线下培训课程——薄膜设计与镀膜工艺(上海)

发布:infotek 2023-10-11 11:59 阅读:603
时间地点 r$0=b -  
主办单位:讯技光电科技(上海)有限公司;苏州黉论教育咨询有限公司 k&^Megcb  
授课时间: 2023年10月25日(三)-27日(五)共3天  AM 9:00-PM 16:00 f1\x>W4z~\  
授课地点:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室 6"%[s@C  
课程讲师:讯技光电高级工程师&资深顾问 '^P Ud`  
课程费用:4800RMB/人(课程包含课程材料费、开票税金)
\ iP[iE=  
特邀专家介绍 VgoQz]z  
2%WZ-l!i  
易葵:中国科学院上海光机所正高级工程师,研究生导师,主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作,尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 Q~*A`h#  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项,入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。 7<NX;Fx  
课程概要 oWJ}]ip  
随着现代科技的飞速发展,光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高,其种类非常广泛,如增透膜,高反膜,分光膜,滤光片等,光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 Ppx*  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用,第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法,前两天主讲人为讯技光电高级工程师,第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵,分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。 R~c(^.|r  
课程大纲 TF3Tha]  
1. Essential Macleod软件介绍 s]B^Sz=  
1.1 介绍软件 2$3BluK  
1.2 创建一个简单的设计 e348^S&rG  
1.3 绘图和制表来表示性能 [ BN2c  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 m]u#Dm7h  
1.5 可用的材料模型(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann) 4.VEE~sH$  
1.6 特定设计的公式技术 blp)a  
1.7 交互式绘图 6+LX oR'  
2. 光学薄膜理论基础 SX F F  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 >EMCG.**  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 t?c*(?Xa  
3. 材料管理 :I&iDS>u1  
3.1 材料模型 )6AOP-M.9  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 o-x_[I|@  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 X;}_[ =-  
3.4 基板光学常数的提取 S>H W`   
4. 光学薄膜设计优化方法 A4&e#  
4.1 参考波长与g r&TxRsg{  
4.2 四分之一规则 otPEJ^W&  
4.3 导纳与导纳图 [s7I.rdGzz  
4.4 斜入射光学导纳 ? X:RrZ:/  
4.5 光学薄膜设计的进展 Q"Bgr&RJ  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 ,*C^ixNE  
4.6.1 优化目标设置 i[YYR,X|  
4.6.2 优化方法(单一优化,合成优化,模拟退火法,共轭梯度法,准牛顿法,针形优化,差分演化法) EIF[e|kZ<  
4.6.3 膜层锁定和链接 ob*2V! "  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 NZ.aI{  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 neZ_TT/3K  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 4/d#)6  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 uM4,_)L  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 pXQ&2s$  
5.5 如何在Function中编写脚本 h@Hmo^!9J  
6. 光学薄膜系统案例 WcUeWGC>  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 |kVxrq  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 q#WqU8~Y  
6.3 Stack应用范例说明 [PQG]"  
7. 薄膜性能分析 '.^JN@  
7.1 电场分布 | _S9U|  
7.2 公差与灵敏度分析 a~{St v  
7.3 反演工程 S"_vD<q  
7.4 均匀性,掺杂/孔隙材料仿真 L9AfLw5&X  
8. 真空技术 ! q1Ql18n  
8.1 常用真空泵介绍 X5<L  
8.2 真空密封和检漏 ||_F /AD  
9. 薄膜制备技术 X0=R @_KY  
9.1 常见薄膜制备技术 wTTQIo 60  
10. 薄膜制备工艺 d3 N %V.w  
10.1 薄膜制备工艺因素 =l_eliM/  
10.2 薄膜均匀性修正技术 |a"(Ds2U  
10.3 光学薄膜监控技术 ( NiuAy  
11. 激光薄膜 9(B)  
11.1 薄膜的损伤问题 89 lPeFQ`  
11.2 激光薄膜的制备流程 D@W m-  
11.3 激光薄膜的制备技术 RhDa`kV%t  
12. 光学薄膜特性测量 "<.b=mN-  
12.1 薄膜光谱测量 yBr{nFOgdY  
12.2 薄膜光学常数测量 "/\:Fdc^  
12.3 薄膜应力测量 ,f1+jC  
12.4 薄膜损伤测量 "n05y}  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析 o-(jSaH :;  
 $hN!DHz  
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L' )(Zn1  
书籍推荐《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装)
t71 0sWh{  
内容简介 &!_Ko`b8K  
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 %_3{Db`R>  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 {`}RYfZ  
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 )<~b*^kl\  
Lv5AtZl}  
讯技科技股份有限公司
2015年9月3日
&MKv _  
目录 , n EeI&  
Preface 1 g xLA1]>{  
内容简介 2 f{b"=hQ  
目录 i J}.p6E~j  
1  引言 1 @%jzVF7  
2  光学薄膜基础 2 qI'a|p4fn?  
2.1  一般规则 2 -'I)2/%g  
2.2  正交入射规则 3 'uPqe.#?  
2.3  斜入射规则 6 j5RM S V  
2.4  精确计算 7 *vj5J"Y(;t  
2.5  相干性 8 :{Y,Nsa  
2.6 参考文献 10 nGuF, 0j  
3  Essential Macleod的快速预览 10 `bxgg'V  
4  Essential Macleod的特点 32 ^y h  
4.1  容量和局限性 33 +6TKk~0e^  
4.2  程序在哪里? 33 _]Hn:O"o  
4.3  数据文件 35 0_Y;r{3m"  
4.4  设计规则 35 E@N_~1  
4.5  材料数据库和资料库 37 Db3tI#  
4.5.1材料损失 38 EoY570PN  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 HAU8H'h  
4.5.2 材料库 41 fNlUc  
4.5.3导出材料数据 43 FB</~ g  
4.6  常用单位 43 'Y-c*q  
4.7  插值和外推法 46 fa!iQfr  
4.8  材料数据的平滑 50 KpK'?WhX7^  
4.9 更多光学常数模型 54 WIb U^WJ0  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Aimgfxag  
4.11 撤销和重做 56 ?^6RFbke+  
4.12  设计文档 57 '7xY ,IY  
4.10.1  公式 58 8d>OtDLa  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59  k&rl%P  
4.10.3  沉积密度 59 &KD m5p  
4.10.4 平行和楔形介质 60 5 &VLq  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 RLIugz{IH  
4.10.4  性能 61 Cx@,J\rsQ  
4.10.5  保存设计和性能 64 Ml)WY#7  
4.10.6  默认设计 64 0ogTQ`2Z:  
4.11  图表 64 kdF# Nm  
4.11.1  合并曲线图 67 i,V~5dE[I<  
4.11.2  自适应绘制 68 3L;)asF  
4.11.3  动态绘图 68 rA_e3L@v#[  
4.11.4  3D绘图 69 ;,F}!R  
4.12  导入和导出 73 7.]xcJmt>'  
4.12.1  剪贴板 73 !e%#Zb MIo  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 \K>6-0r|  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 /njN*rhx&Z  
4.13  背景 77 vk$]$6l2  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ++FMkeHZ  
4.15  生成Rugate 84 Nc]]e+N#V  
4.16  参考文献 91 KBOxr5w  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 ")8wu1V-  
5.1  Jobs 92 x0 j$]$  
5.2  创建一个新Job(工作) 93 V%3K")  
5.3  输入材料 94 K.1#cf ^'  
5.4  设计数据文件夹 95 WJhI6lu  
5.5  默认设计 95 4sG^ bZ,  
6  细化和合成 97 qf'uXH  
6.1  优化介绍 97 O!;!amvz  
6.2  细化 (Refinement) 98 ]ErAa"?  
6.3  合成 (Synthesis) 100 A}W&=m8!  
6.4  目标和评价函数 101 ;Cv x48  
6.4.1  目标输入 102 ?}O\'Fa8  
6.4.2  目标 103 o^lKM?t  
6.4.3  特殊的评价函数 104 i)eub`uMy  
6.5  层锁定和连接 104 S=o Ab&  
6.6  细化技术 104 F_@PSA+  
6.6.1  单纯形 105 0OlB;  
6.6.1.1 单纯形参数 106 !d^5mati)T  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 <b{ApsRJf  
6.6.2.1 Optimac参数 108 $Y>LUZ)b&8  
6.6.3  模拟退火算法 109 y%z$_V]  
6.6.3.1 模拟退火参数 109 "tm2YUG},s  
6.6.4  共轭梯度 111 8+lM6O ~!  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 L0Xb^vx}m  
6.6.5  拟牛顿法 112 "S*lI^8Z!  
6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 #lF8"@)a-$  
6.6.6  针合成 113 l'mgjv~  
6.6.6.1 针合成参数 114 R ]HHbD&;  
6.6.7 差分进化 114 {Pdy KgM  
6.6.8非局部细化 115 vrQ/Yf:\B  
6.6.8.1非局部细化参数 115 @ VVBl I  
6.7  我应该使用哪种技术? 116 :+en8^r%  
6.7.1  细化 116 ~-|K5  
6.7.2  合成 117 wzF/`z&0?6  
6.8  参考文献 117 / bfLox  
7  导纳图及其他工具 118 t13wQ t  
7.1  简介 118 -Y;(yTtz  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 jsH7EhF{'  
7.2.1  四分之一波长规则 119 DzH1q r  
7.2.2  导纳图 120 w {6kU   
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 S9U`-\L0  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 j<e`8ex?  
7.5  斜入射导纳图 141 1 1O^)_|c  
7.6  对称周期 141 %Q]m6ciAM  
7.7  参考文献 142 5Z1b9.;.,  
8  典型的镀膜实例 143 wxN'Lv=R  
8.1  单层抗反射薄膜 145 [|E 93g  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 w}X<]u  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 A^*0{F?,)  
8.4  W-膜层 148 ms`R ^6Ra  
8.5  V-膜层 149 #]cO] I  
8.6  V-膜层高折射基底 150 8<{)|GoqB  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ~*ST fyFw  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 r3{Cuz  
8.9  四层抗反射薄膜 153 tg.[.v Ks  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 {OH "d  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Fe{lM' 8  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 ^ yyL4{/  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 qwoF4_VN  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 s<h]2W  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 JPR o<jt=  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 <My4 )3  
8.17  1/4波长堆栈 162 <y7nGXzLK  
8.18  陷波滤波器 163 )E;B'^RVR  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 F4`ud;1H  
8.20  褶皱 165 fX^ <H_1$G  
8.21  消偏振分光器1 169 >;:235'(M  
8.22  消偏振分光器2 171 4$~eG"wu  
8.23  消偏振立体分光器 172 x2%xrlv<J/  
8.24  消偏振截止滤光片 173 a9}7K/Y=d  
8.25  立体偏振分束器1 174 CD]"Q1 t}  
8.26  立方偏振分束器2 177 )O;6S$z9Y  
8.27  相位延迟器 178 8Qd*OO  
8.28  红外截止器 179 R6v~Sy&n!  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Bi:%}8STH  
8.30  49层长波带通滤波器 181 "}fJ 2G3  
8.31  55层短波带通滤波器 182 EhB0w;c  
8.32  47 红外截止器 183 `n)e] dn  
8.33  宽带通滤波器 184 %{Ib  
8.34  诱导透射滤波器 186 (_1(<Jw  
8.35  诱导透射滤波器2 188 v P;  
8.36  简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 AAuH}W>n  
8.37  高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 rvfS[@>v  
8.35  增益平坦滤波器 193 R2,Z`I  
8.38  啁啾反射镜 1 196 VC~1QPC9  
8.39  啁啾反射镜2 198 n-P<y  
8.40  啁啾反射镜3 199 C%&A9(jG  
8.41  带保护层的铝膜层 200 w5Lev}Rb  
8.42  增加铝反射率膜 201 .6C9N{?Tqf  
8.43  参考文献 202 B6UTooj  
9  多层膜 204 %La<]  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204  %JoHc?  
9.2  内部透过率 204 ^hZZ5(</8P  
9.3 内部透射率数据 205 inQ1 $   
9.4  实例 206 l5P!9P  
9.5  实例2 210 [A\DuJx  
9.6  圆锥和带宽计算 212 (r*"}"ZG  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 -A1@a= q  
10  光学薄膜的颜色 216 fj"1TtPq#  
10.1  导言 216 W2>VgMR [  
10.2  色彩 216 Y(mnGaVn  
10.3  主波长和纯度 220 pz4lC=H%o  
10.4  色相和纯度 221 +6~ut^YiM.  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 ~  p~  
10.6 色差 226 @3*S:;x  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 {gT4Oq__  
10.8  颜色渲染指数 234 -8zdkm8k  
10.9  色差计算 235 p ; ]Qxh  
10.10  参考文献 236 }vK8P r%  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 zy'e|92aO  
11.1  短脉冲 238 a=_:`S]}  
11.2  群速度 239 6K7DZ96L  
11.3  群速度色散 241 _|jEuif  
11.4  啁啾(chirped) 245 7H])2:)  
11.5  光学薄膜—相变 245 V |cPAT%  
11.6  群延迟和延迟色散 246 dp}s]`x+  
11.7  色度色散 246 DMdVE P"m  
11.8  色散补偿 249 k^@dDLr"  
11.9  空间光线偏移 256 @b&_xT  
11.10  参考文献 258 4++ &P9  
12  公差与误差 260 "UYlC0 S\  
12.1  蒙特卡罗模型 260 D]=V6l=  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 1`Z:/]hl  
12.2.1  误差工具 267 do[w&`jw8  
12.2.2  灵敏度工具 271 7TW&=(  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 W\EvMV"  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 ]WYddiF  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 :8t;_f  
12.3  参考文献 276 ZHM NG~!  
13  Runsheet 与Simulator 277 ]!>tP,<`'  
13.1  原理介绍 277 B4/\=MXb  
13.2  截止滤光片设计 277 \RS0mb  
14  光学常数提取 289 7I/a  
14.1  介绍 289 hsAk7KC  
14.2  电介质薄膜 289 :JXGgl<y  
14.3  n 和k 的提取工具 295 XwZR Kh\>=  
14.4  基底的参数提取 302 lJ Jn@A  
14.5  金属的参数提取 306 U<|*V5   
14.6  不正确的模型 306 \_)[FC@  
14.7  参考文献 311 Nt,:`o |  
15  反演工程 313 \MDhm,H<  
15.1  随机性和系统性 313  CH$K_\  
15.2  常见的系统性问题 314 9 lXnNK |]  
15.3  单层膜 314 bfq%.<W  
15.4  多层膜 314 Z&|Dp*Z  
15.5  含义 319 k x%\Cz  
15.6  反演工程实例 319 h$]nfHi_Q  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ,`!>.E.  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 uquY z_2  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 (c S'Nm5  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Ca["tks  
16.2  应力工具 335 LJSx~)@  
16.3  均匀性误差 339 t>vr3)W  
16.3.1  圆锥工具 339 cwE?+vB  
16.3.2  波前问题 341 5mX"0a_Q  
16.4  参考文献 343 _"t"orD6  
17  如何在Function(模块)中编写操作数 345 "^)$MAZ  
17.1  引言 345 kl|m @Nxp  
17.2  操作数 345 d@? zCFD  
18  如何在Function中编写脚本 351 qtjx<`EK>  
18.1  简介 351 aJ J)ZP2+  
18.2  什么是脚本? 351 06 an(& a9  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 =, 64Qbau  
18.4  基础 352 ^7Ebg5<  
18.4.1  Classes(类别) 352 G;e)K\[J  
18.4.2  对象 352 S;" $02]  
18.4.3  信息(Messages) 352 62o nMY  
18.4.4  属性 352  GPrq(  
18.4.5  方法 353 ~H4Tr[8a  
18.4.6  变量声明 353 (g>&ov(d  
18.5  创建对象 354 zG7y$\A  
18.5.1  创建对象函数 355 \;Sl5*kr  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 L*6>S_l[  
18.5.3 丢弃对象 356 F6ZL{2$k@  
18.5.4  总结 356 1QbD]"=n  
18.6  脚本中的表格 357 zUA -  
18.6.1  方法1 357 Xc9NM1bp=  
18.6.2  方法2 357 <Q8d{--o  
18.7 2D Plots in Scripts 358 MFz6y":~  
18.8 3D Plots in Scripts 359 ;73{n*a$  
18.9  注释 360 ~3$:C#"Dl  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 ;y;UgwAM  
18.11  一个更高级的脚本 362 n{!=gR.v.  
18.12  <esc>键 364 :Vrj[i-{  
18.13 包含文件 365 &S[>*+}{+  
18.14  脚本被优化调用 366  eI/@ut}v  
18.15  脚本中的对话框 368 BO>[\!=y  
18.15.1  介绍 368 km,@yU  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 {A\y 4D@  
18.15.3  输入框函数 370 7-}/{o*,5  
18.15.4  自定义对话框 371 ,Qt2?  
18.15.5  对话框编辑器 371 KkSv2 3In  
18.15.6  控制对话框 377 % O*)'ni  
18.15.7  更高级的对话框 380 ([NS%  
18.16 Types语句 384 #U6~U6@  
18.17 打开文件 385 lrmz'M'  
18.18 Bags 387 eK/rs r  
18.13  进一步研究 388 AQs_(LR  
19  vStack 389 #&Zj6en}M]  
19.1  vStack基本原理 389 h@{CMe  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 `jT1R!$3F  
19.3  五棱镜 393 85{@&T  
19.4 光束距离 396 bKQ-PM&I/t  
19.5 误差 399 H,)2Ou-Wn  
19.6  二向分色棱镜 399 N#^o,/  
19.7  偏振泄漏 404 Lmc"q FzK  
19.8  波前误差—相位 405 cN7|Zsc\  
19.9  其它计算参数 405 6z5?9I4[  
20  报表生成器 406 `llSHsIkXb  
20.1  入门 406 TYedem<$  
20.2  指令(Instructions) 406 Y~ Nt9L  
20.3  页面布局指令 406 8cbgP$X  
20.4  常见的参数图和三维图 407 41o ~5:&  
20.5  表格中的常见参数 408 mk +BeK  
20.6  迭代指令 408 B0!W=T\  
20.7  报表模版 408 KCfcEz  
20.8  开始设计一个报表模版 409 7.B]B,]  
21  一个新的project 413 ?Q: KW  
21.1  创建一个新Job 414 bAL!l\&2  
21.2  默认设计 415 !qJ|`o Y  
21.3  薄膜设计 416 _UUp+Hz  
21.4  误差的灵敏度计算 420 CQ#%v%  
21.5  显色指数计算 422 tSq`_[@  
21.6  电场分布 424 EYU3Pl%  
后记 426 FhMl+Ou  
R1\$}ep^  
XD|vB+j\O  
书籍推荐书籍名称:《Essential Macleod中文手册》 ?N@p~ *x  
Z"a]AsG/Q#  
《Essential Macleod中文手册》
} mEsb?  
|79n 1;+\?  
目  录 cz$q~)I$  
A@OSh6/{h  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 |I=\+P}s  
第1章 介绍 ..........................................................1 l}mzCIw%  
第2章 软件安装 ..................................................... 3 Z#|IMmT;*=  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 {1]Of'x'  
第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 6Er%td)f  
第5章 软件结构 ............................................................... 21 ]}jY] l  
第6章 应用窗口 ................................................................. 44 @W*Zrc1NF  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62 .p(~/MnO  
第8章 图形窗口 .................................................................. 100 _z \PVTT  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 oF#]<Z\  
第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 [&p^h  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116 vq*)2.  
第12章 优化和综合 ..................................................................120 &B>YiA  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149 Q2ky|  
第14章 多层膜 ........................................................................... 167 |%-:qk4rG  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180 s~Od(,K  
第16章 逆向工程 ................................................................ 200 6"U)d7^  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208 $5a%hK  
第18章 堆栈 ......................................................................... 213 N;d@)h(N!  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229 t /CE,DQ  
第20章 运行表单 .................................................................... 251 7= x]p  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271 EcW$'>^  
第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 zq&,KZ  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 ~85Pgb<  
第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 rWMG_eP:  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 \~bE|jWbj  
第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 nyR4E}@:O  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 ok7yFm1\  
第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 rocG;$[  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316
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