线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:626
时间地点 Y1fcp_]m  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 36"-cGNr{  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 :0N} K}  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 1oU/gm$7\q  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 xe?!UCUb@  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
Rr#Zcs!G  
特邀专家介绍 0x BO5[w,Y  
j"=F\S&!  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 &JMp)zaI[  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 h|~I'M]*  
课程概要 `|kW%L4  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 E,IeW {6s  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 `%S 35x9  
课程大纲 I<E~=  
1. Essential Macleod软件介绍 NzS(, F  
1.1 介绍软件 y buKwZFC  
1.2 创建一个简单的设计 4^uQB(}Z  
1.3 绘图和制表来表示性能 V'b$P2 ?^  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 vYl2_\,Y?  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 3Ye{a<ckK  
1.6 特定设计的公式技术 PU8>.9x  
1.7 交互式绘图 NJ]AxFG  
2. 光学薄膜理论基础 zm>^!j !  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 4# +i\H`  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 \dAs<${(  
3. 材料管理 EKu%I~eM  
3.1 材料模型 Y#e,NN  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 ^]rPda#  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 pW&K=,7|  
3.4 基板光学常数的提取 i?{)o]i  
4. 光学薄膜设计优化方法 #hMS?F|  
4.1 参考波长与g +/+>:  
4.2 四分之一规则 N!~O~ Eo3  
4.3 导纳与导纳图 2WO5Af%  
4.4 斜入射光学导纳 lKdd3W"o  
4.5 光学薄膜设计的进展 +H{TV#+r  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 4og/y0n,l"  
4.6.1 优化目标设置 XrUc`  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) s5s'[<  
4.6.3 膜层锁定和链接 >U\1*F,Om,  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 ^sVr#T  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 :+ZLKm  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 l+nT$IPF  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 VW`SqUl  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 _DouVv>  
5.5 如何在Function中编写脚本 RCqd2$K"J+  
6. 光学薄膜系统案例 J7;8 S  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 ,>p1:pga  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 9%Eo<+my h  
6.3 Stack应用范例说明 c7~'GXxQ2  
7. 薄膜性能分析 v<3KxP'a  
7.1 电场分布 *fCmZ$U:{  
7.2 公差与灵敏度分析 Gf=3h4  
7.3 反演工程 O!G!Gq&  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 (b;Kl1Ql]  
8. 真空技术 @}\i`H1s  
8.1 常用真空泵介绍 xyD2<?dGUb  
8.2 真空密封和检漏 %?hvN  
9. 薄膜制备技术 H)k V8wU  
9.1 常见薄膜制备技术 $GR rTC!  
10. 薄膜制备工艺 ID: tTltcc  
10.1 薄膜制备工艺因素 +OI<0  
10.2 薄膜均匀性修正技术 6H1;Hl f  
10.3 光学薄膜监控技术 PrHoN2y5E  
11. 激光薄膜 s*Nb=v.e9  
11.1 薄膜的损伤问题 !,|-{":  
11.2 激光薄膜的制备流程 YP Qix  
11.3 激光薄膜的制备技术 hd*GDjmRQ/  
12. 光学薄膜特性测量 ^H0#2hFa  
12.1 薄膜光谱测量 j1rR3)oP  
12.2 薄膜光学常数测量 g=/!Ry=  
12.3 薄膜应力测量 {'p < o$(S  
12.4 薄膜损伤测量 IeZ9 "o h  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 *Z$W"JP  
fK^W6)uuV  
有兴趣的小伙伴们可以扫码加微联系
!bCSt?}@u  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
~&aULY?)]  
内容简介 I_m3|VCa|t  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ;f~fGsH}e'  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 d6a3\f  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ppo0DC\>  
x2sKj"2?@  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
eEBo:Rc9  
目录 "F =NDF  
Preface 1 +[R^ ?~VK  
内容简介 2 eBH:_Ls_-^  
目录 i 's.e"F#  
1  引言 1 &:&~[4>%a  
2  光学薄膜基础 2 9Fy 'L#%  
2.1  一般规则 2 "=w:LRw  
2.2  正交入射规则 3  )m#Y^  
2.3  斜入射规则 6 a>6D3n W  
2.4  精确计算 7 #mU<]O  
2.5  相干性 8 Z($i+L%.  
2.6 参考文献 10 I 12Zh7Cc:  
3  Essential Macleod的快速预览 10 cQ]c!G|a4  
4  Essential Macleod的特点 32 {cUGksz]}  
4.1  容量和局限性 33 @t a:9wZ  
4.2  程序在哪里? 33 sv!zY= 6  
4.3  数据文件 35 Gy[anDE&  
4.4  设计规则 35 6J\ 2 =c`  
4.5  材料数据库和资料库 37 v6|j.;  
4.5.1材料损失 38 ?em8nZ'  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 Do77V5  
4.5.2 材料库 41 +HPcv u?1  
4.5.3导出材料数据 43 41]a{A7q  
4.6  常用单位 43 <S=( `D  
4.7  插值和外推法 46 3"zPG~fY{  
4.8  材料数据的平滑 50 c:e3hJ  
4.9 更多光学常数模型 54 0%Le*C'yk  
4.10  文档的一般编辑规则 55 U3C"o|   
4.11 撤销和重做 56 X 0iy  
4.12  设计文档 57 t=X=",)f  
4.10.1  公式 58 "P0!cY8r  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 0 @!huk  
4.10.3  沉积密度 59 X4 ] miUmh  
4.10.4 平行和楔形介质 60 sfipAM  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 4D2U,Ds  
4.10.4  性能 61 *RxJ8.G  
4.10.5  保存设计和性能 64 =%<, ^2o  
4.10.6  默认设计 64 ?Wz2J3A.2t  
4.11  图表 64 6}m`_d?  
4.11.1  合并曲线图 67 "0uM%*2  
4.11.2  自适应绘制 68 O Bcz'f~  
4.11.3  动态绘图 68 SzIzQR93&  
4.11.4  3D绘图 69 Y<|JhqOXK  
4.12  导入和导出 73 A yr ,  
4.12.1  剪贴板 73 $m)gfI]9  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 :A z lls  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 f] #\&"  
4.13  背景 77 S't9F  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 /='0W3+o*L  
4.15  生成Rugate 84 $K!Jm7O\  
4.16  参考文献 91 $cIaLq  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 |,@D <  
5.1  Jobs 92 $1 "gFg  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 1&! i:F#  
5.3  输入材料 94 R;!@ xy  
5.4  设计数据文件夹 95 YTFU# F  
5.5  默认设计 95 &:5*^1oP  
6  细化和合成 97 McN[  
6.1  优化介绍 97 ;  ?f+  
6.2  细化 (Refinement) 98 5\# F5s}  
6.3  合成 (Synthesis) 100 pHmqwB~|  
6.4  目标和评价函数 101 Gn=b_!  
6.4.1  目标输入 102 _\KFMe= PV  
6.4.2  目标 103 ` @  YV  
6.4.3  特殊的评价函数 104 {daX?N|V  
6.5  层锁定和连接 104 g kO^J{_@q  
6.6  细化技术 104 cFw-JM<  
6.6.1  单纯形 105 cN0 *<  
6.6.1.1 单纯形参数 106 )I[f(f%W7  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ~;3#MAG  
6.6.2.1 Optimac参数 108 L&DjNu`!9  
6.6.3  模拟退火算法 109 A!Cby!,  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 'o6}g p)  
6.6.4  共轭梯度 111 pdRM%ug   
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 . 2$J-<O  
6.6.5  拟牛顿法 112 /^AH/,p  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 o3dqsQE%  
6.6.6  针合成 113 Vt(Wy  
6.6.6.1 针合成参数 114 g5@JA^\vZT  
6.6.7 差分进化 114 5aizWz  
6.6.8非局部细化 115 ?VNtT/  
6.6.8.1非局部细化参数 115 sJ|pR=g)!  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 c 9f"5~  
6.7.1  细化 116 X#ttDB  
6.7.2  合成 117 ,_u7@Ix  
6.8  参考文献 117 Cu8mNB{H  
7  导纳图及其他工具 118 +#MXeUX"  
7.1  简介 118 ;Y\LsmZ;F  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 fr/EkL1Dl  
7.2.1  四分之一波长规则 119 ;:D-}t;  
7.2.2  导纳图 120 .qSDe+A  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 3A!a7]fW  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 6 X~><r  
7.5  斜入射导纳图 141 YK6LJv}  
7.6  对称周期 141 w\acgQ^%e  
7.7  参考文献 142 uK@d?u!`  
8  典型的镀膜实例 143 9$\s v5  
8.1  单层抗反射薄膜 145 p[JIH~nb  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 DLrV{8%W  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 >`0U2K  
8.4  W-膜层 148 @v%Kwe1Q  
8.5  V-膜层 149 `.MZ,Xhqi"  
8.6  V-膜层高折射基底 150 Nu6NyYs  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ^$: w  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 FE\E%_K'n7  
8.9  四层抗反射薄膜 153 Ax&!Nz+?  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 ,!l_  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 =@Oo3*>  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 P:'wSE91  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 oRCc8&  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 p-}X=O$  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 Jj\4P1|'7  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 $XhMI;h  
8.17  1/4波长堆栈 162 Qb^G1#r@C  
8.18  陷波滤波器 163 @ !P2f   
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 w w^\_KGu7  
8.20  褶皱 165 JJd qdX;  
8.21  消偏振分光器1 169 2'?'dfj  
8.22  消偏振分光器2 171 t Ly:F*1i  
8.23  消偏振立体分光器 172 ==[=Da~  
8.24  消偏振截止滤光片 173 b]]8Vs)'  
8.25  立体偏振分束器1 174 W<)P@_+-  
8.26  立方偏振分束器2 177 0(7 IsG=t  
8.27  相位延迟器 178 77@N79lqO  
8.28  红外截止器 179 m=01V5_  
8.29  21层长波带通滤波器 180 BX?DI-o^h  
8.30  49层长波带通滤波器 181 "Au4&Fu  
8.31  55层短波带通滤波器 182 BTkx}KK  
8.32  47 红外截止器 183 3^UdB9j;  
8.33  宽带通滤波器 184 P$obID  
8.34  诱导透射滤波器 186 C#U(POA  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ",b:rgpRp  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 bgor W"'  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 m;dwt1'Zw  
8.35  增益平坦滤波器 193 ln82pQD2Y~  
8.38  啁啾反射镜 1 196 <c}@lj-j  
8.39  啁啾反射镜2 198 (!nkv^]  
8.40  啁啾反射镜3 199 cj[b^Wv:  
8.41  带保护层的铝膜层 200 .H)H9cmf  
8.42  增加铝反射率膜 201 1tNL)x"w  
8.43  参考文献 202 G}pFy0W\S  
9  多层膜 204 q}P@}TE  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204  aO&U=!  
9.2  内部透过率 204 tY"eoPme  
9.3 内部透射率数据 205 StI N+S@Z  
9.4  实例 206 MLWHO$C~T  
9.5  实例2 210 dVb6u  
9.6  圆锥和带宽计算 212 }93kHO{  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 *9j'@2!M  
10  光学薄膜的颜色 216 )s $]+HQs  
10.1  导言 216 w jkh*Y  
10.2  色彩 216 A"JdG%t>.h  
10.3  主波长和纯度 220 XG/xMz~  
10.4  色相和纯度 221 h]oUY.Pf  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 q| D5 A|)  
10.6 色差 226 huC{SzXM  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 aoN\n]g  
10.8  颜色渲染指数 234 [9">}l  
10.9  色差计算 235 ]@$^Ju,  
10.10  参考文献 236 Q VTL}AT2:  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 yzS^8,  
11.1  短脉冲 238 ETHcZ  
11.2  群速度 239 N!K%aH~O  
11.3  群速度色散 241 Pm/<^z%  
11.4  啁啾(chirped) 245 z0 9Gp}^;  
11.5  光学薄膜—相变 245 &O' W+4FAc  
11.6  群延迟和延迟色散 246 o+1 (N#?m9  
11.7  色度色散 246 lCU clD  
11.8  色散补偿 249 3:WqUb\QK  
11.9  空间光线偏移 256 ['mpxtG  
11.10  参考文献 258 PF~@@j  
12  公差与误差 260 gRY#pRT6d  
12.1  蒙特卡罗模型 260 v}$Q   
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 $Z G&d  
12.2.1  误差工具 267 At.& $ t  
12.2.2  灵敏度工具 271 N1'`^ay$  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 !PA:#]J  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 Jh\KVmfXN  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 !K-1tp$  
12.3  参考文献 276 #p(gB)o:l  
13  Runsheet 与Simulator 277 {lds?AuK  
13.1  原理介绍 277 Orq/38:4G  
13.2  截止滤光片设计 277 _5p$#U`  
14  光学常数提取 289 WzzA:X  
14.1  介绍 289 wo`.sB&T  
14.2  电介质薄膜 289 |=}+%>y_  
14.3  n 和k 的提取工具 295 hV7EjQp  
14.4  基底的参数提取 302 e@h{Ns.1-  
14.5  金属的参数提取 306 G+c&e:ip<  
14.6  不正确的模型 306 &hWELZe0vv  
14.7  参考文献 311 *u$aItx  
15  反演工程 313 ,l>w9?0Z  
15.1  随机性和系统性 313 ]KFh 1  
15.2  常见的系统性问题 314 o-8{C0>:  
15.3  单层膜 314 2|,$#V=  
15.4  多层膜 314 H:(B^uH  
15.5  含义 319 )U\i7[k>  
15.6  反演工程实例 319 !`{?qQ[=  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 I1 ]YT  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 >|SIqB<%:  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 31G:[;g  
16.1  光学性质的热致偏移 329 $wM..ee  
16.2  应力工具 335 H9T~7e+  
16.3  均匀性误差 339 ; <FAc R  
16.3.1  圆锥工具 339 ei= 4u'  
16.3.2  波前问题 341 FF8jW1  
16.4  参考文献 343 :BxO6@>Xc  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 uc,>VzdB  
17.1  引言 345 ?T/4 =  
17.2  操作数 345 ,kJ'_mq  
18  如何在Function中编写脚本 351 B!&5*f}*  
18.1  简介 351 I=L[ "]  
18.2  什么是脚本? 351 ]xvA2!) Q  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 V[.{cY ?6  
18.4  基础 352 w[z=x  
18.4.1  Classes(类别) 352 ?xaUWD  
18.4.2  对象 352  9tpyrGv  
18.4.3  信息(Messages) 352 :j]6vp 6  
18.4.4  属性 352 +C`!4v\n  
18.4.5  方法 353 ~ikp'5  
18.4.6  变量声明 353 nYtkTP!J6  
18.5  创建对象 354 phDIUhL$z  
18.5.1  创建对象函数 355 b()8l'x_|K  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 J^"_H:1[  
18.5.3 丢弃对象 356 |)7K(R)(=  
18.5.4  总结 356 xC< )]  
18.6  脚本中的表格 357 R,T0!f  
18.6.1  方法1 357 XGZZKvp  
18.6.2  方法2 357 s4Ja y!A  
18.7 2D Plots in Scripts 358 R6<'J?k  
18.8 3D Plots in Scripts 359 F>.y>h  
18.9  注释 360 >9w^C1"  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 B>i%:[-e  
18.11  一个更高级的脚本 362 V_ 6K?~j  
18.12  <esc>键 364 ^?e[$}  
18.13 包含文件 365 \gP?uJ  
18.14  脚本被优化调用 366 ](oeMl18R  
18.15  脚本中的对话框 368 M.H!dZ  
18.15.1  介绍 368 GIlaJ!/  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 OG#^d5(  
18.15.3  输入框函数 370 Z*Ffdh>*:&  
18.15.4  自定义对话框 371 w (HVC  
18.15.5  对话框编辑器 371 Ow-ejo  
18.15.6  控制对话框 377 Yh]a4l0  
18.15.7  更高级的对话框 380 %>K(IR pMW  
18.16 Types语句 384 ` ,T .  
18.17 打开文件 385 "0!#De  
18.18 Bags 387 MO ~T_6  
18.13  进一步研究 388 ky !Z JR  
19  vStack 389 ]Z[3 \~?  
19.1  vStack基本原理 389 dtuCA"D  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 L@MCB-@V  
19.3  五棱镜 393 azmeJpC  
19.4 光束距离 396 0^{Tq0Ri[  
19.5 误差 399 7'+`vt#E  
19.6  二向分色棱镜 399 J|xXo  
19.7  偏振泄漏 404 9@t&jznt<  
19.8  波前误差—相位 405 T \34<+n1N  
19.9  其它计算参数 405 tLJ 7tnB  
20  报表生成器 406 u9;3Xn8  
20.1  入门 406 e`+  
20.2  指令(Instructions) 406 GGHMpQ   
20.3  页面布局指令 406 C^C'!  
20.4  常见的参数图和三维图 407 bIT[\Q  
20.5  表格中的常见参数 408 n}NUe`E_h  
20.6  迭代指令 408 tQj=m_  
20.7  报表模版 408 wOUCe#P|r  
20.8  开始设计一个报表模版 409 ]@SEOc@ j  
21  一个新的project 413 xD7Y"%Pbx  
21.1  创建一个新Job 414 {(-TWh7V  
21.2  默认设计 415 uYTyR;a  
21.3  薄膜设计 416 -X EK[  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ~i-n_7+  
21.5  显色指数计算 422 <mLU-'c@  
21.6  电场分布 424 "% \ y$  
后记 426 #5;4O{  
z V $Z@o  
GLY,<O>D5  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 3 } $9./+  
;d7Qw~v1s  
《Essential Macleod中文手册》
$LR~c)}1I  
:^7_E&  
目  录 ]$K58C  
5'Mw{`  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 F[ ^ p~u{  
第1章 介绍 ..........................................................1 <O9WCl  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ygm=q^bV]s  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 YbVZK4  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 w#(E+s~}  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 99h#M3@!  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 #r&yH^-  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 N}bZdE9F  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 IxG0TJ_  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 Ejf>QIB  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 |b Z 58{}  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 F8m@mh*8>  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 0} \;R5a<  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 .R+n}>+K  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 7Il /+l(  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 78z/D|{"  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 z<"\I60Fe  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 .dBW{|gN  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 YWhS<}^  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 9OF(UFgS  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 $<wU>X  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 Q!Dr3x  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 [Az^i>iH  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 5PHAd4=bJ  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 #5kg3OO  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 . =A|  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 !ImtnU}  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 d~d~Cd`V  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 @n=FSn6 c  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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