@ px2/x 内容简介
q;a"M7 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
mucKmb/ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
cc`+rD5I- 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
HjCcfOej #~QkS_ 讯技科技股份有限公司
'qel3Fs" 2015年9月3日
'*gY45yT` 目录
qM%l Preface 1
w6FtDl$ 内容简介 2
KYBoGCS > 目录 i
{[&$W8Li 1 引言 1
s\&qvL1D 2 光学薄膜基础 2
Cn+'!?!d, 2.1 一般规则 2
#fdQ\)#q> 2.2 正交入射规则 3
${ fJ] 2.3 斜入射规则 6
[C_Dv-d 2.4 精确计算 7
t$+[(}@+ 2.5 相干性 8
4'EC(NR7N 2.6 参考文献 10
%z1y3I|`[t 3 Essential Macleod的快速预览 10
a2Q_K2t 4 Essential Macleod的特点 32
,F^Rz. 4.1 容量和局限性 33
VaKBS/y" 4.2 程序在哪里? 33
F&pJ faig 4.3 数据文件 35
Rf*cW&}% 4.4 设计规则 35
h|m>JDxn 4.5 材料数据库和
资料库 37
q8 jI
y@ 4.5.1材料损失 38
&\K p_ AR 4.5.1材料数据库和导入材料 39
oY Y?`<N# 4.5.2 材料库 41
1:{BC2P 4.5.3导出材料数据 43
6IRzm6d 4.6 常用单位 43
1=NP=ZB 4.7 插值和外推法 46
Vm6
0aXm_ 4.8 材料数据的平滑 50
?
}t[ 4.9 更多光学常数模型 54
aG&ay3[& 4.10 文档的一般编辑规则 55
|, ws 3 4.11 撤销和重做 56
Q--Hf$D]H 4.12 设计文档 57
zNg8Oq& 4.10.1 公式 58
2o5Pbdel 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
jbrx)9Z+% 4.10.3 沉积密度 59
(c3%rM m] 4.10.4 平行和楔形介质 60
o]gS=iLp 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
3/d`s0O 4.10.4 性能 61
Dq$co1eT 4.10.5 保存设计和性能 64
C{gY*+ 4.10.6 默认设计 64
*(c><N 4.11 图表 64
1UyQ``v/ 4.11.1 合并曲线图 67
/U1"P 4.11.2 自适应绘制 68
H<YhO&D*u 4.11.3 动态绘图 68
?U^h:n 4.11.4 3D绘图 69
FEoH$.4 4.12 导入和导出 73
T~Z7kc' 4.12.1 剪贴板 73
RlW7l1h& 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
Wa {()Cz 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
sD_" 4.13 背景 77
aNcuT,=(?8 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
;`p!/9il 4.15 生成Rugate 84
335\0~;3 4.16 参考文献 91
Xj;\ROBH- 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
:f9O3QA 5.1 Jobs 92
}iu(-{Z 5.2 创建一个新Job(工作) 93
!}[cY76_ 5.3 输入材料 94
3jaY\(`%h 5.4 设计数据文件夹 95
S zqY@ 5.5 默认设计 95
;R#:? r;t 6 细化和合成 97
k~P{Rm;F 6.1 优化介绍 97
+0)zB;~7 6.2 细化 (Refinement) 98
? FlV<nE"J 6.3 合成 (Synthesis) 100
"@h 5
SF 6.4 目标和评价函数 101
\Gzo^w 6.4.1 目标输入 102
?M02|8- 6.4.2 目标 103
[p
6#fG * 6.4.3 特殊的评价函数 104
>mWu+Nn: 6.5 层锁定和连接 104
,vN0Jpf}\8 6.6 细化技术 104
jT6zpi~]E 6.6.1 单纯形 105
slV7,4S&! 6.6.1.1 单纯形
参数 106
qrq9NPf 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
tWo MUp 6.6.2.1 Optimac参数 108
qUW>qi, 6.6.3 模拟退火算法 109
0'{`"QD\IW 6.6.3.1
模拟退火参数 109
dE[_]2];P 6.6.4 共轭梯度 111
*`(/wE2v] 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
4_A9o9&_Rh 6.6.5 拟牛顿法 112
#9 Fe, 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
lvyD#|P 6.6.6 针合成 113
;~Em,M"o 6.6.6.1 针合成参数 114
Rlq6I?S+ 6.6.7 差分进化 114
$S|2'jc 6.6.8非局部细化 115
qtv>`:neB 6.6.8.1非局部细化参数 115
@3UVl^T 6.7 我应该使用哪种技术? 116
uy,ySBY 6.7.1 细化 116
[xVE0l*\ 6.7.2 合成 117
-6()$cl}0 6.8 参考文献 117
gUrb\X 7 导纳图及其他工具 118
!iOuIYjV 7.1 简介 118
fC$~3v 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
jJ' LM>e 7.2.1 四分之一
波长规则 119
/)ubyl]^p 7.2.2 导纳图 120
Z_^v#FJ'l 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
Nr#Y]9nA 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
)~](qLSl 7.5 斜入射导纳图 141
B1&