. 建模任务 Bk@_]a 1.1
模拟条件
Hf`&& 模拟区域:0~10
wE.@0 边界条件:Periodic
MXu+I,y* 偏移
角度:12°(Domain A),-12°(Domain B)
.*clY 单位长度:0.5
+L<w."WG
dnhpWVhn _3-,3ia 1.2堆栈
结构 kB!M[[t ~>wq;T:= 2. 建模过程 A`mf 8'nTG 2.1设置模拟条件
wMR[*I/
pQ6t]DJ4 o2t@-dNi 2.2创建堆栈结构,修改各层
参数 ABS
BtH ? 34&$_0zn WLA_YMlA 2.3创建掩膜并生成多畴结构
/E1c#@ ::h02,y;1% 3. 结果分析 vU=k8 3.1 指向矢分布和透过率
j^R~ Lt4 ob()+p.k K P+h<{%:* 3.2所有畴的V-T曲线
aABE= 9Y eWt>^]H~ s(DaPhL6Qm 3.3不同电压透过率图,为了方便查看,对每一个电压下的图例范围都初始化,请注意图例颜色轴的范围
)SZ,J-H08w