摘要
-xL^UcG0 7&3 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
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p&k%d, * \/F*JPhy 建模任务
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-
` {T ? 入射平面波
UM:]Qba In 波长 2.08 nm
^ 5rB/y, 光斑直径： 3mm
EHk$,bM 沿x方向线偏振
2U@:.S'K Q)2i{\GPVn 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
dQ= L<{( 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
e 5#?@}? cyBm,! 概览
/z`.- D( •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
KpC! C9 •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
xq& r|el Q#z U0K* ^ 
(Rh$0^)A 光线追迹模拟
W0XfU ` •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
Hq#q4Y •点击Go！
bMB*9<c~ •获得3D光线追迹结果。
G124 ! ^ X8y :=k,E 
m\G45%m F+)g!NQZ 光线追迹模拟
Egmp8:nZl@ •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
B["jndyr •单击Go！
ZC"a#rQ •结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
T'!p{Fbg; lP *p7Y ' 
W/<Lp+p Cs2k bG_ 光场追迹模拟
1>L8EImx]V •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
)zkr[;j~` •单击Go！
TeKU/&fkc z| |FmL{ 
ai"N;1/1O| iLQ;`/j 光场追迹结果（照相机探测器）
)v\ A8)[ CbFO9 q •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
|_ OoD9,M •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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光场追迹结果（电磁场探测器）
$B`ETI9g-N Cz6bD$5 •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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