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    [培训]衍射及微纳光学系统的分析、设计与加工技术 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-11-28
    时间地点: ' )0@J`  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 $}{[_2  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 A]TEs)#*7)  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 "T{WOGU+  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 ^C1LQ Z  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用)课程概要: 1Y*k"[?dW  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 pS |K[:5  
    :L@n(bu RN  
    !Ve0:$  
    w;yzgj:n&f  
    课程大纲: $y&W:  
    1.波动光学基础 f}"eN/T  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 <g%A2 lI  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 B{R[z%Y  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 B}[f]8jrM  
    2.衍射元件概述 |Q%P4S"B?  
    □ 衍射光学元件概念 ah hl  
    □ 衍射光学元件优点 C#nT@;VO5  
    □ 光束分束、整形、扩散  5{oc  
    □ 傅里叶变换 Zp3-Yo w2  
    □ 角谱理论 v@tEHRadz  
    □ 工作装置类型 U 7.kYu  
    3.衍射光学元件理念及设计 @fYVlHT%E  
    □ 基本理念 Ht4O5yl"  
    透镜和衍射光学元件的作用 :CW^$Zvq  
    □ 分束、整形和扩散的实质 Vy I\Jmr  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 Te L&6F$  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 g i6s+2  
    4.IFTA简介 n"T ^  
    □ 基本设计步骤 Bh' fkW3  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 KD ,3U/ 3  
    参数估算——周期和线宽的估算 'fl< ac,.  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 "A"YgD#t  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 \? )S {  
    5.衍射元件设计案例 0t%]z!  
    □ 衍射分束器参数选择 !IdVg$7  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 rAfz?  
    □ 衍射整形器参数选择 " Q?~LB  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 xws{"m,NX~  
    □ 衍射扩散器参数选择 :\P@c(c{^C  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 ~Ym _ {  
    6.光栅模拟分析 #jW-&a  
    □ 构建stack i7-~"g  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 OU/}cu  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 } LS8q  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 fMg9h9U  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 pQBn8H|Y  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 UjQz   
    7.光栅概述 \/YRhQ  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 n H?6o#]N  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 0|Fx Sc  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 Rtz~:v%  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 3\@2!:>  
    8.微纳光学元件制作 Hvm}@3F|  
    □ 多阶器件加工 V^ n6~O  
    □ 连续器件加工 `!Z?F]):G  
    □ 传统套刻法 b(GV4%  
    激光直写法 d-B+s%>D  
    □ 纳米光子器件制作概述 Kh\ 7%>K#  
    □ 衍射光学元件公差分析 &|{1Ws  
    9.答疑 {73V?#P4  
    对此课程感兴趣的小伙伴,可以扫码加微咨询联系 B#S8j18M  
     
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