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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 hHqh{:q{v  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 jqr1V_3(  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 K't]n{$  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Mi~(aah  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 sg E-`#  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) 5SkW-+$  
    课程概要 iAa;6mH  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 eAPXWWAZJ1  
    )Ud-}* g  
    $%VuSrZ&  
     |W<+U  
    课程大纲 3> /K0N|$  
    1.波动光学基础 $=?@*p  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 Vf(6!iRP@  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 C"IKt  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 nC{%quwh{  
    2.衍射元件概述 0a"igq9t  
    □ 衍射光学元件概念 02BuX]_0g  
    □ 衍射光学元件优点 wf1lyS  
    □ 光束分束、整形、扩散 b,8{ X<  
    □ 傅里叶变换 Q]p(u\*  
    □ 角谱理论 4Vq%N  
    □ 工作装置类型 vFEQ7 qI  
    3.衍射光学元件理念及设计 \c^45<G2qA  
    □ 基本理念 V`@>MOw^d  
    透镜和衍射光学元件的作用 gk`zA  
    □ 分束、整形和扩散的实质 I@\OaUGr+  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 %/updw#{B  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 JmEj{K<3I  
    4.IFTA简介 l3 DYg  
    □ 基本设计步骤 Xy%p"b<  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 KD^N)&k^Kp  
    参数估算——周期和线宽的估算 1yqJwy;X  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 O#Wh TDF"  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 &>H!}"Yk  
    5.衍射元件设计案例 <]G]W/eB'  
    □ 衍射分束器参数选择 %u;~kP|S%  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 ,]T2$?|  
    □ 衍射整形器参数选择 XV^1tX>f{  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 SM@QUAXO  
    □ 衍射扩散器参数选择 tnLAJ+ -M  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 LY+|[qka  
    6.光栅模拟分析 >3&O::]3  
    □ 构建stack "O(9m.CZ  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 `=7j$#6U  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 jv&!Kw.Ug  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 ;qBu4'C)T  
    ]5%/3P,/  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 8mQmi`  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 bu51$s?B  
    7.光栅概述 \(%Y%?dy  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 B-l'vVx  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 IIyI=Wl pG  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 6S~sVUL9`  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 yeHDa+}  
    8.微纳光学元件制作 @}kv-*  
    □ 多阶器件加工 V <bd;m  
    □ 连续器件加工 zz& ?{vJ  
    □ 传统套刻法 Gm\/Y:U  
    激光直写法 D.mHIsX6\  
    □ 纳米光子器件制作概述 _2N$LLbg  
    □ 衍射光学元件公差分析 O eL}EVs8=  
    9.答疑 Onwp-!!.  
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