摘要
^5Zka!'X2Z Dn)B19b 高
数值孔径物镜广泛用于
光学光刻、
显微镜等。因此，在
聚焦模拟中考虑光的矢量性质是非常重要的。 VirtualLab非常容易支持这种
镜头的
光线和光场追迹分析。 通过光场追迹，可以清楚地展示不对称焦斑，这源于矢量效应。 照
相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性，并且可以深入了解矢量效应。
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fel $_3 )m 建模任务
h$mGaw vZ~ *R}p9;dpO 
W[ R`],x` wrc1N?[bn 入射平面波
Fi/`3A@68 波长 2.08 nm
pedyWA> 光斑直径： 3mm
z%BX^b$Hj 沿x方向线偏振
Jd~M q9( &dPUd ~&EL 如何进行整个
系统的光线追迹分析？
Cn0s?3Fm 如何计算包含矢量效应的焦点的强度分布？
u{7->[= F"cZ$TL] 概览
;66{S'*[ •样品系统预设为包含高数值孔径物镜。
4V;-*: •接下来，我们将演示如何按照VirtualLab中推荐的工作流程对样本系统进行模拟。
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el\xMe^SY 光线追迹模拟
c> 3j $D+ •首先选择“光线追迹系统分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作为模拟引擎。
~! M" •点击Go！
re,}}' •获得3D光线追迹结果。
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5$=V D^a(|L3; 
qQIX:HWDKZ YI;MS:Q j 光线追迹模拟
qA[cF$CIl) •然后，选择“光线追迹”（Ray Tracing）作为模拟引擎。
)c?nh3D •单击Go！
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•结果，获得点图（2D光线追迹结果）。
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0fLd7*1> xj9xUun 光场追迹模拟
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mk##0E •切换到“第二代场追迹”（Field Tracing 2nd Generation）作为模拟引擎。
.|Y n[?( •单击Go！
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tv Zq):c oad /xbp@/ 光场追迹结果（照相机探测器）
u?rX:KkS a]Y9; ( •上图仅显示Ex和Ey场分量的强度。
s}yN_D+V •下图通过整合Ex、Ey和Ez分量显示强度：由于高数值孔径情况下相对较大的Ez分量，可以看到明显的不对称性。
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=d iGuI B }$sTnea 光场追迹结果（电磁场探测器）
x JnN95`R@ NTO.;S|2% •通过使用电磁场探测器获得所有电磁场分量。
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