[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 5 B=^v#m  

图片:w800

n k2om$nN  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 CX m+)a-L  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 CpQN,-4  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 tbO H#|  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 rL5z]RY  
1. Essential Macleod软件介绍 <ioO,oS'  
1.1 介绍软件 CwX Z  
1.2 创建一个简单的设计 zuJtpMn  
1.3 绘图和制表来表示性能 !*`-iQo&  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 b<]n%Q'n  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） (@#M!'  
1.6 特定设计的公式技术 ;Q+xKh%  
1.7 交互式绘图 ?,yj")+  
2. 光学薄膜理论基础 X(7qZ P~  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 {$ep7;'d  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 _Ob@`  
3. 材料管理 &[hLzlrg  
3.1 材料模型 e]Zngt?b  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 0 &GRPu27  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 +,2Jzl'-  
3.4 基板光学常数的提取 ,<:!NF9  
4. 光学薄膜设计优化方法 iS
?42CV  
4.1 参考波长与g >s`J5I!  
4.2 四分之一规则 cv/_r#vN  
4.3 导纳与导纳图 SIKOFs  
4.4 斜入射光学导纳 .] `f,^v<c  
4.5 光学薄膜设计的进展 rS1fK1dys  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 *:O.97q@h  
4.6.1 优化目标设置 J6<rX[ yZe  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） Z;h<6[(  
4.6.3 膜层锁定和链接 S(mF%WJ  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 `EtS!zD~b  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 @zgdq  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 V i&*&"q  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 iZZ (4  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 >><.3  
5.5 如何在Function中编写脚本 ` \A(9u*  
6. 光学薄膜系统案例 VACiVKk  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 fo4.JyBk  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 |+$%kJR=  
6.3 Stack应用范例说明 w}{5#  
7. 薄膜性能分析 x2QIPUlf  
7.1 电场分布 (Y^X0yA/  
7.2 公差与灵敏度分析 \u&_sBLKV  
7.3 反演工程 ~y$!48o  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 F,5r9^,_  
8. 真空技术 Ys!>+nL|  
8.1 常用真空泵介绍 %AN/>\#p  
8.2 真空密封和检漏 u`(- -  
9. 薄膜制备技术 hd 0'u  
9.1 常见薄膜制备技术 7#<c>~   
10. 薄膜制备工艺 {Q<$Uo6V  
10.1 薄膜制备工艺因素 X{kpSA~  
10.2 薄膜均匀性修正技术 )NR Q2  
10.3 光学薄膜监控技术 VxzkQ}o  
11. 激光薄膜
z_ =Bt  
11.1 薄膜的损伤问题 _uc\ D R  
11.2 激光薄膜的制备流程
<58l;<0  
11.3 激光薄膜的制备技术
JCY~W=;v  
12. 光学薄膜特性测量 Z@gnsPN^r  
12.1 薄膜光谱测量 mA7m  
12.2 薄膜光学常数测量 .qA{xbu  
12.3 薄膜应力测量 Ys8SDlMo  
12.4 薄膜损伤测量  9dzdrT  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 S^Au#1e   
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 +wW@'X  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 B-d(@7,1  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 RwVaZJe)l  
*;|`E(  
VYw%01#  
{7MjP+\  
目录 *1@:'rJ  
Preface 1 +}Av-47`h  
内容简介 2 ,_ag;pt
9)  
目录 i \Ey~3&x9f  
1  引言 1 7FO'{Qq  
2  光学薄膜基础 2 IHC1G1KW=A  
2.1  一般规则 2 S-#q~X!yJ  
2.2  正交入射规则 3 =:+0)t=ao  
2.3  斜入射规则 6 ZX~ _g@  
2.4  精确计算 7 6x=Y
Qwn~  
2.5  相干性 8 LEECW_:  
2.6 参考文献 10 abxDB  
3  Essential Macleod的快速预览 10 F\ctuaLC  
4  Essential Macleod的特点 32 AnZclq
tb  
4.1  容量和局限性 33 AOrHU M[I  
4.2  程序在哪里？ 33 nY $tp  
4.3  数据文件 35 m+itno  
4.4  设计规则 35 S=3^Q;V/1  
4.5  材料数据库和资料库 37 ):EBgg4-N  
4.5.1材料损失 38 0|D&"/.R#!  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 TCvSc\Q[:1  
4.5.2 材料库 41 /XS&d%y  
4.5.3导出材料数据 43 &Np9kIMCB  
4.6  常用单位 43 `Pc3?~>0HH  
4.7  插值和外推法 46 =l<iI*J. M  
4.8  材料数据的平滑 50 _~aG|mAj
 
4.9 更多光学常数模型 54 HEA eo!  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Ri>?KrQF%  
4.11 撤销和重做 56 $\AEWFB  
4.12  设计文档 57 A>.2OC+  
4.10.1  公式 58 @tRMe64  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 d77r9  
4.10.3  沉积密度 59 6k?`:QK/sl  
4.10.4 平行和楔形介质 60 f c6g  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 y33~HsOJ  
4.10.4  性能 61 ^;F{)bmu+)  
4.10.5  保存设计和性能 64 8O1K[sEjui  
4.10.6  默认设计 64 j;K#]  
4.11  图表 64 zGc(Ef5`M6  
4.11.1  合并曲线图 67 Hoz56y  
4.11.2  自适应绘制 68 VF0dE  
4.11.3  动态绘图 68 !NKmx=I]  
4.11.4  3D绘图 69 pJ,@Y>  
4.12  导入和导出 73 wHsB,2H  
4.12.1  剪贴板 73 %IBL0NQT  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 LZ
*R[  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 |Y_ -  
4.13  背景 77 e,A)U5X  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 :6;e\
UE  
4.15  生成Rugate 84 @LLTB(@wR  
4.16  参考文献 91 &S74mV  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 6-,m}Ce\  
5.1  Jobs 92 IPA*-I57  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 h[XGC=%  
5.3  输入材料 94 yZ}d+7T}  
5.4  设计数据文件夹 95 <M[U#Q~?~e  
5.5  默认设计 95 Uz8hANN0_  
6  细化和合成 97 Tvf~P w  
6.1  优化介绍 97 ;)!"Ty|  
6.2  细化 (Refinement) 98 \Mi#{0f+q  
6.3  合成 (Synthesis) 100 & 7QH^  
6.4  目标和评价函数 101 k3@HI|  
6.4.1  目标输入 102 0o&}mKe  
6.4.2  目标 103 #-u [$TA  
6.4.3  特殊的评价函数 104 UCqs}U8  
6.5  层锁定和连接 104 <R1X\s.  
6.6  细化技术 104 Y9}8M27vQG  
6.6.1  单纯形 105 L~FTr  
6.6.1.1 单纯形参数 106 n+2J Dq|?p  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 |Svk^mq  
6.6.2.1 Optimac参数 108 w!q&  
6.6.3  模拟退火算法 109 heD,&OX  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 0|)19LR  
6.6.4  共轭梯度 111 DOm-)zl{|x  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 r!/0 j)  
6.6.5  拟牛顿法 112 9Yw]Y5l  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 ^>r^3C)_-  
6.6.6  针合成 113 r25Z`X Z  
6.6.6.1 针合成参数 114 fB#XhO  
6.6.7 差分进化 114 ,9/5T:2  
6.6.8非局部细化 115 `"y{;PCt_  
6.6.8.1非局部细化参数 115 q/6UK =  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 @Y'I,e  
6.7.1 　细化 116 m7 XjP2  
6.7.2　 合成 117 /! ^P)yU,  
6.8  参考文献 117 P%o44|[][  
7  导纳图及其他工具 118 4'At.<]jL  
7.1  简介 118 z<a2cQ?XQ  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 Ob&W_D^=N  
7.2.1  四分之一波长规则 119
dl/X."iv!  
7.2.2  导纳图 120 3;BvnD7  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ?e
i%RWo  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 P79R~m`  
7.5  斜入射导纳图 141 U'3Fou}  
7.6  对称周期 141 M9V-$ _)  
7.7  参考文献 142 mCb 9*|  
8  典型的镀膜实例 143 tjb/[RQ  
8.1  单层抗反射薄膜 145 _5\AS+[x  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 ~ v1W  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 VJ1*|r,  
8.4  W-膜层 148 Y-&|VE2  
8.5  V-膜层 149 e(\Q)re5Q  
8.6  V-膜层高折射基底 150 TU%"jb5  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 9.Ap~Ay.  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 DPPS?~Pq  
8.9  四层抗反射薄膜 153 %aLCH\e  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 <:cpz* G4  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 G\mKCaI8  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 /VtlG+dLl  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 HU[oR4E  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 )q(:eoLDm  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 ?N#[<kd  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161
Es
:6  
8.17  1/4波长堆栈 162 U(3(ZqP  
8.18  陷波滤波器 163 +v1-.z  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 y*KC*/'"  
8.20  褶皱 165 4hNwKe"Ki  
8.21  消偏振分光器1 169 /W9 &Ke  
8.22  消偏振分光器2 171 %AgA -pBp  
8.23  消偏振立体分光器 172 9UmBm#"  
8.24  消偏振截止滤光片 173 ;vUxO<cKFq  
8.25  立体偏振分束器1 174 z+6QZQk  
8.26  立方偏振分束器2 177 Kfd_uXL>  
8.27  相位延迟器 178 _sm;HH7'*  
8.28  红外截止器 179 yam}x*O\xn  
8.29  21层长波带通滤波器 180 $F1_^A[  
8.30  49层长波带通滤波器 181 : ~'Z(-a  
8.31  55层短波带通滤波器 182 #`58F
.  
8.32  47 红外截止器 183 Z3n~&!  
8.33  宽带通滤波器 184 g =x"cs/[  
8.34  诱导透射滤波器 186 SEU\}Ni{  
8.35  诱导透射滤波器2 188 Xv*}1PZH  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 (. H]|  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 {tmKCG  
8.35  增益平坦滤波器 193 =f4<({9  
8.38  啁啾反射镜 1 196 |<2 *v-a  
8.39  啁啾反射镜2 198 %ph"PR/t?  
8.40  啁啾反射镜3 199 r+TK5|ke  
8.41  带保护层的铝膜层 200 e7's)C>/'  
8.42  增加铝反射率膜 201 _y-B";Vmm  
8.43  参考文献 202 ~%KM3Vap  
9  多层膜 204 -=>U =|  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 Lv3XYZ
gW~  
9.2  内部透过率 204 w#
<^RKk  
9.3 内部透射率数据 205 n`QO(pZ6+  
9.4  实例 206 1(#RN9   
9.5  实例2 210 CnQg*+  
9.6  圆锥和带宽计算 212 $*i7?S@~-  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 cLHF9B5  
10  光学薄膜的颜色 216
Dx0O'uwR  
10.1  导言 216 p}f-c  
10.2  色彩 216 qTS@D  
10.3  主波长和纯度 220 O*ImLR)i+s  
10.4  色相和纯度 221 :F9q>  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 uNg'h/^NZ|  
10.6 色差 226 Q-jf8A]  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 QK'`=MU  
10.8  颜色渲染指数 234 kLq(!Gs  
10.9  色差计算 235
EM=xd~H  
10.10  参考文献 236 !+=Zjm4L  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 3)xbnR
k  
11.1  短脉冲 238 psu OJ-  
11.2  群速度 239 @$EjD3Z-  
11.3  群速度色散 241 /'mrDb_ip  
11.4  啁啾(chirped) 245 :TlAL# s&  
11.5  光学薄膜—相变 245 W?=$V>)  
11.6  群延迟和延迟色散 246 FQ0KUb}0  
11.7  色度色散 246 PaxK^*  
11.8  色散补偿 249 0K/G&c?;=  
11.9  空间光线偏移 256 b h*^
{  
11.10  参考文献 258 @~s~/[  
12  公差与误差 260 z'T=]- D  
12.1  蒙特卡罗模型 260 T G_bje  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 }2h't.Z<u  
12.2.1  误差工具 267 ZWFG?8lJ  
12.2.2  灵敏度工具 271 _/ct=  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 </|)"OD9  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 K]ca4Z  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 -.^
3;-[  
12.3  参考文献 276 eQ$e*|}"m  
13  Runsheet 与Simulator 277 & &6*ez  
13.1  原理介绍 277 ^l--zzO8l  
13.2  截止滤光片设计 277 wKGogf[(%  
14  光学常数提取 289 gm(De9u  
14.1  介绍 289 2YE7 23H=Z  
14.2  电介质薄膜 289 Xthtw*  
14.3  n 和k 的提取工具 295 A*a7\id!y  
14.4  基底的参数提取 302 -%>8.#~G  
14.5  金属的参数提取 306 E2kW=6VO>|  
14.6  不正确的模型 306 `bzr_fJ  
14.7  参考文献 311 {>wI8  
15  反演工程 313 5dqQws-,?1  
15.1  随机性和系统性 313 ;i.I&*t  
15.2  常见的系统性问题 314 <{E;s)hD?  
15.3  单层膜 314 Q! Kn|mnN  
15.4  多层膜 314 ax4*xxU  
15.5  含义 319 sfyBw  
15.6  反演工程实例 319 3R'.}^RN  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 l6V%"Lo/)  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 cES;bwQ  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 bo&\3  
16.1  光学性质的热致偏移 329 Ica3  
16.2  应力工具 335 09G9nu;&{  
16.3  均匀性误差 339 r@olC7&  
16.3.1  圆锥工具 339 D!X>O}
  
16.3.2  波前问题 341 :G
^
"e  
16.4  参考文献 343 JOJh,8C)6  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 >~h>#{&  
17.1  引言 345 VPWxHVf  
17.2  操作数 345 8n;kK?  
18  如何在Function中编写脚本 351 ok%EqO  
18.1  简介 351
Tku/OG'  
18.2  什么是脚本？ 351 anK[P'Y  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ]vRVo6@ k  
18.4  基础 352 jaK'
W  
18.4.1  Classes（类别） 352 j\!~9  
18.4.2  对象 352 I0I_vu  
18.4.3  信息（Messages） 352 TG4\%S$w  
18.4.4  属性 352 >sn"  
18.4.5  方法 353 h0T< :X  
18.4.6  变量声明 353 4,j4E@?pG9  
18.5  创建对象 354 |.y>[+Qb*  
18.5.1  创建对象函数 355 iP2U]d~M  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 |VTWw<{LX  
18.5.3 丢弃对象 356 I%
pCm||p  
18.5.4  总结 356 cC b>zI  
18.6  脚本中的表格 357 =>HIF#jU  
18.6.1  方法1 357 ,D:iQDG^  
18.6.2  方法2 357 yEE|e&#>  
18.7 2D Plots in Scripts 358 =ZCH1J5"  
18.8 3D Plots in Scripts 359 tU9rCL:P  
18.9  注释 360 01&*`0?  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 )WaX2uDA?  
18.11  一个更高级的脚本 362 qRgK_/[]  
18.12  <esc>键 364 | \AbL!u  
18.13 包含文件 365 -;l`hRW  
18.14  脚本被优化调用 366 M7`UoTc+>d  
18.15  脚本中的对话框 368 aw%>YrJ  
18.15.1  介绍 368 'u4}t5Bu5  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 )o05Vda  
18.15.3  输入框函数 370 "g x5XW&  
18.15.4  自定义对话框 371 6>@(/mh*  
18.15.5  对话框编辑器 371 b%=1"&JI:  
18.15.6  控制对话框 377 \7|s$ XQ\  
18.15.7  更高级的对话框 380 j'G"ZPw1  
18.16 Types语句 384 (jp1; #P!  
18.17 打开文件 385 `Mo~EHso.  
18.18 Bags 387 EZ:I$X  
18.13  进一步研究 388 Hi9 G^Q  
19  vStack 389 B(S5+Y  
19.1  vStack基本原理 389 sqm%iyC=q  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 1gF*Mf_7  
19.3  五棱镜 393 [37f#p  
19.4 光束距离 396 PFImqojHd  
19.5 误差 399 2z.k)Qx!Z  
19.6  二向分色棱镜 399 9)G:::8u7  
19.7  偏振泄漏 404 Ln"+nKr  
19.8  波前误差—相位 405 ~J8cS  
19.9  其它计算参数 405 ?9o#%?6k  
20  报表生成器 406 @)aXNQY  
20.1  入门 406 d/0/$Bz}P  
20.2  指令(Instructions) 406 pKOT Qf  
20.3  页面布局指令 406 C!aX45eg  
20.4  常见的参数图和三维图 407 FiV^n6-F`  
20.5  表格中的常见参数 408 qg_>`Bv"a  
20.6  迭代指令 408 N&R '$w  
20.7  报表模版 408 5O;/ lX!u  
20.8  开始设计一个报表模版 409 rC=p;BC@dD  
21  一个新的project 413 ?TL2'U|M  
21.1  创建一个新Job 414 wZ (uq?3S`  
21.2  默认设计 415 9b{g+lMZo  
21.3  薄膜设计 416 -L^0-g  
21.4  误差的灵敏度计算 420 w\0Oz?N  
21.5  显色指数计算 422 [15hci+-  
21.6  电场分布 424 TzD:bKE&  
后记 426 ,Ut!u)  
b?+Yo>yF8  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 zJB+C=]D7H  
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《Essential Macleod中文手册》 ~Mg8C9B?%3  
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目  录 Apw-7*/  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 =y,yQO  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 4wM$5  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 [T$$od[.  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 dpc=yXg>"c  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ?z4uze1  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 ByB0>G''.  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ;X9MA=b  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 oKMg7 3*  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 W#JVUGYD  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 % @^VrhS  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 (rY1O:*S  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ;GSfN  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 +v`^_  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 [nhLhl4S  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 E|8s2t  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 Bv |jo&0n  
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价  格：400元