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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 n8ya$bc  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 K\r=MkA.>  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 ,;& PKY  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 [vT,zM  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 t`D@bzLC%  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) 7!r`DZ"yF  
    课程概要 U9OF0=g  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 L(rjjkH  
    P"VLGa  
    PQ|x?98  
    1T`"/*!  
    课程大纲 aB_z4dqwU  
    1.波动光学基础 f%l#g]]  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 jC7XdYp  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 XV!EjD~q  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 M_uij$1-  
    2.衍射元件概述 :S2MS{>Mo  
    □ 衍射光学元件概念 /! 3:K<6@  
    □ 衍射光学元件优点 c9={~  
    □ 光束分束、整形、扩散 )&-+:u0  
    □ 傅里叶变换 06O  
    □ 角谱理论 (9%%^s]uPT  
    □ 工作装置类型 zYJxoC{  
    3.衍射光学元件理念及设计 Fje%hcV  
    □ 基本理念 E':Z_ ^4  
    透镜和衍射光学元件的作用 a-=apD1RvG  
    □ 分束、整形和扩散的实质 :.^rWCL2  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 \rO>F E  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 2J <Z4Ap  
    4.IFTA简介 mY9K)]8  
    □ 基本设计步骤 tx-bzLo\  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 EeJ] > 1  
    参数估算——周期和线宽的估算 rKq]zHgpo  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 D.f=!rT7E7  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 B&D z(Bs  
    5.衍射元件设计案例 #nz$RJsX  
    □ 衍射分束器参数选择 JASn\z  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 }(6k7{,Gw,  
    □ 衍射整形器参数选择 g?sFmD  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 [?2mt`g  
    □ 衍射扩散器参数选择 aKO@_R,:  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 F*H}5yBp_:  
    6.光栅模拟分析 QkAwG[4  
    □ 构建stack sq$|Pad[  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 c^%k1pae(  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 &n wg$z{Y  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 c i>=45@J  
    <hdCO< 0(  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 gw^+[}U#  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 Qa+gtGtJ  
    7.光栅概述 MN4}y5  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 Y#,MFEd  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 ualtIHXK)  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 O'(vs"eN  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 hd' n"  
    8.微纳光学元件制作 4{pa`o3  
    □ 多阶器件加工 g<Xwk2_=g  
    □ 连续器件加工 g(^l>niF:  
    □ 传统套刻法 c#Bde-dh  
    激光直写法 5[k35 c{  
    □ 纳米光子器件制作概述 ?9cy5z[  
    □ 衍射光学元件公差分析 P8f-&(  
    9.答疑 y C#{nUdw  
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