. 建模任务 u
mqKFM$ 1.1
模拟条件
hqWPf 模拟区域:0~10
2:/u2K 边界条件:Periodic
xrX?ZJ 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
G/%Ubi6% 单位长度:0.5
@C<d2f|8
?V6 %>RU ]#M/$?!]g2 1.2堆栈
结构 dd19z% 1O- E], 2. 建模过程 AAdD\%JZ 2.1设置模拟条件
$ #t|(\
"?`JA7~g lxCX-a`@p 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 bA0uGLc s|BX>1 hQP6@KIe) 2.3创建掩膜并生成多畴结构
*+NZQjl' ;4R=eI 3. 结果分析 _u`B3iG 3.1 指向矢分布和透过率
Sn+FV+D +i_'gDy$ okVp\RC 3.2所有畴的V-T曲线
.O;!W<Ef$ J]$er0`LY p9k4w%
~: 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
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