摘要
V15/~ a yYl3 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此,在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,并且可以深入了解矢量效应。
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~xLo0EV" %W}YtDf\ 建模任务
F/SYmNp R$h
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Tw,|ZA4XH iE0x7x P_ 入射平面波
\@[Y~: 波长 2.08 nm
Sx:JuK@ 光斑直径: 3mm
P5KpFL`B 沿x方向线偏振
P b-4$n2c E4$y|Ni" 如何进行整个
系统的光线追迹分析?
qTrM*/m:]L 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布?
5BJn_< .[r1Qz7G 概览
4|&_i)S-Y •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
U5
ia| V •接下来,我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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82)%`$yZw[ 光线追迹模拟
-x{@D{Q% •首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为模拟引擎。
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•点击Go!
5O(U1
* •获得3D光线追迹结果。
C{:U<q llN/
{%_D>y m\oxS;fxWi 光线追迹模拟
ekW#| •然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为模拟引擎。
O7]kcA •单击Go!
mlYkn •结果,获得点图(2D光线追迹结果)。
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Co,?<v=Ll :N!s@6 光场追迹模拟
jR9;<qT/ •切换到“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为模拟引擎。
7g5Pc_ •单击Go!
-_xTs(;|8 eiCmd
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Fh/psd |!81M|H 光场追迹结果(照相机探测器)
Y <`X$ L&KL]n •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
(}5};v •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度:由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。
e(?1`1 *k,{[b
O2":)zU. r $[{sW 光场追迹结果(电磁场探测器)
K8/jfm 'C=(?H)M •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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