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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 5)=YTUCk  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 E5.@=U,c  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 +6;1.5Tc  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 pRc<U^Z.h  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 XdV(=PS!a@  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) ;NPbEPL[5  
    课程概要 *V[6ta'  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 vD91t/_+  
    @E !`:/k  
    &<$YR~g5j$  
    ;0JK>c ]#  
    课程大纲 D:.1Be`Tv  
    1.波动光学基础 l}& &f8n  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 {Q/_I@m].  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 .[:2M9Rx  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 9*CJWS;  
    2.衍射元件概述 c 0.? d]  
    □ 衍射光学元件概念 %Q.|qyq  
    □ 衍射光学元件优点 U%4 s@{7  
    □ 光束分束、整形、扩散 586lN22xM  
    □ 傅里叶变换 !K8V":1du#  
    □ 角谱理论 vE$n0bL2  
    □ 工作装置类型 b Sm*/Q  
    3.衍射光学元件理念及设计 ?3; 0 SAh  
    □ 基本理念 0`~#H1TK  
    透镜和衍射光学元件的作用 .3:s4=(f  
    □ 分束、整形和扩散的实质 4&_|myO&  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 QQW]j;'~  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 cIB[D.  
    4.IFTA简介 =2R0 g2n  
    □ 基本设计步骤 ~7O.}RP0  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 $e/[!3CASP  
    参数估算——周期和线宽的估算 K['Gp>l  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 #4wia%}u  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 ^hyp}WN  
    5.衍射元件设计案例 T@gm0igW/;  
    □ 衍射分束器参数选择 y%@C-:  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 k35E,?T  
    □ 衍射整形器参数选择 2/f!{lz](  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 Cw,;>>Y_b<  
    □ 衍射扩散器参数选择 r~Vb*~U"  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 NKRI|'Y,  
    6.光栅模拟分析 9 6j*F,{  
    □ 构建stack z3C@0v=u>  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 >O/1Lpl.3  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 Nny#}k Bt  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 V4tObZP3Ff  
    WOR H4h9  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 c7f11N!v>b  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 i+4!nf{K  
    7.光栅概述 8%#pv}  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 V 2/?1  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 x/,(G~  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 !6pE0(V^+4  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 < NlL,  
    8.微纳光学元件制作 bd[%=5  
    □ 多阶器件加工 iVAAGZ>am  
    □ 连续器件加工 344E4F"ph  
    □ 传统套刻法 fiZq C?(  
    激光直写法 'l&bg8K9  
    □ 纳米光子器件制作概述 ;^9y#muk  
    □ 衍射光学元件公差分析 {qbx iL-  
    9.答疑 0;SRmj@W  
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