1. 摘要
& =vi]z:[ `XbV*{7 高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
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d!q)FRzi HG})VPBa 2. 建模任务
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g*:f#u5 W#<ZaGsq 3. 概述
J,wpY$93 If. hA} 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 ]3yaIlpD1 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
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N%QVkuCbM qznd'^[ 4. 光线追迹仿真
Aj2yAg lV<j?I~?Q 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
,O"zz7 点击“Go!”。
;jpsH?3g 随即获得3D光线追迹结果
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[,p[%Dza QW}N,j$ 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
cH\.-5NQ 点击“Go!”。
=wX(a 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
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UPJ3YpK 5. 场追迹仿真
|<1 '|l1-yD_ 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
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点击“Go!”。
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wloQk(T<W &p#.m"Oon 6. 场追迹结果(相机探测器)
YXhxzH hPd 2q.J1:lW 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
*J] }bX 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
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^iaG>rvA 7. 场追迹结果(电磁场探测器)
r5N.Qt8 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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