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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 cT&lkS  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 .*W7Z8!e  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 !\Cu J5U  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 z/p^C~|}  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 ZnuRy:  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) *xj2Z,u  
    课程概要 7A$mZPKh  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 2#/sIu-L  
    ;K4uu<e \  
    TT#V'r\  
    d@b2XCh<K  
    课程大纲 B| M@o^Tf  
    1.波动光学基础 Dk2Zl  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 jJ'NYG  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 m*i,|{UZ  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 E7w^A  
    2.衍射元件概述 *1:kIi7_  
    □ 衍射光学元件概念 $GhL-sqm  
    □ 衍射光学元件优点 @$%.iQ7A;  
    □ 光束分束、整形、扩散 >f1fvv6  
    □ 傅里叶变换 %@ q2  
    □ 角谱理论 .vi0DuD6  
    □ 工作装置类型 fwUF5Y  
    3.衍射光学元件理念及设计 ^R(=4%8%"  
    □ 基本理念 z?UEn#E2  
    透镜和衍射光学元件的作用 1L?W+zMO  
    □ 分束、整形和扩散的实质 1r*@1y<0"  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 TXs&*\  
    □ 衍射光学元件优化设计方法  R; &k/v  
    4.IFTA简介 \~U:k4  
    □ 基本设计步骤 E4.A$/s8[  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 4 &:|h  1  
    参数估算——周期和线宽的估算 y;P%=M P  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 BXz g33  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 J?4dafkw  
    5.衍射元件设计案例 !#e+!h@  
    □ 衍射分束器参数选择 a`eb9o#  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 {Dy,u%W?  
    □ 衍射整形器参数选择 "st+2#{  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 g~9b_PY9  
    □ 衍射扩散器参数选择 ^bdXzjf  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 qn}VW0!  
    6.光栅模拟分析 h^14/L=|  
    □ 构建stack ;.R) uCd{=  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 mW,b#'hy  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 IfI:|w}:"r  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 E4_,EeC#  
    y T&#k1  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 vuJEPn%  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 z|(<Co8#.  
    7.光栅概述 8"V1h72vcW  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 7lwFxP5QT  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 Jv]$@>#  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 #nZPnc:  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 ]z# Ita;  
    8.微纳光学元件制作 Y\4B2:Qd9  
    □ 多阶器件加工 }"kF<gG1  
    □ 连续器件加工 X_,R!$wbg:  
    □ 传统套刻法 +4[9Eb'k=  
    激光直写法 >5 Y.  
    □ 纳米光子器件制作概述 Y^8'P /A  
    □ 衍射光学元件公差分析 "Rtt~["%  
    9.答疑 :j/sTO=  
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