摘要
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P 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
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F|*tNJU> ,5w]\z 建模任务
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O 4!9{ &=NJ 入射平面波
r&Q t_ 波长 2.08 nm
u GAh7Sop 光斑直径： 3mm
O]bKNA.5 沿x方向线偏振
^vW$XRnt N6q5`Ry 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
?S9Nm~vlt 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
wHWma)}-z ~QCA -Yud 概览
xU:4Y0y8 •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
OEI3eizgH •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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wonYm27f 光线追迹模拟
o X@nP?\ •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
yf?W^{^| •点击Go！
U3+A MVnB •获得3D光线追迹结果。
%",ULtZ+ C#h76fpH 
gw J}]Tf # '8)u)! 光线追迹模拟
a P_3C_ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
G:DSWW} •单击Go！
.*:h9AE7vo •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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qkX :jt CC>($k" 光场追迹模拟
Vf$1Sj w •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
i(P>Y2s •单击Go！
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cCk1'D|X[e I:HV6_/^-G 光场追迹结果（照相机探测器）
RyE_|]I62u }H; ]k-) •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
A( NEWO •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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T xu>/1N , Yx!n*+ :J 光场追迹结果（电磁场探测器）
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EFWo FbuKZp+ •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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