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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 v ?@Ys+V  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 (mXV5IM  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 e"en ma\_  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 Q7]:vs)%  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 !Dp4uE:Pq  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) s]Z/0:`  
    课程概要 ,ZjbbBZ  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 k^gnOU;  
    TL@_m^SM  
    R{S{N2+p(  
    Q1V4bmM  
    课程大纲 j6Acd~y\2  
    1.波动光学基础 Mj5=t:MI  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 -)@DH;[tb  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 w#_xV =  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 .(Q3M0.D  
    2.衍射元件概述 ?b, eZ+t  
    □ 衍射光学元件概念 :pQZ)bF  
    □ 衍射光学元件优点 Uxx=$&#  
    □ 光束分束、整形、扩散 K' N`rx.7  
    □ 傅里叶变换 EOhUr=5~  
    □ 角谱理论 oPRvd_~  
    □ 工作装置类型 B]]_rl,  
    3.衍射光学元件理念及设计 /Kb7#uq  
    □ 基本理念 ~]?Q'ER  
    透镜和衍射光学元件的作用 ^.jIus5  
    □ 分束、整形和扩散的实质 YhFB*D;  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 ;<0Q<0G  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 y]eH@:MJ;A  
    4.IFTA简介 Fs_V3i3|L  
    □ 基本设计步骤 dUeM+(s1  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 +g ovnx  
    参数估算——周期和线宽的估算 Q)yhpwrX  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 +jzpB*@  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 (qHI>3tpY  
    5.衍射元件设计案例 ;hNn F&l  
    □ 衍射分束器参数选择 69(z[opW  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 'wz*GMGWC  
    □ 衍射整形器参数选择 lY!`<_Am  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 6d"dJV.\  
    □ 衍射扩散器参数选择 ftsr-3!Vm  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 ":?>6'*1  
    6.光栅模拟分析 ohusL9D  
    □ 构建stack wG2lCv`d  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 /Q5pA n-u  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 ;^xlDN  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 3toY#!1Ch  
    g;w4:k)U  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 |//cA2@.  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 KbVV[ *  
    7.光栅概述 N5csq(  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 zAt!jP0E  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 cqr!*  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 ^*'|(Cv  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 h>$,97EU  
    8.微纳光学元件制作 h J#U;GL  
    □ 多阶器件加工 gt6*x=RCrQ  
    □ 连续器件加工 :^lyVQ%@  
    □ 传统套刻法 UZMo(rG.]{  
    激光直写法 qO[6?q=c:  
    □ 纳米光子器件制作概述 @^} % o-:  
    □ 衍射光学元件公差分析 %k{~Fa  
    9.答疑 g"( vl-Uw  
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