部细化 115
4R^j"x
5 6.6.8.1非局部细化参数 115
rL+n$p
X- 6.7 我应该使用哪种技术? 116
"aO, 6.7.1 细化 116
u0H`%m 6.7.2 合成 117
m_U6"\n 5 6.8 参考文献 117
?g*T3S" 7 导纳图及其他工具 118
bb_jD^ 7.1 简介 118
PY:#F|uHS` 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
=}o>_+" 7.2.1 四分之一
波长规则 119
XGl13@=O 7.2.2 导纳图 120
pnw4QQ9 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
<cOE6;d# 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
(pK4i5lT 7.5 斜入射导纳图 141
4J$f @6 7.6 对称周期 141
r[4F?W 7.7 参考文献 142
+Y^F>/ 4=Y 8 典型的镀膜实例 143
Ip|^?uyrk 8.1 单层抗反射薄膜 145
ok_{8z\# 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
fQA)r 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
qJzK8eW 8.4 W-膜层 148
A;nmua-Fv 8.5 V-膜层 149
Mz.&d: 8.6 V-膜层高折射基底 150
Gqc6).tn 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
8GZjIW*0oq 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
jmzvp6N$8 8.9 四层抗反射薄膜 153
]4~D;mv 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
-6 Si 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
'>3RZ&O 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
d_qVk4h\ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
S_;:iC]B 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
qtQ:7WO 8.15十五层宽带抗反射膜 159
1mPS)X_ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
&rWJg6/ 8.17 1/4波长堆栈 162
nt`l6b 8.18 陷波滤波器 163
T.dO0$,Q@$ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
>-+X;0& 8.20 褶皱 165
@Iatlz*W 8.21 消偏振分光器1 169
fy4JW,c 8.22 消偏振分光器2 171
#_|^C(]! 8.23 消偏振立体分光器 172
SLB iQd. 8.24 消偏振截止滤光片 173
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