P +"Y 内容简介
PQKaqv}N Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
dC\ZjZZ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
@H>@[+S# 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
*'Y@3vKE %ek'~ 讯技科技股份有限公司
cRd0S*QN2 2015年9月3日
jn >d*9u 目录
$;M:TpX Preface 1
mGUO6>g 内容简介 2
,#d? _?/:O 目录 i
`LAR@a5i 1 引言 1
r_e7a6 2 光学薄膜基础 2
^EG\iO2X 2.1 一般规则 2
c gzwx 2.2 正交入射规则 3
km^^T_ M/ 2.3 斜入射规则 6
'Jf^`ZT} 2.4 精确计算 7
"<_0A f] 2.5 相干性 8
l\M_-:I+4 2.6 参考文献 10
^<e@uNGg 3 Essential Macleod的快速预览 10
%>-@K|:gS 4 Essential Macleod的特点 32
~8"8w(CG*I 4.1 容量和局限性 33
G7--v,R1x 4.2 程序在哪里? 33
7XKY]|S,' 4.3 数据文件 35
\0lnxLA 4.4 设计规则 35
pj4!:{.; 4.5 材料数据库和
资料库 37
Hqnxq 4.5.1材料损失 38
?Kvl!F!` 4.5.1材料数据库和导入材料 39
YEkh3FrbwH 4.5.2 材料库 41
^Q*atU 4.5.3导出材料数据 43
L-B<nl 4.6 常用单位 43
+w@M~?> 4.7 插值和外推法 46
s&\I=J. 4.8 材料数据的平滑 50
Y6,Rj:8 4.9 更多光学常数模型 54
1]IQg;q 4.10 文档的一般编辑规则 55
~4P%%b0,o 4.11 撤销和重做 56
I;Vu W 4.12 设计文档 57
pdJ/&ufh 4.10.1 公式 58
lWBb4 !l 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
bAKiq}xG%i 4.10.3 沉积密度 59
MlLb|!,)T 4.10.4 平行和楔形介质 60
|6=p{y 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
54
> - 4.10.4 性能 61
vad12WrG< 4.10.5 保存设计和性能 64
>.dWjb6t 4.10.6 默认设计 64
\J+* 4.11 图表 64
"4vy lHIo 4.11.1 合并曲线图 67
s
w39\urf 4.11.2 自适应绘制 68
J|'7_0OAx 4.11.3 动态绘图 68
G8Nt
8U~ 4.11.4 3D绘图 69
+w=AJdc 4.12 导入和导出 73
5M9 I, 4.12.1 剪贴板 73
u7?$b!hG^C 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
22f`LoM 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
[<'-yQ{l\ 4.13 背景 77
5@^ dgq 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
yHxosxd<* 4.15 生成Rugate 84
]4;PR("aU 4.16 参考文献 91
@+ atBmt 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
fN'HE#W1Xa 5.1 Jobs 92
gJ2>(k03y 5.2 创建一个新Job(工作) 93
N^B o
.U0\ 5.3 输入材料 94
]E] 2o 5.4 设计数据文件夹 95
E;<l(.Ar 5.5 默认设计 95
kOh{l: 2-+ 6 细化和合成 97
$.9{if#o& 6.1 优化介绍 97
)T;?^kho 6.2 细化 (Refinement) 98
6252N]* 6.3 合成 (Synthesis) 100
i hh/sPi 6.4 目标和评价函数 101
sZW^!z 6.4.1 目标输入 102
$H+VA@_ 6.4.2 目标 103
5uxBK"q 6.4.3 特殊的评价函数 104
e9Nk3Sj] 6.5 层锁定和连接 104
gn3jy^5 6.6 细化技术 104
meOMq1 6.6.1 单纯形 105
Zh_|m#) 6.6.1.1 单纯形
参数 106
JPGzrEaZ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
271&i 6.6.2.1 Optimac参数 108
-!c"k}N= 6.6.3 模拟退火算法 109
qIld;v8w"g 6.6.3.1
模拟退火参数 109
msVOH%wH 6.6.4 共轭梯度 111
26xXl|I 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
i86>] 6.6.5 拟牛顿法 112
[,TkFbDq"J 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
{J^lX/D 6.6.6 针合成 113
V*W;OiE_3 6.6.6.1 针合成参数 114
lkBdl#]9 6.6.7 差分进化 114
/%Nr?V 6.6.8非局部细化 115
hGiz)v~ 6.6.8.1非局部细化参数 115
H<^/Ati,| 6.7 我应该使用哪种技术? 116
.l@xsJn 6.7.1 细化 116
|Pg@M 6.7.2 合成 117
Offu9`DiZ 6.8 参考文献 117
1&e} ms 7 导纳图及其他工具 118
qu|B4?Y/CR 7.1 简介 118
,Jd
',>3 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
D}vmwg@3 7.2.1 四分之一
波长规则 119
A]XZnQ 7.2.2 导纳图 120
QcgfBsv96 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
y
K"kEA[; 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
q`pP$i: 7.5 斜入射导纳图 141
)KP5WudX 7.6 对称周期 141
_)\c&.p]f 7.7 参考文献 142
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