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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 `ehZ(H}  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 Bc/'LI.%  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 6a+w/IO3OU  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 w/L^w50pt  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 1|?8g2Vf  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) nTJ-1A7EP  
    课程概要 n9;z=   
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 ii.L]#3y  
    62R9 4  
    eYER "E  
    Lv`*+;1 K  
    课程大纲 ,s%1#cbR  
    1.波动光学基础 a w0;  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 uN:|4/;{&  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 Wz}8O]#/.  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 .H M1c  
    2.衍射元件概述 uB(16|W>S  
    □ 衍射光学元件概念 Zy}Qc")Z  
    □ 衍射光学元件优点 RGeM.  
    □ 光束分束、整形、扩散 23lLoyN  
    □ 傅里叶变换 p)t1] <,Of  
    □ 角谱理论 9>t  
    □ 工作装置类型 a?zn>tx  
    3.衍射光学元件理念及设计 K+0&~XU  
    □ 基本理念 69 PTo  
    透镜和衍射光学元件的作用 c]#+W@$  
    □ 分束、整形和扩散的实质 YL)epi^  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 B8jSdlvz  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 wD|3Czc  
    4.IFTA简介 h,Y!d]2w  
    □ 基本设计步骤 W\'njN  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 .4M8  
    参数估算——周期和线宽的估算 *wgHa6?+7  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 WjyuaAWY  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 W+A-<Rh\  
    5.衍射元件设计案例 |H:JwxH  
    □ 衍射分束器参数选择 SIJ:[=5!7  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 =!axQ[)A  
    □ 衍射整形器参数选择 0WasE1t|  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 l7 +#gPA  
    □ 衍射扩散器参数选择 Q9(J$_:  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 1'skCR|!<  
    6.光栅模拟分析 7eQE[C  
    □ 构建stack ugtzF  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 y Iab3/#`  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 xW$F-n  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 R^}}-Dv r  
    \2?p  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 M18H1e@Al  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 H-?wEMi)*u  
    7.光栅概述 D;f[7Cac  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 =h?Q.vad  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 "4VC:"$f  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 .k{omr&Dy5  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 $jt  UQ1  
    8.微纳光学元件制作 a,o>E4#c  
    □ 多阶器件加工 0jS"PH?[  
    □ 连续器件加工 3Y\7+975m  
    □ 传统套刻法 q|E0Y   
    激光直写法 8+m[ %5lu  
    □ 纳米光子器件制作概述 '~dE0ohWb  
    □ 衍射光学元件公差分析 w#?@ulr]d  
    9.答疑 .U8Se+;  
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