$DE&J4K 内容简介
E-SG8U; Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
)4m_Ap\ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
|r !G, 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
AY88h$a BIj 讯技科技股份有限公司
nNQ-"t 2015年9月3日
2*'ciH37 目录
JDlBVZ! Preface 1
iRve) 内容简介 2
X=,6d9, 目录 i
;;Tq$#vd 1 引言 1
W.[BPR 2 光学薄膜基础 2
-Qb0:]sV# 2.1 一般规则 2
FYl3c 2.2 正交入射规则 3
U=m=1FYaG 2.3 斜入射规则 6
d.r Y-k 2.4 精确计算 7
A[JM4x
2.5 相干性 8
niWx^gKb$ 2.6 参考文献 10
e=>%^F 3 Essential Macleod的快速预览 10
l$M +.GB< 4 Essential Macleod的特点 32
vYnftJK& 4.1 容量和局限性 33
:Ss3ck*= 4.2 程序在哪里? 33
KB[QZ`"%! 4.3 数据文件 35
Y/lN@ 4.4 设计规则 35
XU9'Rfp 4.5 材料数据库和
资料库 37
sfI N)jh 4.5.1材料损失 38
~L'nzquF 4.5.1材料数据库和导入材料 39
SFpQ# 4.5.2 材料库 41
I7G,`h+H 4.5.3导出材料数据 43
P']Y(
!L 4.6 常用单位 43
28oJFi] 4.7 插值和外推法 46
o^GC=Aca` 4.8 材料数据的平滑 50
SdI1}& 4.9 更多光学常数模型 54
H[nz]s 4.10 文档的一般编辑规则 55
9,WG!4:+W
4.11 撤销和重做 56
t?3BCm$Mi 4.12 设计文档 57
7cw]v"iv 4.10.1 公式 58
;rHz;]si 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
xa#gWIP* 4.10.3 沉积密度 59
;BVDt 4.10.4 平行和楔形介质 60
h8.FX-0& = 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
fl)zQcA 4.10.4 性能 61
9h&yuS'Yj 4.10.5 保存设计和性能 64
5f_7&NxT 4.10.6 默认设计 64
[z+x"9l0! 4.11 图表 64
W~NYU 4.11.1 合并曲线图 67
wd+O5Lr.R 4.11.2 自适应绘制 68
HNMBXXf,B 4.11.3 动态绘图 68
2.qpt'p[ 4.11.4 3D绘图 69
-u~eZ?(!Ye 4.12 导入和导出 73
EfKntrom[ 4.12.1 剪贴板 73
]M\q0>HoJ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
Q|//Z 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
jL_5]pzJ 4.13 背景 77
bA*"ei+!
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
XhA4:t 4.15 生成Rugate 84
4)nt$fW 4.16 参考文献 91
Z =
ik{/ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
"dq>)JF\ 5.1 Jobs 92
~`[8"YUL 5.2 创建一个新Job(工作) 93
8&?p 5.3 输入材料 94
\(bj(any 5.4 设计数据文件夹 95
-TZ^ ~s 5.5 默认设计 95
3?^NN|xg 6 细化和合成 97
}.t^D| 6.1 优化介绍 97
)Ga8`t" 6.2 细化 (Refinement) 98
pN+I]NgQ 6.3 合成 (Synthesis) 100
GhiHA9. 6.4 目标和评价函数 101
+.K*n& 6.4.1 目标输入 102
#[(gIOrNn8 6.4.2 目标 103
X+*<B(E 6.4.3 特殊的评价函数 104
C*Xik9n 6.5 层锁定和连接 104
>uW^.e "F 6.6 细化技术 104
C[0MA ,^ 6.6.1 单纯形 105
]_\AHnJ 6.6.1.1 单纯形
参数 106
MYu`c[$jZ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
UQnBqkE 6.6.2.1 Optimac参数 108
RUqO!s~#rY 6.6.3 模拟退火算法 109
TH>,v 6.6.3.1
模拟退火参数 109
sX!3_'- 6.6.4 共轭梯度 111
Nuo^+z
E 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
l-cW;b~ 6.6.5 拟牛顿法 112
zF?31\GOX 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
d~sJ=) 6.6.6 针合成 113
n_1jHJo 6.6.6.1 针合成参数 114
M$F{N 6.6.7 差分进化 114
hAlPl<BO#V 6.6.8非局部细化 115
{wHvE4F2 6.6.8.1非局部细化参数 115
N6WPTUQ1mF 6.7 我应该使用哪种技术? 116
3hH>U%`- 6.7.1 细化 116
lS#7xh 6.7.2 合成 117
b]"2VN 6.8 参考文献 117
?P%|P 7 导纳图及其他工具 118
[A|(A$jl 7.1 简介 118
4Q@\h=r 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
#jOOsfH|k 7.2.1 四分之一
波长规则 119
VZHr-z$6n 7.2.2 导纳图 120
q ?(A!1(u 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
/q T E 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
g
,`F<CF9 7.5 斜入射导纳图 141
RXUA!=e 7.6 对称周期 141
h,]tQ#!s8 7.7 参考文献 142
:,jPNuOA 8 典型的镀膜实例 143
Y$>+U 8.1 单层抗反射薄膜 145
K4_~ruhr 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
bAN 10U 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
HJc<Gwm 8.4 W-膜层 148
qI(W$ 8.5 V-膜层 149
kea e.6[ 8.6 V-膜层高折射基底 150
J0&zb'1 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
*@CVYJ'< 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
&Q2NU$ 8.9 四层抗反射薄膜 153
jMTRcj];( 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
,<7"K& 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
a:=q8Qy 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
lQ+Ru8I 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
f#*h^91x 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
0Ulxp 8.15十五层宽带抗反射膜 159
pTc$+Z73 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
lt }r}HM+ 8.17 1/4波长堆栈 162
X'YfjbGo 8.18 陷波滤波器 163
G%xb0%oi]% 8.19 厚度调制陷波滤波器 164
/7c2OI=\ 8.20 褶皱 165
` 52%XI 8.21 消偏振分光器1 169
W/#KX}4 8.22 消偏振分光器2 171
7bctx_W&6 8.23 消偏振立体分光器 172
t8L<x 8.24 消偏振截止滤光片 173
aeEw# 8.25 立体偏振分束器1 174
|E46vup 8.26 立方偏振分束器2 177
T+`xr0 8.27 相位延迟器 178
pw0Px 8.28 红外截止器 179
N!tpzHXw 8.29 21层长波带通滤波器 180
H+S~ bzz 8.30 49层长波带通滤波器 181
59&T