线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:604
时间地点 Fd":\7p  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 8bLA6qmM\  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 -@X?~4Idz  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 s]Nh9h  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 L}*:,&Y/  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
M>VT$!Lx  
特邀专家介绍 w$WN` =  
?2zVWZ  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 :p0|4g  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 fNNkc[YTZI  
课程概要 jFY6}WY)}7  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 5@ecZ2`)+h  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 D1o<:jOj  
课程大纲 ="<5+G  
1. Essential Macleod软件介绍 $_CE!_G&)  
1.1 介绍软件 yBqv'Y  
1.2 创建一个简单的设计 _-eF &D  
1.3 绘图和制表来表示性能 U]tbV<m%  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 .}n,  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) -Zx hh  
1.6 特定设计的公式技术 L1A0->t  
1.7 交互式绘图 z/6/   
2. 光学薄膜理论基础 .|[ZEXq  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 $zS0]@Dj  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 #va|&QBZxM  
3. 材料管理 W`_pjld  
3.1 材料模型 ]H<5]({F  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 >Pne@w!*  
3.3 金属薄膜光学常数的提取  SbQ Ri  
3.4 基板光学常数的提取 BayO+,>K  
4. 光学薄膜设计优化方法 `X[L62D  
4.1 参考波长与g 37GJ}%Qs  
4.2 四分之一规则 e=K2]Y Q{  
4.3 导纳与导纳图 gM_z`H 5[!  
4.4 斜入射光学导纳 w@RVg*`%7D  
4.5 光学薄膜设计的进展 ,FR FH8p  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ^2Sa_.  
4.6.1 优化目标设置 W/_=S+CvK  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) &2IrST{d:V  
4.6.3 膜层锁定和链接 #;FHyKx  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 0sq?;~U  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 VK\ Bjru9  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 sute%6yM  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 +E8 \g  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 k^3 ?Z2a  
5.5 如何在Function中编写脚本 W+k`^A|@  
6. 光学薄膜系统案例 S~jl%]  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 )=VSERs  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 mNkS!(L6  
6.3 Stack应用范例说明 C =fs[  
7. 薄膜性能分析 VB6EM|bphl  
7.1 电场分布 APxy %0Q  
7.2 公差与灵敏度分析 A*l(0`aWq  
7.3 反演工程 YrAaL"20  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 BLx tS  
8. 真空技术 Abr:UEG  
8.1 常用真空泵介绍 (ov=D7>t0  
8.2 真空密封和检漏 Oi{X \Y  
9. 薄膜制备技术 LL,&!KW[S  
9.1 常见薄膜制备技术 gs;3NW  
10. 薄膜制备工艺 ?D P]#9/4  
10.1 薄膜制备工艺因素 Kj[X1X5  
10.2 薄膜均匀性修正技术 HfN-WYiR  
10.3 光学薄膜监控技术 `jY*0{  
11. 激光薄膜 $<^4G  
11.1 薄膜的损伤问题 X\3IY:Q@T  
11.2 激光薄膜的制备流程 F 7+Gt Ed  
11.3 激光薄膜的制备技术 #"|Y"#@k  
12. 光学薄膜特性测量 W-mi1l^H{  
12.1 薄膜光谱测量 x7$U  
12.2 薄膜光学常数测量 rg U$&O  
12.3 薄膜应力测量 | >xUgpQi  
12.4 薄膜损伤测量 ;p ~@*c'E  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 Alh"G6  
,sPsL9]$  
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书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
b6!?K!imT  
内容简介 kQlXcR  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 O?Xg%k#  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 +=I_3Wtth  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 )_!t9gn*wr  
MNip;S_j  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
cw#p!mOi~  
目录 Ni IX^&N1  
Preface 1 *g&[?y`UC  
内容简介 2 o?uTL>Zin  
目录 i _5#f9,m1  
1  引言 1 UMUr"-l =  
2  光学薄膜基础 2 `.nkC_d  
2.1  一般规则 2 5o\yhYS:  
2.2  正交入射规则 3 e#L/  
2.3  斜入射规则 6 k{Yj!C> #  
2.4  精确计算 7 C$ cX{hV  
2.5  相干性 8 # 4`*`)%  
2.6 参考文献 10 ,eD@)K_:  
3  Essential Macleod的快速预览 10 mJ0nyjX^  
4  Essential Macleod的特点 32 }K9Vr!  
4.1  容量和局限性 33 (i>VJr  
4.2  程序在哪里? 33 nU%rSASu  
4.3  数据文件 35 nab:y(]$/  
4.4  设计规则 35 X<ZIeZBn  
4.5  材料数据库和资料库 37 Y[Us"K`  
4.5.1材料损失 38 <QT u"i  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 rP,i,1Ar 4  
4.5.2 材料库 41 qQ%zSJ?  
4.5.3导出材料数据 43 2?rg&og6  
4.6  常用单位 43 i{PRjkR  
4.7  插值和外推法 46 /ow/)\/}  
4.8  材料数据的平滑 50 F6Zl#eL  
4.9 更多光学常数模型 54 V| z|H$-  
4.10  文档的一般编辑规则 55 ^sd+s ~ xx  
4.11 撤销和重做 56 N8 }R<3/  
4.12  设计文档 57 -QCo]:cp  
4.10.1  公式 58 g*\u8fpRq  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 vp &jSfQ^  
4.10.3  沉积密度 59 s0v?*GRX  
4.10.4 平行和楔形介质 60 HY9H?T  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 j(6:   
4.10.4  性能 61 &$jg *Kr  
4.10.5  保存设计和性能 64 8e)k5[\m  
4.10.6  默认设计 64 BIDmZU9tL  
4.11  图表 64 A_T-]YQ  
4.11.1  合并曲线图 67 MX6*waQ-<  
4.11.2  自适应绘制 68 jfZ(5Qu3.H  
4.11.3  动态绘图 68 eV^@kI4  
4.11.4  3D绘图 69 +[`N|x<  
4.12  导入和导出 73 01 6l$K4  
4.12.1  剪贴板 73 , %mTKOs  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 =|S8.|r+  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 z,}1K!  
4.13  背景 77 DSYtj} >  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 kmNY ;b6Y$  
4.15  生成Rugate 84 Y }'C'PR  
4.16  参考文献 91 Tz+2g&+  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 I>bLgt]u3  
5.1  Jobs 92 tc\LK_@$/F  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 %~J90a  
5.3  输入材料 94 n' 73DApW  
5.4  设计数据文件夹 95 ?(>7v[=iT  
5.5  默认设计 95 #nX0xV5=  
6  细化和合成 97 2:MB u5**  
6.1  优化介绍 97 YTQ|Hg6jO  
6.2  细化 (Refinement) 98 's@v'u3  
6.3  合成 (Synthesis) 100 X_+`7yCi"x  
6.4  目标和评价函数 101 mJ<rzX  
6.4.1  目标输入 102 NwD*EuPF:  
6.4.2  目标 103 Hx2UDHF  
6.4.3  特殊的评价函数 104 oh%T4 $  
6.5  层锁定和连接 104 < Up n~tH  
6.6  细化技术 104 *pw:oTO  
6.6.1  单纯形 105 u!oHP  
6.6.1.1 单纯形参数 106 pZ+zm6\$  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 ./jkY7 k  
6.6.2.1 Optimac参数 108 U# Y ?'3:  
6.6.3  模拟退火算法 109 I/jMe'Kp  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 8|{:N>7  
6.6.4  共轭梯度 111 1%^U=[#2`  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ,AGK O,w  
6.6.5  拟牛顿法 112 FoWE<  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 `x~k}  
6.6.6  针合成 113 LpaY M d;  
6.6.6.1 针合成参数 114 5dT-{c%w4  
6.6.7 差分进化 114 g10$pf+L  
6.6.8非局部细化 115 .hn{m9|U  
6.6.8.1非局部细化参数 115 Q/\ <rG4  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 &\. LhOm  
6.7.1  细化 116 `5<  
6.7.2  合成 117 ;"!dq)  
6.8  参考文献 117 VaJX,Q  
7  导纳图及其他工具 118 rl'YyO}2  
7.1  简介 118 *W y0hnr;]  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 l6Ze6X I  
7.2.1  四分之一波长规则 119 })T}e7>T  
7.2.2  导纳图 120 M ioS  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 RR{]^g51  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 pwT|T;j*  
7.5  斜入射导纳图 141 (3 8.s:-  
7.6  对称周期 141 y mY,*Rb  
7.7  参考文献 142 8^\DQ&D  
8  典型的镀膜实例 143 &.an-  
8.1  单层抗反射薄膜 145 vlw2dY@^  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 Of7j~kdh83  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 =+T{!+|6P  
8.4  W-膜层 148 U&C\5N]  
8.5  V-膜层 149 ]n${j/x  
8.6  V-膜层高折射基底 150 8*=N\'m],  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 rVzj LkN^  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 gmLGK1  
8.9  四层抗反射薄膜 153 f";70}_  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 "}*P9-%  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ;dRTr *  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 .(VxeF(v_k  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 <\8dh(>  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 Itr yiU9  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ;Y?7|G97*S  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 Cj"k Fq4  
8.17  1/4波长堆栈 162 KNC!T@O|{#  
8.18  陷波滤波器 163 ~)tIO<$U  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 %g5weiFM  
8.20  褶皱 165 (+4gq6b  
8.21  消偏振分光器1 169 {{ R/:-6?@  
8.22  消偏振分光器2 171 K*'(;1AiW  
8.23  消偏振立体分光器 172 t&mw@bj  
8.24  消偏振截止滤光片 173 {O5;V/00}  
8.25  立体偏振分束器1 174 F&lWO!4  
8.26  立方偏振分束器2 177 7Nh6 `  
8.27  相位延迟器 178 zbddn4bW9  
8.28  红外截止器 179 ]d9;YVAU  
8.29  21层长波带通滤波器 180 =9i:R!,W  
8.30  49层长波带通滤波器 181 ` R!0uRu  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ,'= Y  
8.32  47 红外截止器 183 ]r$S{<  
8.33  宽带通滤波器 184 _{_LTy%[  
8.34  诱导透射滤波器 186 UB|Nx(V s  
8.35  诱导透射滤波器2 188 (jPN+yQ  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 KG'4;Z5J  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 x7L$x=8s  
8.35  增益平坦滤波器 193 4Yt:PN2  
8.38  啁啾反射镜 1 196 +VdYT6{p  
8.39  啁啾反射镜2 198 tU!"CX  
8.40  啁啾反射镜3 199 xh#ef=Bw  
8.41  带保护层的铝膜层 200 q_g'4VZv  
8.42  增加铝反射率膜 201 pHsp]a  
8.43  参考文献 202 |5V#&e\ES  
9  多层膜 204 +&O[}%W  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 "}\z7^.W>  
9.2  内部透过率 204 }{ pNasAU  
9.3 内部透射率数据 205 Um9!<G=;  
9.4  实例 206 ! D'U:)  
9.5  实例2 210 RB\>$D  
9.6  圆锥和带宽计算 212 yT-m9$^v  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 \kzxt/Ow  
10  光学薄膜的颜色 216 5[al^'y  
10.1  导言 216 k>K23(X  
10.2  色彩 216 _ Eq:Qbw#  
10.3  主波长和纯度 220 /!eC;qp;[  
10.4  色相和纯度 221 67}y/C]<  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Fng":28o  
10.6 色差 226 I:]s/r7  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 b&*^\hY9b  
10.8  颜色渲染指数 234 A0oC*/  
10.9  色差计算 235 JXftQOn  
10.10  参考文献 236 :&2RV_$>=  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 e l'^9K  
11.1  短脉冲 238 VaZS_ qGe:  
11.2  群速度 239 6@wnF>'/\  
11.3  群速度色散 241 H }uT'  
11.4  啁啾(chirped) 245 [uc;M6o}?  
11.5  光学薄膜—相变 245 =Q.2:*d.  
11.6  群延迟和延迟色散 246 }f^K}*sK$5  
11.7  色度色散 246 [9z<*@$-  
11.8  色散补偿 249 hAfRHd  
11.9  空间光线偏移 256 S%Pk@n`z]  
11.10  参考文献 258 |I^\|5  
12  公差与误差 260 dB<BEe\$g.  
12.1  蒙特卡罗模型 260 n4>  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 {Ylj]  
12.2.1  误差工具 267 Mq[;:  
12.2.2  灵敏度工具 271 =XQ3sk6U  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 <Sm =,Sw  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 C(}9  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 ^^jF*)DT@  
12.3  参考文献 276 H3QAIsGS  
13  Runsheet 与Simulator 277 @K4} cP  
13.1  原理介绍 277 MZn7gT0  
13.2  截止滤光片设计 277 qnrf%rS  
14  光学常数提取 289 _<pG}fmR  
14.1  介绍 289 xPQO}wKa  
14.2  电介质薄膜 289 _UjAct]6  
14.3  n 和k 的提取工具 295 15iCJ p  
14.4  基底的参数提取 302 OJ@';ZyT=  
14.5  金属的参数提取 306 e~'y%|D  
14.6  不正确的模型 306 ItYG9a  
14.7  参考文献 311 70lb6A  
15  反演工程 313 *ErTDy(   
15.1  随机性和系统性 313 @r+ErFI  
15.2  常见的系统性问题 314 dI>)4()  
15.3  单层膜 314 @o9EX }  
15.4  多层膜 314 ;)0vxcMB  
15.5  含义 319 X2dTV}~i  
15.6  反演工程实例 319 7R7g$  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 =ub&@~E  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 KOhy)h+ h  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 -CtA\< 7I  
16.1  光学性质的热致偏移 329 P:(,l,}F8  
16.2  应力工具 335 S,G=MI"  
16.3  均匀性误差 339 cp0>Euco=  
16.3.1  圆锥工具 339 u$t*jw\fHg  
16.3.2  波前问题 341 9VV  
16.4  参考文献 343 9@QP?=\Y  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 w,eYrxR|N  
17.1  引言 345 >9+@oGe(E  
17.2  操作数 345 2?Q IK3"v  
18  如何在Function中编写脚本 351 :/~`"`#1  
18.1  简介 351 %L/Wc,My  
18.2  什么是脚本? 351 lk6mu  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 FxM`$n~K  
18.4  基础 352 ETSBd[  
18.4.1  Classes(类别) 352 [NeOd77y  
18.4.2  对象 352 ~;UK/OZ  
18.4.3  信息(Messages) 352 Yx(?KN7V?  
18.4.4  属性 352 OjJlGElw  
18.4.5  方法 353 */nb%QV  
18.4.6  变量声明 353 1kb?y4xeJ  
18.5  创建对象 354 i&mu=J[  
18.5.1  创建对象函数 355 nt "VH5  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 6/nhz6=  
18.5.3 丢弃对象 356 ZS>}NN  
18.5.4  总结 356 t.lm`=  
18.6  脚本中的表格 357 W qci51y>#  
18.6.1  方法1 357 G A2S  
18.6.2  方法2 357 J^n(WnM*F  
18.7 2D Plots in Scripts 358 [m3G%PO@Da  
18.8 3D Plots in Scripts 359 jl3RE|M\<  
18.9  注释 360 rm2{PV<+d  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 aODOc J N  
18.11  一个更高级的脚本 362 HxU.kcf  
18.12  <esc>键 364 h(GgkTj4+  
18.13 包含文件 365 ,GVHwTZ0`  
18.14  脚本被优化调用 366 JaG<.ki  
18.15  脚本中的对话框 368 TeHL=\L-^  
18.15.1  介绍 368 S@N&W&W#~  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 )3h=V^rm  
18.15.3  输入框函数 370 7S2Bm]fP  
18.15.4  自定义对话框 371 d?b2jZ$r]  
18.15.5  对话框编辑器 371 p8Lb*7W  
18.15.6  控制对话框 377 g B+cU  
18.15.7  更高级的对话框 380 `hM ]5;0  
18.16 Types语句 384 uZm<:d2%)  
18.17 打开文件 385 qO&:J\d  
18.18 Bags 387 =ZzhH};aX  
18.13  进一步研究 388 ~}8 3\LI}  
19  vStack 389 2#T|+mKxZM  
19.1  vStack基本原理 389 f 7d)  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 9e=F  
19.3  五棱镜 393 d /Zt}{  
19.4 光束距离 396 &vdGKYs 6  
19.5 误差 399 I0m/   
19.6  二向分色棱镜 399 5_G7XBvD/w  
19.7  偏振泄漏 404 k5g\s9n]  
19.8  波前误差—相位 405 )bi*y`UM]  
19.9  其它计算参数 405 #mx;t3ja7  
20  报表生成器 406 gOgG23 x  
20.1  入门 406 ,0lRs   
20.2  指令(Instructions) 406 MZv&$KG4m@  
20.3  页面布局指令 406 I*6L`#j[  
20.4  常见的参数图和三维图 407 4?jhZLBU  
20.5  表格中的常见参数 408 YDs/BF Z  
20.6  迭代指令 408 .Zf#L'Rf  
20.7  报表模版 408 W 86S)+h  
20.8  开始设计一个报表模版 409 .? !{.D  
21  一个新的project 413 ik7#Og~ 3  
21.1  创建一个新Job 414 MI',E?#yB  
21.2  默认设计 415 yq6!8OkF  
21.3  薄膜设计 416 s![=F}ck  
21.4  误差的灵敏度计算 420 ={={ W  
21.5  显色指数计算 422 W!XFaA$  
21.6  电场分布 424 \&ERSk2  
后记 426 G\jr^d\  
hl6al:Y  
|06J4H~k  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 7-W(gD!`  
LO# {   
《Essential Macleod中文手册》
cpu+"/\  
*Vv ;NA/  
目  录 -s:JD J*  
PeT A:MW  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 KC q3S  
第1章 介绍 ..........................................................1 "i_tO+  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 ;E* ^AW  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 zs[t<`2  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 pA+Qb.z5z  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 >%Y.X38Z[  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 ^6J*yV%  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 Pbm ;@ V  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 bTHJbpt*-  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 -W+dsZ Sv8  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 K8284A8v  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 O}IS{/^7  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 ~aA+L-s|  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 Haq23K  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 D=9x/ ) *G  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 Rg0\Ng4|G  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 RoJ&dK  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ag|d_;  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 K{q(/>:  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 szmjp{g0  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 G=yQYsC$  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 My)}oN7\z  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 %\:.rs^  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 4fP>;9[F  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 jWP(7}U  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 %[NefA(  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 V :d/;~  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 Kq-y1h]7H  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /91H! s  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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