#!,tId 内容简介
k _)H$* Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
lNtZd?=> 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
_<?lP$Xr 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
a0y7a/@c 'Wv=mBEfZ 讯技科技股份有限公司
Z!Y ^iN 2015年9月3日
'5V2{k$4U 目录
2=pVX Preface 1
cwK6$Ax 内容简介 2
=;(w Bj 目录 i
KNtsz[#b 1 引言 1
b[<Q_7~2 2 光学薄膜基础 2
*M*:3v
0 2.1 一般规则 2
s_} 1J,Y 2.2 正交入射规则 3
D'y/pv}! 2.3 斜入射规则 6
E}S)uI,gn 2.4 精确计算 7
Y
}*[Krw 2.5 相干性 8
F?]nPb| 2.6 参考文献 10
tWkD@w`Lnn 3 Essential Macleod的快速预览 10
[ Fid 4 Essential Macleod的特点 32
Gq4~9Tm)* 4.1 容量和局限性 33
+(d\`{A 4.2 程序在哪里? 33
jBexEdH
4.3 数据文件 35
Yc+0OBH[ 4.4 设计规则 35
y>zPsc, 4.5 材料数据库和
资料库 37
I~lX53D 4.5.1材料损失 38
I13nmI\ 4.5.1材料数据库和导入材料 39
wTBp=)1)f 4.5.2 材料库 41
E]PHO\f-m} 4.5.3导出材料数据 43
yw'b^D/ 4.6 常用单位 43
v%t "N 4.7 插值和外推法 46
}0Isi G 4.8 材料数据的平滑 50
S5R Q 4.9 更多光学常数模型 54
E7E>w#T5 4.10 文档的一般编辑规则 55
"y@B| 4.11 撤销和重做 56
\&6 4.12 设计文档 57
XjpFJ#T*$A 4.10.1 公式 58
3^kZydZCN 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
uZ mi 4.10.3 沉积密度 59
U#v??Sl 4.10.4 平行和楔形介质 60
lUXxpv1m 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
GJW>8*&&( 4.10.4 性能 61
9H5S@w[je 4.10.5 保存设计和性能 64
hz8Y2Ew 4.10.6 默认设计 64
B9;dX6c 4.11 图表 64
)]Xj"V2 4.11.1 合并曲线图 67
k?|l;6 4.11.2 自适应绘制 68
x6A*vP0nm) 4.11.3 动态绘图 68
yP\KIm! 4.11.4 3D绘图 69
4}B9y3W:v 4.12 导入和导出 73
OF^v;4u 4.12.1 剪贴板 73
E )D*~2o/ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
VZNMom,Wr 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
_uL{@( 4.13 背景 77
wPTXRq% 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
) &[S*g 4.15 生成Rugate 84
-~Kw~RX<( 4.16 参考文献 91
ES72yh] 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
1MI/:vy- 5.1 Jobs 92
/5:C$ik 5.2 创建一个新Job(工作) 93
ON~jt[ 5.3 输入材料 94
"`Q~rjc$2 5.4 设计数据文件夹 95
\4y7! 5.5 默认设计 95
3 A2X1V" 6 细化和合成 97
qX[a\HQa 6.1 优化介绍 97
>x0"gh 6.2 细化 (Refinement) 98
-AcLh0pc 6.3 合成 (Synthesis) 100
bY:A7.p7# 6.4 目标和评价函数 101
LU5e!bP 6.4.1 目标输入 102
9u";%5 4 6.4.2 目标 103
>h>X/a(=~ 6.4.3 特殊的评价函数 104
zSMNk AM 6.5 层锁定和连接 104
!P7&{I,e 6.6 细化技术 104
f Co- ony 6.6.1 单纯形 105
zJNiAc 6.6.1.1 单纯形
参数 106
Y3G$(+i8 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
w[@>k@= 6.6.2.1 Optimac参数 108
:JW!$?s8H 6.6.3 模拟退火算法 109
qCg`"/0 6.6.3.1
模拟退火参数 109
p$dVGvM( 6.6.4 共轭梯度 111
4;@|tC|u 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
86!"b 6.6.5 拟牛顿法 112
CHp`4 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
Gv(bD6Rz 6.6.6 针合成 113
t_1a.Jv 6.6.6.1 针合成参数 114
+grIw#j 6.6.7 差分进化 114
^Nl)ocHv! 6.6.8非局部细化 115
Dpp3]en. 6.6.8.1非局部细化参数 115
8:hUj>qx 6.7 我应该使用哪种技术? 116
U^<\'` 6.7.1 细化 116
=qH9<,p`H 6.7.2 合成 117
%O-RhB4q 6.8 参考文献 117
sU"D%G 7 导纳图及其他工具 118
6@kKr 7.1 简介 118
],vUW#6$N 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
9{bG @g 7.2.1 四分之一
波长规则 119
j&n][=PL 7.2.2 导纳图 120
0MDdcjqw 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
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