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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 _l]`Og@Y  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 M iIH&z  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 BX$t |t;!m  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 l=*^FK]L`  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 NhQIpzL)  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) Ge$cV}  
    课程概要 Zzr+p.  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 +aRjJ/*  
    EB jiSQw  
    @<Au|l`  
    T.="a2iS2  
    课程大纲 c/ %5IhX?  
    1.波动光学基础 ElAJR4'{*i  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 6'ye-}vD-  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 ^zkTV_,cRp  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 fEc}c.!5  
    2.衍射元件概述 -H~g+i*J  
    □ 衍射光学元件概念 {LTb-CB  
    □ 衍射光学元件优点 SPW @TF1  
    □ 光束分束、整形、扩散 `Yp\.K z  
    □ 傅里叶变换 g6 EdCG.V  
    □ 角谱理论 '"QC^Joz  
    □ 工作装置类型 {"8\~r&b  
    3.衍射光学元件理念及设计 d}tn/Eu?B  
    □ 基本理念 =" K;3a`GI  
    透镜和衍射光学元件的作用 uHBX}WH  
    □ 分束、整形和扩散的实质 WpC@ nz?  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 >1:s.[&  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 :xZ/c\  
    4.IFTA简介 (u85$_C  
    □ 基本设计步骤 oQ~Q?o]Ri  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 k\_>/)g  
    参数估算——周期和线宽的估算 G;615p1  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 #G{}Rd|!  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 =]oBBokV  
    5.衍射元件设计案例 vIG8m@-!&;  
    □ 衍射分束器参数选择 #/sKb2eQ  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 /tA$ 'tZ  
    □ 衍射整形器参数选择 < 'op  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 AC,$(E  
    □ 衍射扩散器参数选择 ? Ldw\  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 6}R^L(^M  
    6.光栅模拟分析 >4GhI65  
    □ 构建stack 3?Y%|ZVM  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 kM]:~b2  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 |tz1'YOB  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 1iaNb[:QX  
    X obiF  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 oTo'? E#  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 (rFY8oHD  
    7.光栅概述 CZE5RzG  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 /a17B  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 8<3J!X+  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 7^Uv1ezDR  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 a}`4BMi3  
    8.微纳光学元件制作 0 sVCTJ@  
    □ 多阶器件加工 E5 H6&XU  
    □ 连续器件加工 ] =b?^'  
    □ 传统套刻法 eB/3MUz1  
    激光直写法 s`Z(f:/6*  
    □ 纳米光子器件制作概述 nXK"BYe  
    □ 衍射光学元件公差分析 4PTHUyX  
    9.答疑 nlH H}K  
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