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    [培训]线下课程-衍射及微纳光学系统的分析、设计及加工 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-10-13
    时间地点 Kb,#Ot  
    主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 /Vy,6:$H3  
    授课时间:2023年12月28日(四)-30日(六)共3天 AM 9:00-PM 16:00 S1D;Xv@  
    授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 h(MS>=  
    课程讲师:讯技光电高级工程师 {H[3[  
    课程费用:5000RMB(课程包含课程材料费、开票税金、午餐费用) l_z@.</8P@  
    课程概要 /o]j  
    本课程从基本衍射原理开始,逐步阐明光的衍射本质以及衍射光学元件的工作原理。在基础衍射理论基础之上,进一步讨论衍射光学元件的设计方法。在传统衍射光学理论之上,再进一步讨论微纳光学领域中的矢量衍射理论,并以此为基础阐明多种微纳光学元件(如偏振元件)的设计理念。与理论设计相应的,课程中另一个重要方面是加工技术。如何根据需要选择合适的加工技术,是以质量为先还是需要考虑批量加工成本,这些问题也会在课程中讨论。此外,更重要的一点是,衍射和微纳元件的设计与加工技术往往是关联的,甚至是有所制约的。因此,我们会在课程中指明元件加工工艺以及设计方法之间的关系,并且在讲授相关内容的同时辅以VirtualLab Fusion在此方面的设计及建模方法,从而做到真正的学以致用,加速在微纳光学领域的领悟及开拓。 |VE *_ G  
    fgEMn;  
    Bn?MlG;aA  
    +U= !svE  
    课程大纲 X'XH-E  
    1.波动光学基础 "R9^X3;  
    □ 双光束干涉及杨氏干涉 &RbT&  
    □ 相干及非相干光源的传播特性 F-I\x  
    □ 衍射光学与傅里叶变换 8@J5tFJ&%  
    2.衍射元件概述 ![CF >:e  
    □ 衍射光学元件概念 fS?fNtD6<  
    □ 衍射光学元件优点 :MbD=sX  
    □ 光束分束、整形、扩散 'W]oQLD^R  
    □ 傅里叶变换 ct-;L' a  
    □ 角谱理论 [$P.ek<  
    □ 工作装置类型 6kM'f}t[C  
    3.衍射光学元件理念及设计 k>mqKzT0$+  
    □ 基本理念 Y~+`F5xX<  
    透镜和衍射光学元件的作用 95X!{\  
    □ 分束、整形和扩散的实质 bJ6@ B<  
    □ 衍射光学元件的特征尺寸 D>).^>|q  
    □ 衍射光学元件优化设计方法 gg}^@h&?  
    4.IFTA简介 >W7IWhm3  
    □ 基本设计步骤 -y5Z c?e  
    光学系统结构——1f、2f、Fresnel、Far-field、角谱 2-!n+#Cdf  
    参数估算——周期和线宽的估算 5'hQ6i8  
    □ 光学系统分辨率——不同结构的分辨率 Eh*t;J=O  
    □ 配置设计过程的优化评价函数 iz pFl@WS  
    5.衍射元件设计案例 96.Vm*/7  
    □ 衍射分束器参数选择 I7/X6^/}  
    □ 衍射分束器设计流程:规则和任意形状 @E5 }v  
    □ 衍射整形器参数选择 &6}] v:  
    □ 衍射整形器设计流程:1D和2D平顶型 {%Ujp9i  
    □ 衍射扩散器参数选择 \NI0rL  
    □ 衍射扩散器设计流程:平顶型和任意图案 ` "JslpN  
    6.光栅模拟分析 cgvD>VUw  
    □ 构建stack 2lm{:tS  
    □ 调整模拟参数——精度因子和衍射级次 0nOp'Ky\k  
    □ 近场分析、衍射效率分析、内部场分析 n]+v Eu|  
    □ 2D光栅表面镀膜分析 y$^.HI02jP  
    RS`~i8e'  
    □ 3D表面具有减反结构的光栅分析 Y%iimbBY|  
    □ 光栅单元阵列及透镜阵列的建模与分析 ? (f44Zgm  
    7.光栅概述 :\+\/HTbh  
    □ 2D和3D光栅,亚波长光栅,及二元光学元件 7gY^aMW  
    □ 标量衍射和傅里叶变换 2E X Rq  
    □ 矢量衍射和傅里叶模态法 G oJ\6& "  
    纳米光学元件的应用:抗反射、偏振控制、成像、传感等 =-GHs$u%f  
    8.微纳光学元件制作 Rf .b_Y@O  
    □ 多阶器件加工  L4,Ke  
    □ 连续器件加工 J)xc mK  
    □ 传统套刻法 gQ=g,X4  
    激光直写法 '5n67Hl 1  
    □ 纳米光子器件制作概述 |+0XO?,sZ  
    □ 衍射光学元件公差分析 Q]]5\C.  
    9.答疑 K@PQLL#yJp  
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