[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍 ~Y
O99PP  

图片:w800

uQgv ;jsPz  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 dq[X:3i  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 ousvsP%'  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 7xidBVx  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 %7WGodlXW  
1. Essential Macleod软件介绍 7:'7EqM  
1.1 介绍软件 F3j#NCuO=z  
1.2 创建一个简单的设计 ^F/gJ3_;  
1.3 绘图和制表来表示性能
~_R8; b  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 jt5en;AA[  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） ikd~k>F  
1.6 特定设计的公式技术 c+P.o.k;  
1.7 交互式绘图 C,$$bmS=  
2. 光学薄膜理论基础 <yE  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 _GSl}\  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 f&x7g.I  
3. 材料管理 *mH+
+3h  
3.1 材料模型 H0tjBnu   
3.2 介质薄膜光学常数的提取 jt9fcw  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 vqDd][n  
3.4 基板光学常数的提取 $A"C1)d;  
4. 光学薄膜设计优化方法 uM|*y-4  
4.1 参考波长与g J eCKnt=  
4.2 四分之一规则 CtiTXDc_  
4.3 导纳与导纳图 /, T@/  
4.4 斜入射光学导纳 rbfP6t:c3  
4.5 光学薄膜设计的进展 xfYDjf :<  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 b7&5>Q/g  
4.6.1 优化目标设置 ghtvAG  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） ; C/:$l  
4.6.3 膜层锁定和链接 d'Cn] <  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 M}Sn$h_  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 -'ff0l  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 '*K}$+l  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 \/E+nn\)  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 'a8{YT4  
5.5 如何在Function中编写脚本 "`;$wA  
6. 光学薄膜系统案例 ro:B[XE  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 UbDRzum  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 36ygI0V_  
6.3 Stack应用范例说明 )nncCUW  
7. 薄膜性能分析 BC|=-^(  
7.1 电场分布 tS|gQUF17  
7.2 公差与灵敏度分析 O2z{>\  
7.3 反演工程 EC
q(i(  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 1?k{jt~  
8. 真空技术 AXbDCDA  
8.1 常用真空泵介绍 2Fwp\I;  
8.2 真空密封和检漏 =QG@{?JTl  
9. 薄膜制备技术 SvE3E$*  
9.1 常见薄膜制备技术 <0R$yB  
10. 薄膜制备工艺 `x
b\)  
10.1 薄膜制备工艺因素 ]Dj,8tf`H  
10.2 薄膜均匀性修正技术 {,V.IDs8[  
10.3 光学薄膜监控技术 L;jzDng<  
11. 激光薄膜 8n_!WDD  
11.1 薄膜的损伤问题 `cu W^/c  
11.2 激光薄膜的制备流程 l;+n
L[%`  
11.3 激光薄膜的制备技术 RRXnj#<g  
12. 光学薄膜特性测量 SxyXz8+e[  
12.1 薄膜光谱测量 =v-qao7xCV  
12.2 薄膜光学常数测量 ^g^R[8  
12.3 薄膜应力测量 &~9'7 n!  
12.4 薄膜损伤测量 ^ud-N;]MKs  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 ]yg3|C;  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 SQ$|s%)oB  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 /=o~7y  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 G3[X.%g`  
T9&-t7:  
FBDRbJ su  
?%)G%2  
目录 F?APDGAN  
Preface 1 I[P43>F3  
内容简介 2 W
DrC  
目录 i |r|<cc#  
1  引言 1 Q:nBx[%  
2  光学薄膜基础 2 q oA?  
2.1  一般规则 2 aXOW +$,  
2.2  正交入射规则 3 I%
4)%  
2.3  斜入射规则 6 ">-J+ST%  
2.4  精确计算 7 'r/+za:2  
2.5  相干性 8 `=}w(V8pc  
2.6 参考文献 10 3u&>r-V6Fn  
3  Essential Macleod的快速预览 10 |<:Owd=  
4  Essential Macleod的特点 32 [Un~]E.'J  
4.1  容量和局限性 33 3vcKK;qCB  
4.2  程序在哪里？ 33 M{!Y   
4.3  数据文件 35 q4Rvr[  
4.4  设计规则 35  gAFu  
4.5  材料数据库和资料库 37 *O5Ysk^|  
4.5.1材料损失 38 Vn7
FbaO^  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 ,RA;X  
4.5.2 材料库 41 (SH<]@s  
4.5.3导出材料数据 43 d3,%Z &  
4.6  常用单位 43 Ah_,5Z@&R  
4.7  插值和外推法 46 H!H&<71
-  
4.8  材料数据的平滑 50 pUp&eH  
4.9 更多光学常数模型 54 2cnyq$4k  
4.10  文档的一般编辑规则 55 bi:TX<K+  
4.11 撤销和重做 56 F\K&$
5J{p  
4.12  设计文档 57 d9qA\ [  
4.10.1  公式 58 Z30r|Ufh  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 7{"urs7 T  
4.10.3  沉积密度 59 By&ibN),  
4.10.4 平行和楔形介质 60 sWG_MEbu  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 -gq,^j5,  
4.10.4  性能 61 %I`%N2ss  
4.10.5  保存设计和性能 64 o.o$dg(r!  
4.10.6  默认设计 64 F"G]afI9+  
4.11  图表 64 #8{U0 7]"  
4.11.1  合并曲线图 67 WVa-0;  
4.11.2  自适应绘制 68 Oh&k{DWE$  
4.11.3  动态绘图 68 [?QU'[  
4.11.4  3D绘图 69 h?D>Dfeg%  
4.12  导入和导出 73 8lNkY`P7s  
4.12.1  剪贴板 73 Hv3<gyD  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 F{'lF^Dc  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 P{2ue`w[  
4.13  背景 77 sMZ90Q$  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Z<Rhn  
4.15  生成Rugate 84 Ra!Br6  
4.16  参考文献 91 >QA;02  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 GW;\3@o  
5.1  Jobs 92 bE6:pGr  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 Y|3n^%I  
5.3  输入材料 94 Q 1:7 9  
5.4  设计数据文件夹 95  mS]&  
5.5  默认设计 95 Szb#:C  
6  细化和合成 97 uXm_ pQpF  
6.1  优化介绍 97 A0A]#
=S  
6.2  细化 (Refinement) 98 CGp7 Tx#  
6.3  合成 (Synthesis) 100 I@M3u/7  
6.4  目标和评价函数 101 S.! n35  
6.4.1  目标输入 102 O8mmS!  
6.4.2  目标 103 >Ohh)$  
6.4.3  特殊的评价函数 104 5ltrr(MeD  
6.5  层锁定和连接 104 |[3%^!f\  
6.6  细化技术 104 p~evPTHnrX  
6.6.1  单纯形 105 Y9w^F_relL  
6.6.1.1 单纯形参数 106 UG,<\k&  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 U;
qGUqI  
6.6.2.1 Optimac参数 108 m\DI6O"u'  
6.6.3  模拟退火算法 109 Mr}K-C?ge  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 5 A2u|UU  
6.6.4  共轭梯度 111 d7U%Q8?wUR  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 6!|/(~  
6.6.5  拟牛顿法 112 i^Ip+J+[  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 6");NHE  
6.6.6  针合成 113 >OotgJnhC  
6.6.6.1 针合成参数 114 2zlBrjk;  
6.6.7 差分进化 114 sWGc1jC?.F  
6.6.8非局部细化 115 A?;KfVq  
6.6.8.1非局部细化参数 115 6|@\\\l  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 B*AF8wX|  
6.7.1 　细化 116 +#LD@)G  
6.7.2　 合成 117 MRb6O
!$`C  
6.8  参考文献 117 C?h}n4\B^?  
7  导纳图及其他工具 118 huT
WoMU  
7.1  简介 118 hVl^vw7o  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 IPDQ  
7.2.1  四分之一波长规则 119 $%"?0S  
7.2.2  导纳图 120 L Rn)  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 6%\&m|S  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 VQ(l=k:}2  
7.5  斜入射导纳图 141 1R"?X'w  
7.6  对称周期 141  C4.g}q  
7.7  参考文献 142 o'*7I|7a  
8  典型的镀膜实例 143 TJ`Jqnh  
8.1  单层抗反射薄膜 145 #k/N
S  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 .ZVADVg\  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 D6NgdE7b  
8.4  W-膜层 148 'g#EBy  
8.5  V-膜层 149 6b7SA,  
8.6  V-膜层高折射基底 150 2)4oe  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 %1UdG6&J_  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 +hL%8CVU M  
8.9  四层抗反射薄膜 153 P7|x=Ew;`  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 5m\T~[`%  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 h3BDHz,  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 /s|4aro  
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 NzAMX+L  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 ^E}};CsT  
8.15十五层宽带抗反射膜 159 2(s-8E:  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 RS9mAeX4h  
8.17  1/4波长堆栈 162 W*jwf@ 0  
8.18  陷波滤波器 163 6U?z  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 >sl#2,br  
8.20  褶皱 165 )|Md"r_B  
8.21  消偏振分光器1 169 TChKm-x  
8.22  消偏振分光器2 171 /{sFrEMP\  
8.23  消偏振立体分光器 172 +-d)/h.7  
8.24  消偏振截止滤光片 173 *)82iD  
8.25  立体偏振分束器1 174 Z+M* z;  
8.26  立方偏振分束器2 177 kW.it5Z#  
8.27  相位延迟器 178 N[j*Q 8X_  
8.28  红外截止器 179 >j}.~$6dj_  
8.29  21层长波带通滤波器 180 ` Clh;  
8.30  49层长波带通滤波器 181 +S C;@'  
8.31  55层短波带通滤波器 182 ITr@;@}c]  
8.32  47 红外截止器 183 3 6-Sw  
8.33  宽带通滤波器 184 k:sFI @g  
8.34  诱导透射滤波器 186 )|Xi:Zd5>  
8.35  诱导透射滤波器2 188 p)y'a+|7  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 E(/M?>t-  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 @p$$BUb  
8.35  增益平坦滤波器 193 Kq4b`cn{_  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Api<q2@R  
8.39  啁啾反射镜2 198 rJws#^]  
8.40  啁啾反射镜3 199 s!eB8lkcT  
8.41  带保护层的铝膜层 200 @yxF/eeEy+  
8.42  增加铝反射率膜 201 0.kQqy~5  
8.43  参考文献 202 :o=a@Rqx  
9  多层膜 204 PZE{-TM?W  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 `p\@b~GM  
9.2  内部透过率 204 w\(;>e@  
9.3 内部透射率数据 205 S*9qpes-m|  
9.4  实例 206 Kjfpq!NYE  
9.5  实例2 210 [)KLmL%  
9.6  圆锥和带宽计算 212 H=1Jq  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 y~-dQ7r  
10  光学薄膜的颜色 216 % >
}{SS  
10.1  导言 216 *r|)@K|  
10.2  色彩 216 2GW.'\D  
10.3  主波长和纯度 220 TL*8h7.(  
10.4  色相和纯度 221 f.Feo  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Nub)]S>_/t  
10.6 色差 226 Bkh1
VAT  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 hsEQ6  
10.8  颜色渲染指数 234 d@#wK~I
 
10.9  色差计算 235 N}5'Hk4
+  
10.10  参考文献 236 |xX>AMZc)D  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 dp~] Wx  
11.1  短脉冲 238 [)L)R`  
11.2  群速度 239 BMxe)izT;  
11.3  群速度色散 241 Ubf@"B  
11.4  啁啾(chirped) 245 p|,3X*-ynx  
11.5  光学薄膜—相变 245 {-Q=YDR  
11.6  群延迟和延迟色散 246 9:1[4o)~  
11.7  色度色散 246 MlmdfO%Y  
11.8  色散补偿 249 jt,dr3|/n  
11.9  空间光线偏移 256 W1;u%>Uh  
11.10  参考文献 258 NpN-''B\  
12  公差与误差 260 u>-pgu  
12.1  蒙特卡罗模型 260 7,:$, bL  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 RZr
Q^tI3"  
12.2.1  误差工具 267 1$1[6 \3v  
12.2.2  灵敏度工具 271 sBV})8]KM  
12.2.2.1 独立灵敏度 271 {IR-g,B  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 71(C@/J  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 =}^J6+TVL  
12.3  参考文献 276 w/UZ6fu  
13  Runsheet 与Simulator 277 nBo?r}t4  
13.1  原理介绍 277 |z%:{  
13.2  截止滤光片设计 277 ?D8+wj  
14  光学常数提取 289 1p }:K`#{  
14.1  介绍 289 WPbG3FrL!  
14.2  电介质薄膜 289 `iT{H]po  
14.3  n 和k 的提取工具 295 s%xhT  
14.4  基底的参数提取 302 ~;uc@GGo  
14.5  金属的参数提取 306 gtVnn]Jh  
14.6  不正确的模型 306 || 0n%"h>i  
14.7  参考文献 311 ey ;94n:<  
15  反演工程 313 | g[iK
1  
15.1  随机性和系统性 313 ^p}|""\j  
15.2  常见的系统性问题 314 /.>
8e%)  
15.3  单层膜 314 VsR8|Hn$  
15.4  多层膜 314 m.EIMuj  
15.5  含义 319 _&xi})E^O]  
15.6  反演工程实例 319 ] lONi  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 5zk^zn)  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 v"3($?au0  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 l Taw6;  
16.1  光学性质的热致偏移 329 C0v1x=(xiM  
16.2  应力工具 335 b`yb{& ,?  
16.3  均匀性误差 339 Lw_s'QNWR  
16.3.1  圆锥工具 339 j$ h>CZZ  
16.3.2  波前问题 341 A$Tp0v`t  
16.4  参考文献 343 k?7V#QW(  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 <)am]+Lswy  
17.1  引言 345 op5G}QZ  
17.2  操作数 345 s.qo
/o\b  
18  如何在Function中编写脚本 351 glo Y@k~  
18.1  简介 351 ]~!?(d!J/  
18.2  什么是脚本？ 351 gR\-%<42  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 Ww)p&don  
18.4  基础 352 :Y)jf
 
18.4.1  Classes（类别） 352 8DLj?M>N  
18.4.2  对象 352 kACgP!~/1  
18.4.3  信息（Messages） 352 S;L=W9=wby  
18.4.4  属性 352 *JT,]7>  
18.4.5  方法 353 r=74'g  
18.4.6  变量声明 353 Md[M}d8
 
18.5  创建对象 354 ^T&@(|o  
18.5.1  创建对象函数 355 hw9qnSeRy  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 }fT5(+ Wo  
18.5.3 丢弃对象 356
i&_&4  
18.5.4  总结 356 INjr$'*  
18.6  脚本中的表格 357 Ef~Ar@4fA  
18.6.1  方法1 357 -'%>Fon  
18.6.2  方法2 357 Ql8s7%  
18.7 2D Plots in Scripts 358 kVeR{i<*(  
18.8 3D Plots in Scripts 359 u(W+hdTap=  
18.9  注释 360 [~&yLccN  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 (2uF<$7(  
18.11  一个更高级的脚本 362  oo4aw1d  
18.12  <esc>键 364 8gn12._x  
18.13 包含文件 365 ~H4wsa39  
18.14  脚本被优化调用 366 M%(^GdI#Vf  
18.15  脚本中的对话框 368 "\`>Ll  
18.15.1  介绍 368 E>I\m!ue  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 UYw=i4J'  
18.15.3  输入框函数 370 ~;S  
18.15.4  自定义对话框 371 -g\;B  
18.15.5  对话框编辑器 371 "&Rt&S  
18.15.6  控制对话框 377 sFbN)Cx  
18.15.7  更高级的对话框 380 ZULnS*V;5  
18.16 Types语句 384 ?DrA@;IB  
18.17 打开文件 385 JEh(A=Eu>  
18.18 Bags 387 dtx3;d<NsJ  
18.13  进一步研究 388 Nbvs_>N  
19  vStack 389 bGtS! 'I  
19.1  vStack基本原理 389 {$xt.<  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 Y!qn[,q8  
19.3  五棱镜 393 SE<?l  
19.4 光束距离 396 )eD9H*mq  
19.5 误差 399 J:Idt}@z  
19.6  二向分色棱镜 399 AEd]nVV Q  
19.7  偏振泄漏 404 vN9R.R  
19.8  波前误差—相位 405 @s.civ!Yk  
19.9  其它计算参数 405 4H4ui&|7u6  
20  报表生成器 406 ;_p$5GVR|  
20.1  入门 406 Rl{e<>O\^  
20.2  指令(Instructions) 406 iz%wozf  
20.3  页面布局指令 406 <q.Q,_cW  
20.4  常见的参数图和三维图 407 9T#${NK  
20.5  表格中的常见参数 408 8vqx}2  
20.6  迭代指令 408 .L@gq/x)  
20.7  报表模版 408 z3Zo64V~7  
20.8  开始设计一个报表模版 409 g^: &D
h  
21  一个新的project 413 zvbO q  
21.1  创建一个新Job 414 [nASMKK0  
21.2  默认设计 415 `nrw[M?  
21.3  薄膜设计 416 (L<qJd1Q  
21.4  误差的灵敏度计算 420 e|}B;<  
21.5  显色指数计算 422 #IR,KX3]A  
21.6  电场分布 424 [9^lAhX  
后记 426 ["^? vhv  
1I?`3N  
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书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 }0V aZ<j  
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《Essential Macleod中文手册》 \IaUsx"#o{  
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目  录 V}X>~ '%  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 UR~s\m  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 3O*^[$vM  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 wZfY~  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 +"1fr  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 &WNIL13DK  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 3<)+)n  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 s}F.D^^G  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 =m;,?("7t3  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 <?>tjCg'  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ;ObrBN,Fu  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 "H#pN;)+  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 $5:I~-mx  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 :s*t\09V7  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 3i1TBhs6  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 2]]}
Xvx4#  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 2<9&OL  
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价  格：400元