1. 摘要
v1oq[+ U_K"JOZ 高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
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NhU~'k +? E~F 2. 建模任务
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<v>^#/.0 !D!~4h) 3. 概述
;}@.E@s%' F>dB@V- 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 c>6dlWTqX 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
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lmi,P-Q LP-~; 4. 光线追迹仿真
T~8= =Z{[ 4>-'w MW") 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
:PE{2* 点击“Go!”。
'y[74?1 随即获得3D光线追迹结果
#>iBu:\J @.0>gmY;:
_~/F- zo6|1xq 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
* ?x$q/a 点击“Go!”。
S81%iz.n 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
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t(AW2{%} 5. 场追迹仿真
ABb,]% |;sL*Vr 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
zisf8x7^W 点击“Go!”。
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>Q3_-yY+ d9e_slx 6. 场追迹结果(相机探测器)
QxS]6hA =z^2KH 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
#{K}o} 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
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\kWL:uU 7. 场追迹结果(电磁场探测器)
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+Fak 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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