|nNcV~%~ 内容简介
"# *W#ohVA Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了
软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前
薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的
光学薄膜设计技术》。
v~mVf.j1 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。
uSfHlN4l 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。
Tz1^"tx9 B|m)V9A%- 讯技科技股份有限公司
s|\)Y*B` 2015年9月3日
wtS*-;W 目录
xO|r<R7d7 Preface 1
s+:|b~ 内容简介 2
l5D)UO 目录 i
g<Z :`00| 1 引言 1
#Y=^4 U` 2 光学薄膜基础 2
Bve|+c6W 2.1 一般规则 2
4\n
~
2.2 正交入射规则 3
'D21A8*N 2.3 斜入射规则 6
Go%Z^pF3CO 2.4 精确计算 7
Yc7YNC. 2.5 相干性 8
A|ZT;\ 2.6 参考文献 10
-`faXFW' 3 Essential Macleod的快速预览 10
*D|a`R!Y 4 Essential Macleod的特点 32
7${<u 0((! 4.1 容量和局限性 33
`G$>T#Dq 4.2 程序在哪里? 33
h ;*x1BVE 4.3 数据文件 35
P<vl+&* 4.4 设计规则 35
/"X_{3dq? 4.5 材料数据库和
资料库 37
.I^4Fc}&4 4.5.1材料损失 38
QoYEWXT|g 4.5.1材料数据库和导入材料 39
Wj.t4XG! 4.5.2 材料库 41
%5e| 4.5.3导出材料数据 43
fOi
Rstci 4.6 常用单位 43
p]kEH\
sh 4.7 插值和外推法 46
X /c8XLe" 4.8 材料数据的平滑 50
]^ R':YE 4.9 更多光学常数模型 54
YdhV
a!Y 4.10 文档的一般编辑规则 55
.`IhxE~mN 4.11 撤销和重做 56
Y:DopKRD 4.12 设计文档 57
W]po RTJ: 4.10.1 公式 58
T]\1gs41 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
GxhE5f; 4.10.3 沉积密度 59
'maX 4.10.4 平行和楔形介质 60
~uhW~bT 4.10.5 渐变折射率和散射层 60
]W3_]N 3 4.10.4 性能 61
%M96m 4.10.5 保存设计和性能 64
s*PKr6X+ 4.10.6 默认设计 64
`PARZ| 4.11 图表 64
p)SW(pS 4.11.1 合并曲线图 67
I~6)
Gk& 4.11.2 自适应绘制 68
2^B_iyF; 4.11.3 动态绘图 68
X,49(-~\ 4.11.4 3D绘图 69
9G[
DuYJI 4.12 导入和导出 73
k7U.]#5V 4.12.1 剪贴板 73
IP`lx 4.12.2 不通过剪贴板导入 76
<N)!s&D 4.12.3 不通过剪贴板导出 76
M8-8T 4.13 背景 77
KtaoOe 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
v-#,@&Uwq 4.15 生成Rugate 84
sRt7.fe 4.16 参考文献 91
@V
' HX 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92
%2:UsI 5.1 Jobs 92
+QN4hJK 5.2 创建一个新Job(工作) 93
0BXr[%{` 5.3 输入材料 94
N[cIr{XBGN 5.4 设计数据文件夹 95
! t!4CY 5.5 默认设计 95
N}5 6 细化和合成 97
8-<F4^i_i 6.1 优化介绍 97
Z Qlk 5 6.2 细化 (Refinement) 98
[3X\"x5@V 6.3 合成 (Synthesis) 100
u.yR oZ8/! 6.4 目标和评价函数 101
E7O3$B8 6.4.1 目标输入 102
S]@;`_?m{ 6.4.2 目标 103
k[8F: T- 6.4.3 特殊的评价函数 104
6'r;6T * 6.5 层锁定和连接 104
5$ik|e^:y 6.6 细化技术 104
$ 5" 6.6.1 单纯形 105
!\#Wq{p>W* 6.6.1.1 单纯形
参数 106
GFT@Pqq 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107
a6 gw6jQ 6.6.2.1 Optimac参数 108
Zv}F?4T~: 6.6.3 模拟退火算法 109
b"X1 6.6.3.1
模拟退火参数 109
~B[e*|d 6.6.4 共轭梯度 111
-Y524
6.6.4.1 共轭梯度参数 111
'=;e#
C`<{ 6.6.5 拟牛顿法 112
y`j_]qvt 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112
~g!!#ad 6.6.6 针合成 113
s={>{,E 6.6.6.1 针合成参数 114
n>)aw4 6.6.7 差分进化 114
1{M?_~g4 6.6.8非局部细化 115
}36A eJ7L 6.6.8.1非局部细化参数 115
] !*K|?VL 6.7 我应该使用哪种技术? 116
pT=^o 6.7.1 细化 116
,<Cl^ ^a, 6.7.2 合成 117
>\K=)/W2 6.8 参考文献 117
s O#cJAfuu 7 导纳图及其他工具 118
8`L]<Dm 7.1 简介 118
uQ3sRJi 7.2 薄膜作为导纳的变换 118
At@0G\^ 7.2.1 四分之一
波长规则 119
8Ze>
hEG 7.2.2 导纳图 120
b#@xg L*D 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124
qcO~}MJr}^ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125
_1?u AQ3, 7.5 斜入射导纳图 141
Pt85q?- > 7.6 对称周期 141
"iEnsP@'Wg 7.7 参考文献 142
]0'cdC 8 典型的镀膜实例 143
te[uAJ1 N 8.1 单层抗反射薄膜 145
ga|<S@u?} 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146
m|fcWN[ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147
2W0nA t 8.4 W-膜层 148
P]m{\K 8.5 V-膜层 149
3~fi#{ 8.6 V-膜层高折射基底 150
<SJ6<' 8.7 V-膜层高折射率基底b 151
1^^{;R7N 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152
GI{EP&