Pxj?W'| 内容简介
,&sBa{0 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
"yI)F~A 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
m*BtD-{ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
,z?Re)qm <o_H]c-> 讯技科技股份有限公司
q
lL6wzq, 2015年9月3日
l\yFx 目录
#isBE}sT{ Preface 1
j!;?=s 内容简介 2
.s_wP 目录 i
H!ZPP8]j> 1 引言 1
?hS n) 2 光学薄膜基础 2
!5}Ibb 2.1 一般规则 2
X}yEMe{T 2.2 正交入射规则 3
?.:C+*+ 2.3 斜入射规则 6
xcz1(R 2.4 精确计算 7
=J,aB p 2.5 相干性 8
mB$r>G/' 2.6 参考文献 10
:CN,I!: 3 Essential Macleod的快速预览 10
/._wXH 4 Essential Macleod的特点 32
.( vS/ 4.1 容量和局限性 33
6|05-x| 4.2 程序在哪里? 33
AO9F.A<T5 4.3 数据文件 35
i8nCTW 4.4 设计规则 35
33\{S$p 4.5 材料数据库和
资料库 37
4
~17s`+ 4.5.1材料损失 38
NwmO[pt+ 4.5.1材料数据库和导入材料 39
'Z-jj2t} 4.5.2 材料库 41
h]<Ld9 4.5.3导出材料数据 43
p3*}! ez4 4.6 常用单位 43
!9i,V{$c`" 4.7 插值和外推法 46
c8gdY` 4.8 材料数据的平滑 50
3_IuK6K2 4.9 更多光学常数模型 54
i` Es7 } 4.10 文档的一般编辑规则 55
er}/~@JJ 4.11 撤销和重做 56
[t
/hjm"$ 4.12 设计文档 57
zQ}:_ 4.10.1 公式 58
+"a .,-f! 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
16 o3ER 4.10.3 沉积密度 59
#zXkg[J6d 4.10.4 平行和楔形介质 60
JLRw`V,o7 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
X LPO_tD 4.10.4 性能 61
RaAi9b[/S 4.10.5 保存设计和性能 64
Fk>/ 4.10.6 默认设计 64
jd=k[Yqr 4.11 图表 64
a[)in ,3 4.11.1 合并曲线图 67
o\8yYX 4.11.2 自适应绘制 68
bzmT.! 4.11.3 动态绘图 68
q[l},nw 4.11.4 3D绘图 69
dapQ5JT/ 4.12 导入和导出 73
}@}jwi)l 4.12.1 剪贴板 73
@q2Yka 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
Ud:v3"1 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
APuG8
<R, 4.13 背景 77
8(D>ws$
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
\Btv76*, 4.15 生成Rugate 84
eQno]$-\ 4.16 参考文献 91
R1X9 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
f>5{SoM 5.1 Jobs 92
1Af~6jz 5.2 创建一个新Job(工作) 93
j"/i+r{"E 5.3 输入材料 94
sW#6B+5_k 5.4 设计数据文件夹 95
[a5L WW 5.5 默认设计 95
Xf9<kbRw/ 6 细化和合成 97
_odP: 6.1 优化介绍 97
6Ez}A|i 6.2 细化 (Refinement) 98
|Z$heYP:w 6.3 合成 (Synthesis) 100
y_38;8ex 6.4 目标和评价函数 101
h{yqNl 6.4.1 目标输入 102
7f'9Dm` 6.4.2 目标 103
(H<S&5[ 6.4.3 特殊的评价函数 104
S?*v p= 6.5 层锁定和连接 104
y:D|U!o2V 6.6 细化技术 104
myFjw@ 6.6.1 单纯形 105
>.SU=HG; 6.6.1.1 单纯形
参数 106
'i{kuTv 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
<n>Kc}c 6.6.2.1 Optimac参数 108
h2!We# 6.6.3 模拟退火算法 109
@X"p"3V 6.6.3.1
模拟退火参数 109
=g2;sM/ 6.6.4 共轭梯度 111
qn6Y(@<[ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111
S-npJh
6 6.6.5 拟牛顿法 112
.#6Dad=S* 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
&n6mXFF#>P 6.6.6 针合成 113
'AE)&56 6.6.6.1 针合成参数 114
sbrU;X_S 6.6.7 差分进化 114
%7Z_Hw 6.6.8非局部细化 115
*n N;!*J 6.6.8.1非局部细化参数 115
I7nt<l! 6.7 我应该使用哪种技术? 116
0Oc' .E9 6.7.1 细化 116
;-lk#D?n9 6.7.2 合成 117
ATv.3cy 6.8 参考文献 117
ngcXS2S_ 7 导纳图及其他工具 118
_LFZ 0 7.1 简介 118
,g#=pdX; 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
vL`wn= 7.2.1 四分之一
波长规则 119
"6lf~%R" 7.2.2 导纳图 120
q[nX<tO 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
C+cSy'VIK! 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
r
Ka7[/ 7.5 斜入射导纳图 141
ce/Rzid 7.6 对称周期 141
KO<Yc`Fs 7.7 参考文献 142
ddmTMfH 8 典型的镀膜实例 143
5v=%pQbY 8.1 单层抗反射薄膜 145
v-3In\T=^ 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
ZTWbe 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
n@mWBUM 8.4 W-膜层 148
5*{U!${a 8.5 V-膜层 149
07DpvhDQ 8.6 V-膜层高折射基底 150
wLPL9 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
7KnZ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
-]~&Pi