晶合“一种光刻工艺的仿真处理方法、装置、设备及介质”专利公布

最新评论

lpl_xatu 2023-12-05 11:21

咱国内都有哪些公司在做光刻？ J`8>QMK^5  

personking 2023-12-05 16:00

这个有点牛逼了

wangjin001x 2023-12-05 16:37

晶合“一种光刻工艺的仿真处理方法、装置、设备及介质”专利公布

sac 2023-12-05 18:47

光刻工艺

3330634618 2023-12-05 19:04

据国家知识产权局公告，合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“一种光刻工艺的仿真处理方法、装置、设备及介质”，公开号CN117148689A，申请日期为2023年11月。

jeremiahchou 2023-12-05 19:24

专利摘要显示，本发明提供一种光刻工艺的仿真处理方法、装置、设备及介质，其通过获取初始光强分布数据，并基于该数据通过调整散射条的宽度和/或光罩的透光率，以获得对应的中间光强分布数据。接着，基于中间光强分布数据获取对应的目标宽度和目标透光率，从而将光刻工艺中的散射条宽度和/或光罩透光率调整至目标值，完成光刻工艺的仿真处理。该专利技术能够改善在光刻工艺中出现的光阻凸起问题，提升了工艺的精准性和产品的质量。

加油艾特我 2023-12-05 20:57

可以改善光刻工艺的光阻凸出问题，多点这种突破就好了 m6r )Z5}f  

chenming95 2023-12-05 23:09

晶合“一种光刻工艺的仿真处理方法、装置、设备及介质”专利公布

谭健 2023-12-06 14:35

好厉害好厉害