kLQPa[u4 内容简介
j9u/R01d Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
uQazUFw 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
ty[bIaQi 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
'; ,DgR;' _*h,,Q 讯技科技股份有限公司
34k<7X`I 2015年9月3日
"_]n_[t2C 目录
b|U&{I>TH Preface 1
CdgZq\ 内容简介 2
2ikY.Xi6 目录 i
!c[(#g 1 引言 1
ojU:RRr4l$ 2 光学薄膜基础 2
xr+K:
bw 2.1 一般规则 2
}Iz'#I
Xx 2.2 正交入射规则 3
exrsYo!% 2.3 斜入射规则 6
w~+5FSdH 2.4 精确计算 7
_+YCwg 2.5 相干性 8
jm0J)Z_"nr 2.6 参考文献 10
i71, 3 Essential Macleod的快速预览 10
uN20sD} 4 Essential Macleod的特点 32
l_Gv dD 4.1 容量和局限性 33
RB.&,1 4.2 程序在哪里? 33
l|z
'Lwwm5 4.3 数据文件 35
?F]Yebp^ 4.4 设计规则 35
tgK$}#.* 4.5 材料数据库和
资料库 37
h~haA8i?{ 4.5.1材料损失 38
^IGutZov 4.5.1材料数据库和导入材料 39
&S}%)g%Iv9 4.5.2 材料库 41
gQ4Q
h; 4.5.3导出材料数据 43
5!u.w 4.6 常用单位 43
5_Yl!= 4.7 插值和外推法 46
__r]@hY 4.8 材料数据的平滑 50
H((!
BRl 4.9 更多光学常数模型 54
[` ~YPUR* 4.10 文档的一般编辑规则 55
rStfluPL 4.11 撤销和重做 56
0yr=$F(]s 4.12 设计文档 57
o:B?gDM 4.10.1 公式 58
gXN#<g,:^ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
x4|>HY<p? 4.10.3 沉积密度 59
(e sTb, 4.10.4 平行和楔形介质 60
^_ <jg0V 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
.WM 0x{t/ 4.10.4 性能 61
z1[2.&9D- 4.10.5 保存设计和性能 64
s2A3.SN 4.10.6 默认设计 64
?#?[6t 4.11 图表 64
Dz/I"bZLC 4.11.1 合并曲线图 67
Sp$~)f' 4.11.2 自适应绘制 68
=S/$h}Vi 4.11.3 动态绘图 68
| n5F_RL 4.11.4 3D绘图 69
m<)0XE6w 4.12 导入和导出 73
g.OBh_j-v 4.12.1 剪贴板 73
#R$d6N[H 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
08AC9 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
Qb}7lm{r 4.13 背景 77
le*mr0a 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
W$LaXytmak 4.15 生成Rugate 84
Cc*"cQe 4.16 参考文献 91
CqX2R:# 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
9z7^0Ruw 5.1 Jobs 92
*n mr4Q'v{ 5.2 创建一个新Job(工作) 93
ModwJ
w 5.3 输入材料 94
<![tn#_ 5.4 设计数据文件夹 95
YVt#( jl 5.5 默认设计 95
6*,'A|t?y 6 细化和合成 97
-5,QrMM< 6.1 优化介绍 97
9n{tbabJ 6.2 细化 (Refinement) 98
02E-|p; 6.3 合成 (Synthesis) 100
jv7-i'I@ 6.4 目标和评价函数 101
=g4^tIYq 6.4.1 目标输入 102
RG/M- 6.4.2 目标 103
d%_v
eVIe 6.4.3 特殊的评价函数 104
2|]$hjs 6.5 层锁定和连接 104
*KNj5>6= 6.6 细化技术 104
gX<"-,5jc 6.6.1 单纯形 105
Z7RGOZQ}G 6.6.1.1 单纯形
参数 106
fkE4[X7f 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
~qQSt% 6.6.2.1 Optimac参数 108
edld(/wu~ 6.6.3 模拟退火算法 109
3 EH/6 6.6.3.1
模拟退火参数 109
ETvn$ Jdp 6.6.4 共轭梯度 111
=ic"K6mhq 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
D QO~<E6c 6.6.5 拟牛顿法 112
"?EoYF_ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
nEu,1 6.6.6 针合成 113
?B
;+, 6.6.6.1 针合成参数 114
%UZ_wsY\ 6.6.7 差分进化 114
']1\nJP[=X 6.6.8非局部细化 115
)6U&^9= 6.6.8.1非局部细化参数 115
*izPLM}+ 6.7 我应该使用哪种技术? 116
=H&{*Ja 6.7.1 细化 116
{3=M-U~r 6.7.2 合成 117
r&sm&4)p-5 6.8 参考文献 117
1A\Jh3;Q 7 导纳图及其他工具 118
$"&0 7.1 简介 118
SA_5.. 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
-w
nlJi1f 7.2.1 四分之一
波长规则 119
S^nshQI 7.2.2 导纳图 120
A41*4!L= 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
OZ 4uk.) 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
?U'c;*O- 7.5 斜入射导纳图 141
l/9V59Fv9 7.6 对称周期 141
2)}ic2]pn 7.7 参考文献 142
lM
]n 8 典型的镀膜实例 143
X v;} !z 8.1 单层抗反射薄膜 145
mU.(aLHW 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
Zwj\Hz. 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
F<SMU4]YdG 8.4 W-膜层 148
1L722I@ 8.5 V-膜层 149
',GWH:B 8.6 V-膜层高折射基底 150
CVfQ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
$s$j</.q 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
*Y!'3|T 8.9 四层抗反射薄膜 153
tlhYk=yq 8.10 Reichert抗反射薄膜 154
p6~\U5rXm 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155
W,&z:z> 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156
dx['7l;I 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157
#B7_5y^ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158
vg@kPuOiO 8.15十五层宽带抗反射膜 159
;Zfglid 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161
7"}<J7"}) 8.17 1/4波长堆栈 162
}^r=( 8.18 陷波滤波器 163
mqL&b