y w:=$e5 内容简介
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Ga^[ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
{FR+a** 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
ol}}c6 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
S 9;FD 3 Z9i~>k 讯技科技股份有限公司
Lm+E? Ca 2015年9月3日
Z<'iT%6+r 目录
iYGa4@/uM Preface 1
/!U(/ 内容简介 2
q><wzCnRu~ 目录 i
umt(e:3f5 1 引言 1
[d=BN ,? 2 光学薄膜基础 2
#4V->I 2.1 一般规则 2
~J
>Jd 2.2 正交入射规则 3
O6ltGtF 2.3 斜入射规则 6
eF?jNO3 2.4 精确计算 7
f6m
h_l 2.5 相干性 8
B/B`=%~5_^ 2.6 参考文献 10
-c#vWuLl 3 Essential Macleod的快速预览 10
_~;K] 4 Essential Macleod的特点 32
F(w<YU%6 4.1 容量和局限性 33
cL4Xh|NBp 4.2 程序在哪里? 33
yF-`f
_ 4.3 数据文件 35
QV
-ZP'e^ 4.4 设计规则 35
$5@[l5cJU; 4.5 材料数据库和
资料库 37
0>
QqsQ 4.5.1材料损失 38
dJ~Occ 1~r 4.5.1材料数据库和导入材料 39
xu>grj 4.5.2 材料库 41
lU`t~|>r+ 4.5.3导出材料数据 43
uEkGo5 4.6 常用单位 43
I p|[ 4.7 插值和外推法 46
ek d[|g 4.8 材料数据的平滑 50
/< Dtu UM 4.9 更多光学常数模型 54
QiaBZAol 4.10 文档的一般编辑规则 55
gFXz:!A 4.11 撤销和重做 56
)Jh:~9L%=' 4.12 设计文档 57
>^g\s]c[ 4.10.1 公式 58
$<L@B|}F) 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
C1OiM b(: 4.10.3 沉积密度 59
CDT;AdRw7 4.10.4 平行和楔形介质 60
me90|GOx+ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
$5DlCN 4.10.4 性能 61
:bkmm,%O 4.10.5 保存设计和性能 64
<slrzc_>& 4.10.6 默认设计 64
sIRfC<
/P 4.11 图表 64
6UU<:KH 4.11.1 合并曲线图 67
o+}G/*O8 4.11.2 自适应绘制 68
VdGpreRPC 4.11.3 动态绘图 68
- x; xQ 4.11.4 3D绘图 69
xdMY2u 4.12 导入和导出 73
HTSk40V 4.12.1 剪贴板 73
PmtXD6p3( 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
0XI6gPo% 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
kpMo7n 4.13 背景 77
T-x}o 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
W*2P+H% 4.15 生成Rugate 84
P!lfk:M^; 4.16 参考文献 91
<&tdyAT?& 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
TV/ EC#48 5.1 Jobs 92
NMzq10M=6 5.2 创建一个新Job(工作) 93
B[d%?L_ 5.3 输入材料 94
:mt<]Oy3 5.4 设计数据文件夹 95
'_ys4hz} 5.5 默认设计 95
spWo{ 6 细化和合成 97
5=1Ml50 6.1 优化介绍 97
i;\n\p1 6.2 细化 (Refinement) 98
{
PS0.UZ 6.3 合成 (Synthesis) 100
CD4@0Z+ 6.4 目标和评价函数 101
Ao\Im(? 6.4.1 目标输入 102
RL*b47, 6.4.2 目标 103
1!
5VWF0 6.4.3 特殊的评价函数 104
Q'YakEv >= 6.5 层锁定和连接 104
{:=]J4] 6.6 细化技术 104
n*9nzx#q 6.6.1 单纯形 105
*a-KQw
6.6.1.1 单纯形
参数 106
yi2F#o 'K 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
Az/B/BLB 6.6.2.1 Optimac参数 108
X2{Aa T*M 6.6.3 模拟退火算法 109
q9c-UQB(! 6.6.3.1
模拟退火参数 109
#q5tG\gnM 6.6.4 共轭梯度 111
Zh_3ydMD1 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
WT}xCni 6.6.5 拟牛顿法 112
MjK<n[. 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
QY*F(S,\ 6.6.6 针合成 113
G[n;%c~`+ 6.6.6.1 针合成参数 114
1v*N]}`HU 6.6.7 差分进化 114
i?,\>LTG 6.6.8非局部细化 115
Bq,MTzxD 6.6.8.1非局部细化参数 115
z'\BZ5riX< 6.7 我应该使用哪种技术? 116
j} w 6.7.1 细化 116
YD0j&@. 6.7.2 合成 117
$"va8, 6.8 参考文献 117
fP 3t0cp 7 导纳图及其他工具 118
(px3o'ls h 7.1 简介 118
=Z..&H5i 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
M|R\[
Zf 7.2.1 四分之一
波长规则 119
Hm+VGH'H? 7.2.2 导纳图 120
=&~ K;=: 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
Q]OR0-6<. 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
0v``4z2Z 7.5 斜入射导纳图 141
X]dN1/_ 7.6 对称周期 141
#}Bv/`t 7.7 参考文献 142
3N4kW[J2i 8 典型的镀膜实例 143
(3=bKcD' 8.1 单层抗反射薄膜 145
! 6R| 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
->Fsmb+R 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
5?|y%YH;R\ 8.4 W-膜层 148
mRN[lj 8.5 V-膜层 149
w}8=sw 8.6 V-膜层高折射基底 150
t{`uN 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
VBW][f 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
n^nQrRIp 8.9 四层抗反射薄膜 153
iH>b"H> 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
h!tg+9% 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
]#7baZ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
y,`q6(& 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
XW+-E^d 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
-s^cy+jd 8.15十五层宽带抗反射膜 159
E!`/XB/nA 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
BM5)SgK 8.17 1/4波长堆栈 162
O%<+&