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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 j?rq%rQd  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 L[FNr&  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 i=G.{.  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 (VzabO  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 Kn<z<>vO  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) ;\Vi~2!8  
    课程概要 KD5}Nk)t  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 l^ aUN  
    OCVF+D :  
    /_G^d1T1?L  
    :. ja~Q  
    课程大纲 +W P  
    1.波动光学基础 g0BJj=  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 SXx2   
    □ 相干及非相干光源的传播特性 fhZD#D  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 1"Z61gXrz  
    2.衍射元件概述 f}1R,N_fC  
    □ 衍射光学元件概念 V=,VOw4  
    □ 衍射光学元件优点 {|~22UkF[V  
    □ 光束分束、整形、扩散 _,JdL'[d  
    □ 傅里叶变换 ]M;aVw<!  
    □ 角谱理论 aN5w  
    □ 工作装置类型 K8UgP?c;0  
    3.衍射光学元件理念及设计 iX{Lc+u3  
    □ 基本理念 . !|3a  
    透镜和衍射光学元件的作用 mzl %h[9iI  
    □ 分束、整形和扩散的实质 D<2|&xaR  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 StP7t  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 _bO4s#yI  
    4.IFTA简介 $0MP*TFWa  
    □ 基本设计步骤 MWS=$N)v*  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 p/a)vN+*x'  
    参数估算——周期和线宽的估算 T*%Q s&x ;  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 ?4U|6|1  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 3 UBg"1IC  
    5.衍射元件设计案例 |\OG9{q  
    □ 衍射分束器参数选择 x]gf3Tc58  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 l 6;}nG  
    □ 衍射整形器参数选择 m};Qng]  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 CR-6}T   
    □ 衍射扩散器参数选择 #*[G,s#t^  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 ad1%"~1  
    6.光栅模拟分析 +([ iCL  
    □ 构建stack q>T7};5m2  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 xYJ|G=h&A  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 I3A@0'Vm;L  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 ^uu)|  
    Z[DiLXHL  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 Ed%8| M3  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 g $\Z-!(  
    7.光栅概述 75t\= 6#  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 YJlpP0;++  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 :n:Gr?  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 (bIg6_U7\  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 "YUyM5X  
    8.微纳光学元件制作 /=zzym~<>  
    □ 多阶器件加工 4wZ{Z 2w  
    □ 连续器件加工 D|u! KH  
    □ 传统套刻法 EPQ~V  
    激光直写法 l%?D%'afN  
    □ 纳米光子器件制作概述 m8q3Pp  
    □ 衍射光学元件公差分析 8\BCC1K  
    9.答疑 ZX0ZN2 ]  
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