tKo^A:M 内容简介
Od^y&$|_%` Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
yps7MM-r 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
:'f#0 ox 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
E3_e~yu& u#\=g: 讯技科技股份有限公司
4M6o+WV 2015年9月3日
xFHc+m' m~ 目录
Dsm_T1X Preface 1
oS/<)>\Gv 内容简介 2
z\oq b)a 目录 i
)|XmF4R 1 引言 1
l-XiQ#-{ 2 光学薄膜基础 2
n9050&_S 2.1 一般规则 2
E&#AX: 2.2 正交入射规则 3
{|^9y]VFu 2.3 斜入射规则 6
]N:SB 2.4 精确计算 7
?2
u_E " 2.5 相干性 8
?M;2H{KG: 2.6 参考文献 10
AVOzx00U 3 Essential Macleod的快速预览 10
f%an<>j^w 4 Essential Macleod的特点 32
TCX*$ac" 4.1 容量和局限性 33
f:B+R 4.2 程序在哪里? 33
E O52 E| 4.3 数据文件 35
.D-} 2<z 4.4 设计规则 35
iJZqAfG{m? 4.5 材料数据库和
资料库 37
zob^z@2 4.5.1材料损失 38
/wljbb/s 4.5.1材料数据库和导入材料 39
w[uK3A v 4.5.2 材料库 41
' 6Ybf 4.5.3导出材料数据 43
y"]?TEd 4.6 常用单位 43
6$4G&'J 4.7 插值和外推法 46
m_W\jz??k 4.8 材料数据的平滑 50
]-bA{@tP. 4.9 更多光学常数模型 54
Zuo7MR 4.10 文档的一般编辑规则 55
?NGM<nK;7 4.11 撤销和重做 56
]N*q3 y|) 4.12 设计文档 57
V.XHjHT 4.10.1 公式 58
N~;=*)_VH 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
[`Ol&R4k 4.10.3 沉积密度 59
ZC_b`q< 4.10.4 平行和楔形介质 60
=V5<>5"M? 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
I')URk[ 4.10.4 性能 61
2L[/.| 4.10.5 保存设计和性能 64
38L8AJqD 4.10.6 默认设计 64
%DqF_4U 9 4.11 图表 64
`pn]jpW9 4.11.1 合并曲线图 67
X)e6Y{vO 4.11.2 自适应绘制 68
U)=StpTT 4.11.3 动态绘图 68
L
Bb&av 4.11.4 3D绘图 69
z\pT nteO 4.12 导入和导出 73
^'lx5+- 4.12.1 剪贴板 73
(Q o 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
pD9*WKEf* 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
<T)9mJYr 4.13 背景 77
RgHPYf{ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
|qH -^b.F 4.15 生成Rugate 84
azr|Fz/ 4.16 参考文献 91
``nuw7\C: 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
(x@|6Sb 5.1 Jobs 92
RI!!?hYm 5.2 创建一个新Job(工作) 93
R(74Px,/ 5.3 输入材料 94
2oXsPrtZ 5.4 设计数据文件夹 95
Om0Z\GP= 5.5 默认设计 95
f$Nz).( 6 细化和合成 97
&{!FE`ZC_ 6.1 优化介绍 97
j5Vyo> 6.2 细化 (Refinement) 98
M`-#6,m3 6.3 合成 (Synthesis) 100
WNrgqyM 6.4 目标和评价函数 101
b6RuYwHWV0 6.4.1 目标输入 102
n[|&nv6x
6.4.2 目标 103
?[hIv6c 6.4.3 特殊的评价函数 104
"a6[FqTs 6.5 层锁定和连接 104
v(W$\XH 6.6 细化技术 104
w=
|).qQ] 6.6.1 单纯形 105
)'?3%$EM 6.6.1.1 单纯形
参数 106
T6=, A }t- 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
0UB)FK,9 6.6.2.1 Optimac参数 108
Di5eD,N 6.6.3 模拟退火算法 109
\hai 6.6.3.1
模拟退火参数 109
( n;# Z, 6.6.4 共轭梯度 111
#K.OJJaG 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
@Hw#O33/' 6.6.5 拟牛顿法 112
i^eU!^KF 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
X!ZUR^ 6.6.6 针合成 113
RZ#b)l 6.6.6.1 针合成参数 114
KhIg 6.6.7 差分进化 114
\XFF( 6.6.8非局部细化 115
X`/8fag 6.6.8.1非局部细化参数 115
}dQW-U 6.7 我应该使用哪种技术? 116
%JeT,{ 6.7.1 细化 116
V|e9G,z~A 6.7.2 合成 117
=+%QfuK 6.8 参考文献 117
m/Ou$ 7 导纳图及其他工具 118
JWoNP/v6 7.1 简介 118
as=Z_a:0N 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
62TWqQ!9d 7.2.1 四分之一
波长规则 119
&\#If: 7.2.2 导纳图 120
KV0M^B|W 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
X:+lD58 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
JnQ5r>!>3 7.5 斜入射导纳图 141
89e<,f`h 7.6 对称周期 141
lqh+yX%*
7.7 参考文献 142
`n7*6l<k~4 8 典型的镀膜实例 143
P /|2s 8.1 单层抗反射薄膜 145
A:Pp;9wl 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
@xIKYJyU 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
hC2 @Gq 8.4 W-膜层 148
2L Kpwz? 8.5 V-膜层 149
2XI%z4\)! 8.6 V-膜层高折射基底 150
=z`#n}v 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
d|#sgGM<8 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
`1k0wT( 8.9 四层抗反射薄膜 153
:ZX#w`Y 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
wXI6KN- 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
BQ!v\1'C 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
ncZ5r0 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
qp$Td<'Y 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
NrA?^F 8.15十五层宽带抗反射膜 159
V|[Y9<* 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
E>>@X^ = 8.17 1/4波长堆栈 162
7.U
CX" 8.18 陷波滤波器 163
tk=~b}8 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
;|7]%Z}% 8.20 褶皱 165
a^/j&9 8.21 消偏振分光器1 169
3"afrA 8.22 消偏振分光器2 171
U0>Uqk", 8.23 消偏振立体分光器 172
-=5]B ; 8.24 消偏振截止滤光片 173
.rpKSf. 8.25 立体偏振分束器1 174
BN\Y
N 8.26 立方偏振分束器2 177
PCKgdh}, 8.27 相位延迟器 178
{}x{OP 8.28 红外截止器 179
s.y wp{EF 8.29 21层长波带通滤波器 180
+9Vp<( 8.30 49层长波带通滤波器 181
:+u K1N 8.31 55层短波带通滤波器 182
tA;#yM; 8.32 47 红外截止器 183
k6.<