晶合“一种光刻工艺的仿真处理方法、装置、设备及介质”专利公布

最新评论

ttb2016 2023-12-04 22:43

改善在光刻工艺中出现的光阻凸起问题！

tassy 2023-12-04 23:53

可提升工艺的精准性和产品的质量。

unlogical 2023-12-05 02:56

不知道是用在多少精度的工艺上

phisfor 2023-12-05 07:01

好厉害好厉害

likaihit 2023-12-05 07:39

有具体的权利书

redplum 2023-12-05 07:40

很好的技术

liulin666 2023-12-05 08:21

晶合“一种光刻工艺的仿真处理方法、装置、设备及介质”

雨后无文 2023-12-05 08:30

提升了工艺的精准性和产品的质量 =eR#]d  

camelots 2023-12-05 08:33

D7v.Xq|   [3]h(D   改善在光刻工艺中出现的光阻凸起问题！

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*"$fH  

11yy 2023-12-05 08:39

提供一种光刻工艺的仿真处理方法、装置、设备及介质，其通过获取初始光强分布数据，并基于该数据通过调整散射条的宽度和/或光罩的透光率，以获得对应的中间光强分布数据。