[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 -BgzAxa  

图片:w800

p.n+m[  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 ZFY t[:  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 CUaI66  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 fXEF]C  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 &U*=D8!0  
1. Essential Macleod软件介绍 3u3(BY{"\F  
1.1 介绍软件 he;&KzEu  
1.2 创建一个简单的设计 /9QI^6&SX  
1.3 绘图和制表来表示性能 7ae8nZ3&  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 gyondcF  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） -tlRe12
 
1.6 特定设计的公式技术 EQET:a:
g  
1.7 交互式绘图 :"#EQq]ct
 
2. 光学薄膜理论基础 lrPiaSO`I  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 5\A[ra  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 '!I^Lfz-Z  
3. 材料管理 5VDqx@(  
3.1 材料模型 j ~:Dr  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 CD;C
z*c  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 PTXy:>]M  
3.4 基板光学常数的提取 a=+qR:wT  
4. 光学薄膜设计优化方法 l}
A8  
4.1 参考波长与g 8A~5@  
4.2 四分之一规则 !'Q/9%g  
4.3 导纳与导纳图 %(79;#2`  
4.4 斜入射光学导纳 Ph'*s{  
4.5 光学薄膜设计的进展 %qfql  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 DJ2EV^D+P  
4.6.1 优化目标设置 SxdH%agM  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） A
]id*RtY  
4.6.3 膜层锁定和链接 > SU2Jw  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 gBA UrY%]  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 ,|,DXw  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 K3Zc>QL{  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 o}C|N)'  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 9 ,=7Uh#7  
5.5 如何在Function中编写脚本 L1 1
/XpR  
6. 光学薄膜系统案例 \BOZhXfl'  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 p,.+i[V  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 BWamF{\d1a  
6.3 Stack应用范例说明 *,A?lX,9A  
7. 薄膜性能分析 K4b# y~@  
7.1 电场分布 2"*
7HS  
7.2 公差与灵敏度分析 9=p^E#d  
7.3 反演工程 a;jXMR  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 U?P5cN  
8. 真空技术 dq}60  
8.1 常用真空泵介绍 yJkERiJV  
8.2 真空密封和检漏 }J"}5O2,b  
9. 薄膜制备技术 UT|FV twO  
9.1 常见薄膜制备技术 -]\cUQ0  
10. 薄膜制备工艺 L s6P<"V  
10.1 薄膜制备工艺因素 UE^_SZ  
10.2 薄膜均匀性修正技术 Yj99[ c#]  
10.3 光学薄膜监控技术 ,iY/\ U''  
11. 激光薄膜 }>Gnpc  
11.1 薄膜的损伤问题 L8("1_  
11.2 激光薄膜的制备流程 }YH@T]O}  
11.3 激光薄膜的制备技术 l3dGe'  
12. 光学薄膜特性测量 b1Bu5%bt,:  
12.1 薄膜光谱测量 1:%HE*r  
12.2 薄膜光学常数测量 #-?pY"N,  
12.3 薄膜应力测量 ]@)T]  
12.4 薄膜损伤测量 +Bk" khH  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 iTJSW  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Ta^l1]9.*  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 a=}JW]  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 teh$W<C  
`oQ)qa_  
q|,cMPS3  
gU1E6V-Jm  
目录 o%_MTCANy  
Preface 1 M il ![A1  
内容简介 2 <Hw)},_*  
目录 i q y"VrR  
1  引言 1 a'=C/ s+  
2  光学薄膜基础 2 JbN@AX:%  
2.1  一般规则 2 ^c",!Lp}{  
2.2  正交入射规则 3 AW3\>WC  
2.3  斜入射规则 6 e
j-x^G?C  
2.4  精确计算 7 Qwl=/<p1  
2.5  相干性 8 Ba
==Ri8$  
2.6 参考文献 10 {?tK]g#  
3  Essential Macleod的快速预览 10 _):V7Zv  
4  Essential Macleod的特点 32 <8#Q5   
4.1  容量和局限性 33 JQ|qg\[  
4.2  程序在哪里？ 33 8;2UP`8s?  
4.3  数据文件 35 0ant0<  
4.4  设计规则 35 r_/=iYYJ  
4.5  材料数据库和资料库 37 ^~~&[wY  
4.5.1材料损失 38 Khd"  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 -=_bXco}  
4.5.2 材料库 41 #Ezq}F8Y  
4.5.3导出材料数据 43 v,z s dr"d  
4.6  常用单位 43 {*WJ"9ujp]  
4.7  插值和外推法 46 ZNb;24  
4.8  材料数据的平滑 50 GQ<]Sd}
[  
4.9 更多光学常数模型 54 LDDeZY"xd  
4.10  文档的一般编辑规则 55 W'2T7ha Es  
4.11 撤销和重做 56 9+<%74|,  
4.12  设计文档 57 i oCoFj  
4.10.1  公式 58 nd)Z0%xo  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 A$*#n8,  
4.10.3  沉积密度 59 <WXO].^  
4.10.4 平行和楔形介质 60 $50rj  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 ~&-8lD];LM  
4.10.4  性能 61 g$C-G5/bjD  
4.10.5  保存设计和性能 64 5)X;q-  
4.10.6  默认设计 64 BxR%\  
4.11  图表 64  z.fh4p  
4.11.1  合并曲线图 67 C? pi8Xg  
4.11.2  自适应绘制 68 c`:
hE
Qs  
4.11.3  动态绘图 68 7w}D2|+  
4.11.4  3D绘图 69 {ctEjgiE  
4.12  导入和导出 73 ~x<nz/^  
4.12.1  剪贴板 73 jIY   
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 "-aak )7w  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 *Z0Y:"  
4.13  背景 77 #T\Yi|Qs#  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 c)H(w  
4.15  生成Rugate 84 .yz-o\,gF%  
4.16  参考文献 91 ~AbnksR  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 3#fu;??1.  
5.1  Jobs 92 dD6I @N)X  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 a& >(*PQ  
5.3  输入材料 94 (_&W@:"z  
5.4  设计数据文件夹 95 zJ;K4)"j  
5.5  默认设计 95 v(ABZNIn  
6  细化和合成 97 R#j-Z#/"  
6.1  优化介绍 97 gucd]VH  
6.2  细化 (Refinement) 98 _?UW,5=O  
6.3  合成 (Synthesis) 100 !N5+.E0j  
6.4  目标和评价函数 101 BcJ]bIbKb  
6.4.1  目标输入 102 en\shc{R]`  
6.4.2  目标 103 Fv!zS.)`  
6.4.3  特殊的评价函数 104 (qn ;MN6<  
6.5  层锁定和连接 104 -QH[gi{%`  
6.6  细化技术 104 M6(oJ*  
6.6.1  单纯形 105 =n $@  
6.6.1.1 单纯形参数 106 vCC}IDd
 
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 OkSJob  
6.6.2.1 Optimac参数 108 @
8zp(1.  
6.6.3  模拟退火算法 109 .Z=4,m
>  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 Fy4jujP<  
6.6.4  共轭梯度 111 GKPC9;{W  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 x+~IXi>Ig  
6.6.5  拟牛顿法 112 g@WGd(o0)  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 /<Nb/#8  
6.6.6  针合成 113 J&,N1B  
6.6.6.1 针合成参数 114 -VK6Fq  
6.6.7 差分进化 114 iG<rB-"  
6.6.8非局部细化 115 Dd+ f,$  
6.6.8.1非局部细化参数 115 SB5DL_q  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 cv fh:~L  
6.7.1 　细化 116 hK=\O)  
6.7.2　 合成 117 CbK&.a  
6.8  参考文献 117 $V"NB`T  
7  导纳图及其他工具 118 StUiL>9T#  
7.1  简介 118 K`.wj8zGY  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 x<)%Gs}tb  
7.2.1  四分之一波长规则 119 JyPsRpi\  
7.2.2  导纳图 120 )k5lA=(Yr+  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 u7|{~D&f  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 ejj|l   
7.5  斜入射导纳图 141 m35Blg34  
7.6  对称周期 141 LS:3Dtq  
7.7  参考文献 142 />fP )56*  
8  典型的镀膜实例 143 UA4Q9<>~  
8.1  单层抗反射薄膜 145 ]a% *$TF  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 U_a)g
X  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 HgG-r&r!2  
8.4  W-膜层 148 C]aa^_Ldd-  
8.5  V-膜层 149 '8~cf  
8.6  V-膜层高折射基底 150 G~ZDXQ>5CP  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 ]2n&DJu  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 W(*:8}m,p  
8.9  四层抗反射薄膜 153 Vv(!Ki}  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 o/I<)sa  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 b6D}GuW  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 =J.)xDx*  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 OwIW;8Z  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 %UJ!(_  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 G'XlsyaWrb  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 t1HUp dHY  
8.17  1/4波长堆栈 162 Kq/W-VyGh  
8.18  陷波滤波器 163 6y)xMX  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 SdUt
AC2  
8.20  褶皱 165 _I_Sq,Z#  
8.21  消偏振分光器1 169 0pYz8OB  
8.22  消偏振分光器2 171 +3e(psdg  
8.23  消偏振立体分光器 172 52B ye  
8.24  消偏振截止滤光片 173 #bPio  
8.25  立体偏振分束器1 174 Egt;Bj#%  
8.26  立方偏振分束器2 177 Ah)OyO6  
8.27  相位延迟器 178 {+f@7^/i.  
8.28  红外截止器 179 LGT\1u  
8.29  21层长波带通滤波器 180 Tgp}k%R~  
8.30  49层长波带通滤波器 181 XgKtg-,  
8.31  55层短波带通滤波器 182 5VWXUNe@_q  
8.32  47 红外截止器 183 HZ=Dd4!  
8.33  宽带通滤波器 184 M;W{A)0i1  
8.34  诱导透射滤波器 186 )
8oI s  
8.35  诱导透射滤波器2 188 ~BCSm]j  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 
7\^b+*  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 c=H(*#  
8.35  增益平坦滤波器 193 zW%-Z6%D  
8.38  啁啾反射镜 1 196 } oJ+2OepN  
8.39  啁啾反射镜2 198 Ze~ a+%Sb  
8.40  啁啾反射镜3 199 7dX1.}M<(  
8.41  带保护层的铝膜层 200 /s6':~4  
8.42  增加铝反射率膜 201 mLD0Lu_Ob3  
8.43  参考文献 202 }M f}gCEW  
9  多层膜 204 ld94ek  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 =HP_IG_  
9.2  内部透过率 204 ,*0>CBJvv  
9.3 内部透射率数据 205 mKZ?H$E%%  
9.4  实例 206 n4)G g~PE  
9.5  实例2 210 yuswWc'  
9.6  圆锥和带宽计算 212 sCaw"{5qc  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 5d|*E_yu  
10  光学薄膜的颜色 216 z>k6T4(  
10.1  导言 216 yyk[oH-Q  
10.2  色彩 216 a#!Vi93  
10.3  主波长和纯度 220 >U"f1q*$  
10.4  色相和纯度 221 >;o^qi_$  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Pf)<6?T  
10.6 色差 226 1SkGG0 W  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 *%ZfE,bu8<  
10.8  颜色渲染指数 234 ({![  
10.9  色差计算 235 8nES=<rz  
10.10  参考文献 236 |IH-a"  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 )rhKWg  
11.1  短脉冲 238 ?`\<t$M
 
11.2  群速度 239 +Qu~UK\  
11.3  群速度色散 241 M6AQ8~z  
11.4  啁啾(chirped) 245 6,_CLM  
11.5  光学薄膜—相变 245 3w{4G<I  
11.6  群延迟和延迟色散 246 _w+sx5  
11.7  色度色散 246 *|$s0ga C  
11.8  色散补偿 249  2b1LC!'U  
11.9  空间光线偏移 256 ;^}cZ  
11.10  参考文献 258 o'myo.k{  
12  公差与误差 260 {FQ dDIj#  
12.1  蒙特卡罗模型 260 3`#sXt9C  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 !i_5XcH  
12.2.1  误差工具 267 4OCz:t  
12.2.2  灵敏度工具 271 Ca+d ?IS  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 ZH_ J+  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 $+JaEF`8  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 3KB)\nF#%  
12.3  参考文献 276 kp<9o!?)  
13  Runsheet 与Simulator 277 ICq;jfML  
13.1  原理介绍 277 sPkT>q  
13.2  截止滤光片设计 277 @Z@yI2#e  
14  光学常数提取 289 j@UW[,UI  
14.1  介绍 289
I$qL=  
14.2  电介质薄膜 289 u9mMkzgSkP  
14.3  n 和k 的提取工具 295 3dadeu^{A  
14.4  基底的参数提取 302 z(1h^.  
14.5  金属的参数提取 306 J;m[1Mae&  
14.6  不正确的模型 306 o1zc`Ibd  
14.7  参考文献 311 &xH>U*c  
15  反演工程 313 X,O&X  
15.1  随机性和系统性 313 Vize0fsD  
15.2  常见的系统性问题 314 +t.T+` EG  
15.3  单层膜 314  +tfmBZl^  
15.4  多层膜 314 ?\$77k  
15.5  含义 319 L=Dx$#|  
15.6  反演工程实例 319 aeSy,:  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ]o,)#/' $  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 s_`wLQ7e  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 HaB=nLAT  
16.1  光学性质的热致偏移 329 EW2e k^  
16.2  应力工具 335 U0jq.]P  
16.3  均匀性误差 339 'O\K Wj{  
16.3.1  圆锥工具 339 Q:_pW<^  
16.3.2  波前问题 341 n6Q 3X  
16.4  参考文献 343 1%EY!14G+  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 j?w7X?1(  
17.1  引言 345 vGm;en   
17.2  操作数 345 _?q\tyf3  
18  如何在Function中编写脚本 351 C6'[Tn  
18.1  简介 351 T^A:pL1  
18.2  什么是脚本？ 351 1`aFL5[0$  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 ml?+JbLg0  
18.4  基础 352 9Eg'=YJ  
18.4.1  Classes（类别） 352 8VMq>-  
18.4.2  对象 352 y"@~5e477$  
18.4.3  信息（Messages） 352 c$uV8_V  
18.4.4  属性 352 iy$]9Wf6=@  
18.4.5  方法 353 ?r'b Z~  
18.4.6  变量声明 353 x(mY$l,il  
18.5  创建对象 354 CUxSmN2[  
18.5.1  创建对象函数 355 n4Q!lJ  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 ;Kkn7&'F  
18.5.3 丢弃对象 356 {_(;&\
5  
18.5.4  总结 356 ?`FI!3j  
18.6  脚本中的表格 357 |dX#4Mq^,  
18.6.1  方法1 357 &,)9cV /  
18.6.2  方法2 357 Atfon&^  
18.7 2D Plots in Scripts 358 xZ,g6s2o  
18.8 3D Plots in Scripts 359 B*D`KA  
18.9  注释 360 rxa8X wo8  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 I"@5=m5  
18.11  一个更高级的脚本 362 b;x^>(It  
18.12  <esc>键 364 d>vGx  
18.13 包含文件 365 ~=0zZTG  
18.14  脚本被优化调用 366 KbwWrf>  
18.15  脚本中的对话框 368 %f{
kT<XHu  
18.15.1  介绍 368 kk!}mbA_}  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 :_Ng`b/  
18.15.3  输入框函数 370 "F%cn@l  
18.15.4  自定义对话框 371 G e~&Ble  
18.15.5  对话框编辑器 371 [IV8  
18.15.6  控制对话框 377 )}u.b-Nt.  
18.15.7  更高级的对话框 380 b,318R8+G  
18.16 Types语句 384 5%4:)s{4|  
18.17 打开文件 385 vV=$N"bT~  
18.18 Bags 387 YJ!6)d?C.  
18.13  进一步研究 388 dnNc,l&
g  
19  vStack 389 eU{=x$o6S  
19.1  vStack基本原理 389 t[an,3  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 WgxlQXi-B  
19.3  五棱镜 393 F*I{?NRN1  
19.4 光束距离 396 ze#LX4b I  
19.5 误差 399 Q>Q$BCD5  
19.6  二向分色棱镜 399 % ;6e@U}  
19.7  偏振泄漏 404 =cRJtn  
19.8  波前误差—相位 405 vQIoj31  
19.9  其它计算参数 405 Z,u:g c+*  
20  报表生成器 406 -4hX-  
20.1  入门 406 {kZhje^$vi  
20.2  指令(Instructions) 406 >_&+gn${  
20.3  页面布局指令 406 im1]:kr7  
20.4  常见的参数图和三维图 407 pV>/"K  
20.5  表格中的常见参数 408 }A2@1TTPX  
20.6  迭代指令 408 &:{|nDT_2  
20.7  报表模版 408 "t\rjFw  
20.8  开始设计一个报表模版 409 gQ/zk3?k  
21  一个新的project 413 jRq>Sz{8  
21.1  创建一个新Job 414 C{Npipd}v  
21.2  默认设计 415 eKLxNw5  
21.3  薄膜设计 416 //6m2a  
21.4  误差的灵敏度计算 420 JBjz2$ZM  
21.5  显色指数计算 422 OwDjUKeN  
21.6  电场分布 424 b/S4b  
后记 426 Rmd;ug9  
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q+LjWZ+O  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 Ye(0'*-jyc  
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《Essential Macleod中文手册》 P^1rNB  
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目  录 v3@)q0@  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 }b,a*4pN  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 l}<s~
ip  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 ?f&*mp  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 L@[bgN`=v  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 ,Xb:f/lB  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 8qBw;
A
)  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 w1s#8:  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 (cA=~Bw[=  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 !
)&-\!M>  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 N*o+
m~:y  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 `D GO~RMp9  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 ^{Mx?]z  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 TYLf..i<  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 \>jK\j  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 rg\|-_.es'  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 vm
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价  格：400元