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    [培训]线下培训-衍射及微纳光学系统的分析、设计与加工技术 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-25
    时间地点 /?TR_>  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 T;PLUjp}  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 e$`hRZ%  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 NB.'>Sar  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 \&Bdi6xAy  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) -2 8bJ,  
    课程概要 , \RR@~u'  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 4HGS  
    8=0I4\  
    :B7U),T  
    2hryY  
    课程大纲 o Qo5y_o~  
    1.波动光学基础 })J}7@VPO  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 HN5,MD[  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 uNw9g<g:V[  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 $ O[Y  
    2.衍射元件概述 /?z3*x  
    □ 衍射光学元件概念 `(I$_RSE")  
    □ 衍射光学元件优点 Y"m(hs $  
    □ 光束分束、整形、扩散 6mIK[Qnp  
    □ 傅里叶变换 Jm< uE]9  
    □ 角谱理论 NN5Ejr,  
    □ 工作装置类型 qTMY]=(  
    3.衍射光学元件理念及设计 N|Xm{@C  
    □ 基本理念 fd>&RbUp  
    透镜和衍射光学元件的作用 Unb3 Gv#O  
    □ 分束、整形和扩散的实质 "Y- WY,H  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 *8)va  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 o?a3hD  
    4.IFTA简介 5nsoWqnE8  
    □ 基本设计步骤  j},i=v  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 ?0+g.,9  
    参数估算——周期和线宽的估算 Un T\6u  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 u3tT=5.D  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 \ a(ce?C  
    5.衍射元件设计案例 kBoQjOV`  
    □ 衍射分束器参数选择 ~gNFcJuy  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 uaU2D-ft"  
    □ 衍射整形器参数选择 fz2}M:u  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 #5'& |<  
    □ 衍射扩散器参数选择 3hUP>F8  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 1v,R<1)&  
    6.光栅模拟分析 D&~%w!  
    □ 构建stack $z 5kA9  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 M:iH7K  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 X:g#&e_  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 $ b53~  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 Np ru  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 X|ZAC!J5>  
    7.光栅概述 ;ny9q  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 N>]J$[j  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 lmL$0{Yr  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 i27)c)\BM  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等  jIH^  
    8.微纳光学元件制作 p?4[nS-,  
    □ 多阶器件加工 dh&> E  
    □ 连续器件加工 VYO1qj  
    □ 传统套刻法 \4C[<Gbx$(  
    激光直写法 U/|JAg #  
    □ 纳米光子器件制作概述 EUQtl_h/H  
    □ 衍射光学元件公差分析 o; U!{G(X  
    9.答疑 ;^E_BJm  
    对此课程有兴趣的可以扫码加微咨询 & 0WQF  
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