摘要
J?"B%B5c O`IQ(,yef 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
uP)'FI u&Yz[)+b=g
dd %6t 8Z8gRcv{p 建模任务
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)4 e.k$X^ PbJ(:`u 入射平面波
?Jm^< 波长 2.08 nm
Cgk<pky1 光斑直径: 3mm
]nn98y+ 沿x方向线偏振
&AeX t%0VJB,Q2 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
@alK;\ 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
?=Z?6fw KxJ!,F{>H 概览
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Xg •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
Cw3a0u •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
J/y83@ ,q`\\d
Mq156TL 光线追迹模拟
D0-3eV- •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
zFfr.g;L •点击Go!
AlaW=leTe •获得3D光线追迹结果。
Cv.C;H e8a+2.!&\
R`qFg/S r(TIw%L$ 光线追迹模拟
NIry)'" •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
Rsm^Z!sn •单击Go!
&jJL"gq" •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
X'Xx"M q"lSZ;
'E
,?%Zc$\LW Ty?cC** 光场追迹模拟
)D7m,Wi+ •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
eF$x 1| •单击Go!
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x=P\qjSa P/eeC" 光场追迹结果(照相机探测器)
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HMm{4 •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
~TD0zAA& •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
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%J?xRv! @Cyvf5|bL 光场追迹结果(电磁场探测器)
1.GQau~ aeJHMHFc •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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