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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 w>~M}Ahj  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 d @rs3Q1z  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 ^~ L}<]  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 .gYt0raSY  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 RB3 zHk%  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) ]re'LC!d  
    课程概要 eXy"^x p^  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 @%W]".*'}  
    &:#m&,tQ  
    \3PE+$  
    7!2 HNg  
    课程大纲 W8aU "_  
    1.波动光学基础 KAb(NZK  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 _ 6:ww/  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 x0Bw{>Q  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 MTmO>V&O  
    2.衍射元件概述 4#Eul  
    □ 衍射光学元件概念 YU\Gj S~>&  
    □ 衍射光学元件优点 Fh`-(,e?5  
    □ 光束分束、整形、扩散 &(O06QL  
    □ 傅里叶变换 eoJ]4-WFq  
    □ 角谱理论 $A?}a  
    □ 工作装置类型 ~Fx&)kegTo  
    3.衍射光学元件理念及设计 JE)J<9gf  
    □ 基本理念  `$-lL"  
    透镜和衍射光学元件的作用 s)tpr   
    □ 分束、整形和扩散的实质 (2%>jg0M  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 .3g&9WvN!Z  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 @)z*BmP  
    4.IFTA简介 N5\{yV21",  
    □ 基本设计步骤 BE%Z\E[[m  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 :r39wFi  
    参数估算——周期和线宽的估算 g8Aj `O  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 6z]`7`G   
    □ 配置设计过程的优化评价函数 73pC  
    5.衍射元件设计案例 tDU}rI8?  
    □ 衍射分束器参数选择 Nu+wL>t  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 (j=DD6fC  
    □ 衍射整形器参数选择 *+~D+_,  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 l4Y1(  
    □ 衍射扩散器参数选择 x-4J/tm  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 +3HPA#A  
    6.光栅模拟分析 !5E9sk{)  
    □ 构建stack Q;@X2 JSp  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 9,KVBO  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 9C>ynH  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 X}?ESjZJ  
    R ^^ 1/%  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 ,W8au"  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 (L:`o jiU  
    7.光栅概述 RSFJu\0}N  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 -7,vtd[h  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 h^v9|~ZJ'7  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 bCt_y R  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 =E; #OZO  
    8.微纳光学元件制作 &R0OeRToUb  
    □ 多阶器件加工 ha5 bD%  
    □ 连续器件加工 Q{8qm<0g  
    □ 传统套刻法 =s6E/K  
    激光直写法 #,)P N @P  
    □ 纳米光子器件制作概述 ]}/mFY?7  
    □ 衍射光学元件公差分析 Ys)+9yPPn  
    9.答疑 (UXv,_"nU  
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