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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 =Ti!9_~  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 fb Bu^]^S  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 Mg >%EH/'  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 4(8c L?J`0  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 .1(_7!m@  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) &5}YTKe}|  
    课程概要 =1Plu5  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 %XR(K@V  
    kB+$Kt<]L  
    {?Slo5X|  
    SY95s  
    课程大纲 _J*l,]}S  
    1.波动光学基础 A}"|_ &E  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 nLL2/!'n  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 "%K'~"S#Q,  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 #-%D(=&I  
    2.衍射元件概述 +<$(ez  
    □ 衍射光学元件概念 ;9~YQW@|  
    □ 衍射光学元件优点 qFVZhBC  
    □ 光束分束、整形、扩散 27}:f?2hbJ  
    □ 傅里叶变换  x,: k/]  
    □ 角谱理论 Cuylozj$&  
    □ 工作装置类型 y/@Bhzc  
    3.衍射光学元件理念及设计 oW OR7)?r  
    □ 基本理念 *BxU5)O  
    透镜和衍射光学元件的作用 vdXi'<  
    □ 分束、整形和扩散的实质 +:Xg7H*  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 O:v#M]   
    □ 衍射光学元件优化设计方法 J"#6m&R_q  
    4.IFTA简介 '*[7O2\%/  
    □ 基本设计步骤 WiH8j$;xu  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 A}! A*z<9  
    参数估算——周期和线宽的估算 8K^#$,.."  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 >07i"a  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 WiZkIZ  
    5.衍射元件设计案例 P|1  D6  
    □ 衍射分束器参数选择 / 1TK+E$  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 iwIn3R,  
    □ 衍射整形器参数选择 ys!O"=OJ  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 ?taC !{  
    □ 衍射扩散器参数选择 9t`yv@.>N  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 lB2 F09`  
    6.光栅模拟分析 FoE}j   
    □ 构建stack YS4"TOFw  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 PL"=>  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 2cu2S"r  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 zM8 jjB  
    *s, bz.[  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 Lww&[|k.  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 l_2Xao$  
    7.光栅概述 m, +E5^  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 t .&JPTK-H  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 Cm5L99Y  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 /0`Eux\  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 W rT_7  
    8.微纳光学元件制作 @@a#DjE%/  
    □ 多阶器件加工 "4KyJ;RA*  
    □ 连续器件加工 V6>{k_0{V  
    □ 传统套刻法  "X=^MGV  
    激光直写法 /g0' +DP  
    □ 纳米光子器件制作概述 e`B!)Sr  
    □ 衍射光学元件公差分析 'xEomo#  
    9.答疑 s o: o b}  
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