1. 摘要
3\T2?w9u( [ sd;`xk 高NA物镜广泛用于光刻,显微等技术。因此,聚焦
仿真中考虑光的矢量性质至关重要。
VirtualLab可以非常便捷地对此类
镜头进行
光线追迹和场追迹分析。通过场追迹,可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦
光斑失对称现象。利用
相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究,进而加深对矢量效应的理解。
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9&RFO$WH FI"`DMb} 2. 建模任务
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Mi~(aah sgE-`# 3. 概述
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02U 示例
系统包含了高数值
孔径物镜 r!
Ay:r 下一步,我们将阐述如何遵循VirtualLab中推荐的工作流程执行示例系统的仿真。
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HHqwq.zIy I(=V}s2 4. 光线追迹仿真
DWdW, xG /c):}PJ^#7 首先,选择“Ray Tracing System Analyzer”作为仿真引擎。
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点击“Go!”。
XD"_Iq! 随即获得3D光线追迹结果
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}f9JNf$ 然后,选择“Ray Tracing”作为仿真引擎。
.xBu-?6s6 点击“Go!”。
uYr fm:4S 随即获得点列图(2D光线追迹结果)。
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$['Bv 5. 场追迹仿真
Z4IgBn(Z_} }^B6yWUN 转换到场追迹,并选择“Field Tracing 2nd Generation”作为仿真引擎。
LkQX?2>] 点击“Go!”。
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imiR/V>N ZoArQ(YFy 6. 场追迹结果(相机探测器)
+VQ\mA59 trE{ FT 上图所示为仅通过叠加Ex和Ey场分量得到的强度分布。
KN-avu_Ix 下图所示为通过叠加Ex,Ey和Ez分量得到的强度分布:由于在高NA条件下相对较大Ez分量,导致聚焦光斑明显的失对称性。
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qS 7. 场追迹结果(电磁场探测器)
[V:\\$ 利用电磁场探测器,我们可以获得多有电磁场分量的结果
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