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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 `l2h65\  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 CT?4A1[aD  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 ^ 6b27_=  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 |BBo  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 R =kXf/y  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) (T!#7  
    课程概要 nvB< pSm  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 DGbEQiX$\  
    y!8m7a  
    / %1-tGh  
    ZZM;%i-B  
    课程大纲 IY hwFw 5O  
    1.波动光学基础 _1G;!eO  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 b$q~(Z}  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 &'k:?@J[  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 KwNOB _  
    2.衍射元件概述 > -,$  
    □ 衍射光学元件概念 h0] bIT{  
    □ 衍射光学元件优点 U1Y0G[i)  
    □ 光束分束、整形、扩散 _Un*x5u2O  
    □ 傅里叶变换 GXi)3I%  
    □ 角谱理论 ~p?D[]h  
    □ 工作装置类型 3/y"kl:< -  
    3.衍射光学元件理念及设计 %/2OP &1<  
    □ 基本理念 .=N?;i  
    透镜和衍射光学元件的作用 :}-VLp4b  
    □ 分束、整形和扩散的实质 &o]fBdn  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 QtA@p  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 ?)gc;K  
    4.IFTA简介 [Lcy &+  
    □ 基本设计步骤 dDA,Ps  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 =)}Yw)  
    参数估算——周期和线宽的估算 WMS~Bk+!  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 z))rk vL%  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 %Z8wUG  
    5.衍射元件设计案例 +&r=XJ5:`p  
    □ 衍射分束器参数选择 LJA uTg  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 _7b4+ L  
    □ 衍射整形器参数选择 _yp<#q]  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 XMzQ8|]  
    □ 衍射扩散器参数选择 ?rY+,nQP  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 Yfx?3  
    6.光栅模拟分析 ~x[(1  
    □ 构建stack m=TZfa^r  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 j$<g8Bg=o  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 _FU}IfG>t  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 k*OHI/uiow  
    dt0(04  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 w\M"9T  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 [b3$em<^JV  
    7.光栅概述 e5D\m g)  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 O;$}j:;KF  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 1)5/a5  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 k(xB%>ns  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 ~Rx`:kQ  
    8.微纳光学元件制作 ~R\ $Z  
    □ 多阶器件加工 {N << JX  
    □ 连续器件加工 ixL[(*V  
    □ 传统套刻法 J\FLIw4  
    激光直写法 dGUiMix{N  
    □ 纳米光子器件制作概述 4b+_|kYb  
    □ 衍射光学元件公差分析 *to#ZMR;!  
    9.答疑 C)~%(< D  
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