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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 `1M_rG1/+  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 OK3B6T5w=  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 +n2x@ 0op  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 ,1^)JshZ~  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 WYEvW<Hv  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) ``aoLQc`  
    课程概要 Y<a/(`  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 oDKgW?x  
    )TRDM[u  
    ?em)om  
    mz9Kwxe  
    课程大纲 1D=My1B  
    1.波动光学基础 Q6Jb]>g\H  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 LT'#0dCC  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 IQ2<Pinv  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 F^`sIrZvs  
    2.衍射元件概述 b*P \a  
    □ 衍射光学元件概念 w:z_EV!&  
    □ 衍射光学元件优点 ~5p `Kg*  
    □ 光束分束、整形、扩散 G>#L  
    □ 傅里叶变换 z81I2?v[Jr  
    □ 角谱理论 My)}oN7\z  
    □ 工作装置类型 %\:.rs^  
    3.衍射光学元件理念及设计 4fP>;9[F  
    □ 基本理念 jWP(7}U  
    透镜和衍射光学元件的作用 %[NefA(  
    □ 分束、整形和扩散的实质 `pII-dSC%  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 >A2& Mjo  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 hrEKmRmF-  
    4.IFTA简介 W%vh7>.  
    □ 基本设计步骤 "uZ'oN  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 xu& v(C9  
    参数估算——周期和线宽的估算 N_/&xHw  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 v[ F_r  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 'e{e>>03  
    5.衍射元件设计案例 ;=B&t@  
    □ 衍射分束器参数选择 M}38uxP  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 i$%;z~#wW  
    □ 衍射整形器参数选择 7J$ ^R6rh  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 \%^<Ll  
    □ 衍射扩散器参数选择 K")-P9I6-f  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 U$0#j  
    6.光栅模拟分析 jZm1.{[>  
    □ 构建stack L$7v;R3  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 9%\q*  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 Z~$&h  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 tk1qgjE(?  
    !u4oo-  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 wond>m 3  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 {yspNyOx  
    7.光栅概述 mnu7Y([2>  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 CHBCi) '6h  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 ;y"E}h  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 o^DiIo or  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 27,WP-qie  
    8.微纳光学元件制作 <7^_M*F9  
    □ 多阶器件加工 ,YH^jc  
    □ 连续器件加工 =( Gv_  
    □ 传统套刻法 RJBNY;0  
    激光直写法 m0=CD  
    □ 纳米光子器件制作概述 \B2=E  
    □ 衍射光学元件公差分析 wXNFL9F8  
    9.答疑 I?F^c6M=  
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