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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 Xh?4mKgu  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 C8ZL*9U  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 5$kdgFq(  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 YxXq I  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 {Ur7# h5  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) 6hO-H&r++  
    课程概要 "tUwo(K[  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 |jsb@  
    AotCX7T2T  
    Fk{J@Y  
    >p0KFU  
    课程大纲 h$>wv`  
    1.波动光学基础 zEj#arSE4  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 M%I@<~wl  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 2VA!&`I  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 R:M,tL-l  
    2.衍射元件概述 U6<M/>RG$  
    □ 衍射光学元件概念 J? .F\`N)  
    □ 衍射光学元件优点 Ke!'gohv  
    □ 光束分束、整形、扩散 -\4zwIH  
    □ 傅里叶变换 -}P7$|O &  
    □ 角谱理论 V^TbP.  
    □ 工作装置类型 Or8kp/d  
    3.衍射光学元件理念及设计 RbEKP(uw  
    □ 基本理念 y\D=Z N@  
    透镜和衍射光学元件的作用 py @( <  
    □ 分束、整形和扩散的实质 r{_>ldjq  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 %Ds+GM-  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 5!(?m~jJ  
    4.IFTA简介 Wpr ,j N8b  
    □ 基本设计步骤 d$G}iJ8$mp  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 ?2 f_aY ;  
    参数估算——周期和线宽的估算 `XJm=/f  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 T7[NcZ:I  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 bWmw3w  
    5.衍射元件设计案例 ^nNitF  
    □ 衍射分束器参数选择 6@V~0DG  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 =^tA_AxVw  
    □ 衍射整形器参数选择 d|lpec  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 cE\>f8 I  
    □ 衍射扩散器参数选择 hr/o<#OW  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 n<7u>;SJQ  
    6.光栅模拟分析 /<{:I \<  
    □ 构建stack u5+|Su  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 #+k*1 Jg  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 ac8P\2{"  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 iOCqE 5d3  
    V 1/p_)A  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 -1u9t4+`  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 ~Lz%.a;o  
    7.光栅概述 }Wh6zT)  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 =r 9r~SR#  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 &%mXYj3y5  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 mbxbEqz  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 ba@ctkCW  
    8.微纳光学元件制作 KzV 2MO-$  
    □ 多阶器件加工 =Vw 5q},3  
    □ 连续器件加工 'e!J06  
    □ 传统套刻法 Hy_;nN+e  
    激光直写法 CU)|-*uiK  
    □ 纳米光子器件制作概述 = 1.9/hW  
    □ 衍射光学元件公差分析 ] )}]/Qw  
    9.答疑 8gy_Yj&{P  
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