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    [培训]线下培训-衍射及微纳光学系统的分析、设计与加工技术 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-25
    时间地点 of >  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 [h>A<O  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 "*S_wN%  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 7W+{U0 2O  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 X_)I"`  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) fp`m>} -  
    课程概要 m:k;?p:x  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 :*R+ee,& -  
    G @]n(\7Y  
    PG @C5Rnu  
    l*Fp}d.  
    课程大纲 L+mHeS l  
    1.波动光学基础 O7od2fV(i7  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 uLfk>&hc  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 &V%faa1  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 F^lau f  
    2.衍射元件概述 yNG|YB;  
    □ 衍射光学元件概念 iQgr8[ SFf  
    □ 衍射光学元件优点 BQv*8Hg B6  
    □ 光束分束、整形、扩散 .x}xa  
    □ 傅里叶变换 &o&}5Aba9  
    □ 角谱理论 H> n;[  
    □ 工作装置类型 !<F5W <V  
    3.衍射光学元件理念及设计 dZddo z_  
    □ 基本理念 ) bd`U  
    透镜和衍射光学元件的作用 Q91mCP~$  
    □ 分束、整形和扩散的实质 .eCUvX`$  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 }0>\%C  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 o*[[nK*fL  
    4.IFTA简介 &KV$x3  
    □ 基本设计步骤 L"uidd0(g  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 @udc/J$  
    参数估算——周期和线宽的估算 6aWNLJ@  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 ~| oB|>  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 \ >#y*W<  
    5.衍射元件设计案例 5!57<n  
    □ 衍射分束器参数选择 cet|k!   
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 fF5\\_,  
    □ 衍射整形器参数选择 hn$jI5*`  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 E};1 H  
    □ 衍射扩散器参数选择 7{VN27Fa_  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 R[#B|$  
    6.光栅模拟分析 Shss};QZf(  
    □ 构建stack roIc1Ax:  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 Z5*O\kJv  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 ~F;>4q   
    □ 2D光栅表面镀膜分析 eMP0BS"  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 YdYaLTz  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 @-ir  
    7.光栅概述 \=(U tro  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 }!WuJz"  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 X1Kze  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 ;9)=~)  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 /1hcw|cfC  
    8.微纳光学元件制作 >/.Ae8I)  
    □ 多阶器件加工 N`vPt?@  
    □ 连续器件加工 Pb7-pu5 X  
    □ 传统套刻法 )>pIAYCVP  
    激光直写法 uK[gI6M  
    □ 纳米光子器件制作概述 l HZ4N{n  
    □ 衍射光学元件公差分析 o%h[o9i  
    9.答疑 +1eb@b X  
    对此课程有兴趣的可以扫码加微咨询 Xx^v%[!`+  
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