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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 nImRU.;P  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 ,2H5CFX/  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 l:Ci'=  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 D6bCC; h=  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 2c0eh-Gf  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) d^]wqnpf  
    课程概要 ^fnRzX  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 ?ZlwRjB\  
    "793R^Tz  
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    'y-IE#!5  
    课程大纲 *PL+)2ob  
    1.波动光学基础 aH"tSgi  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 4CX*  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 J[LGa:``  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 !6<2JNf  
    2.衍射元件概述 *i5&x/ds  
    □ 衍射光学元件概念 Z`b,0[rG[  
    □ 衍射光学元件优点 X:8=jHkz  
    □ 光束分束、整形、扩散 ( }JX ]-  
    □ 傅里叶变换 Kh<v2  
    □ 角谱理论 *XtZ;os]  
    □ 工作装置类型 5Odi\SJ&  
    3.衍射光学元件理念及设计 ^Po\:x%o  
    □ 基本理念 s%4)}w;z  
    透镜和衍射光学元件的作用 s)/i_Oe$\  
    □ 分束、整形和扩散的实质 ,iSs2&$ m  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 \,p)  
    □ 衍射光学元件优化设计方法  Kn\Oj=4  
    4.IFTA简介 rQisk8 %  
    □ 基本设计步骤  PJk Mn  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱  J|6aa  
    参数估算——周期和线宽的估算 A.WJ#1i}E  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 9Eg'=YJ  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 dqF--)Nb  
    5.衍射元件设计案例 [>"qOFCr#:  
    □ 衍射分束器参数选择 vNE91  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 &rw|fF|]  
    □ 衍射整形器参数选择 u{6*}6@fi  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 9SAyU%mS:  
    □ 衍射扩散器参数选择 [&FMVM`  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 )%ja6Vg  
    6.光栅模拟分析 Grjm9tbX}  
    □ 构建stack Q~-gtEv+&  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 o6vm(I%  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 l[\[)X3$  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 uu#ALB Jm  
    1/le%}mK  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 %gw0^^A  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 /tt  
    7.光栅概述 _V8pDcY  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 EO'3;mo,  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 3QV|@5L`[  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 uE5kL{Fv  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 :kFWUs=  
    8.微纳光学元件制作 Iupk+x>  
    □ 多阶器件加工 )QI]b4[  
    □ 连续器件加工 .`)ICX  
    □ 传统套刻法 u1]5qtg"  
    激光直写法 eKStt|M'  
    □ 纳米光子器件制作概述 N{Is2Ia  
    □ 衍射光学元件公差分析 ]^Q`CiKd  
    9.答疑 U.wgae].O;  
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