[培训]上海｜薄膜设计与镀膜工艺 2023年10月25（三）-27日（五） [复制链接]

特邀专家介绍
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4ATIF;G'<  
易葵：中国科学院上海光机所正高级工程师，研究生导师，主要从事光学薄膜设计、制备工艺和测试相关方面的研究工作，尤其是在高功率激光薄膜、空间激光薄膜、X射线多层膜、真空镀膜技术与薄膜制备工艺研究等方面有较为深入的研究。 [ 0z-X7=e  
获得国家技术发明奖二等奖、上海市技术发明奖一等奖、上海市科技进步二等奖、军队科技进步二等奖等奖项，入选2014年度中科院“现有关键技术人才”。课程概要 LaX<2]Tx:  
随着现代科技的飞速发展，光学薄膜的应用越来越广泛。光学薄膜的发展极大地促进了现代光学仪器性能的提高，其种类非常广泛，如增透膜，高反膜，分光膜，滤光片等，光学薄膜器件如今已经广泛应用到光通信技术、光伏产业技术、激光技术、光刻技术、航空航天技术等诸多领域。 )dfwYS*[n  
本次课程第一天主要为国际知名的光学薄膜分析软件Essential Macleod的使用，第二天为各种类型的光学薄膜的设计模拟方法，前两天主讲人为讯技光电高级工程师，第三天特别邀请上海光学精密机械研究所专家易葵，分享光学薄膜制备工艺、激光薄膜关键技术以及光学薄膜的测量方法等相关内容。课程大纲 ;-^8lWt  
1. Essential Macleod软件介绍 [tk6Kx8a  
1.1 介绍软件 LDY3Ya`6m  
1.2 创建一个简单的设计 c<ORmg6  
1.3 绘图和制表来表示性能 Yy'CBIq#f  
1.4 通过剪贴板和文件导入导出数据 (>SucUU  
1.5 可用的材料模型（Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann） 9UCA&n  
1.6 特定设计的公式技术 vMzBp
#MT  
1.7 交互式绘图 D@)L?AB1f  
2. 光学薄膜理论基础 * /^}  
2.1 垂直入射时的界面和薄膜特性计算 yVe<+Z\7  
2.2 后表面对光学薄膜特性的影响 \DcO.`L  
3. 材料管理 7hhv/9L1  
3.1 材料模型 aen0XiB6~^  
3.2 介质薄膜光学常数的提取 l\WN  
3.3 金属薄膜光学常数的提取 `>&K=C?  
3.4 基板光学常数的提取 %.WW-S3  
4. 光学薄膜设计优化方法 vP%}XEF  
4.1 参考波长与g [nf5<  
4.2 四分之一规则 }`y%*--  
4.3 导纳与导纳图 L
T#EYnG  
4.4 斜入射光学导纳 FEdFGT  
4.5 光学薄膜设计的进展 \U>|^$4 #5  
4.6 Macleod软件的设计与优化功能 (SMk!b]}  
4.6.1 优化目标设置 H.< F6  
4.6.2 优化方法（单一优化，合成优化，模拟退火法，共轭梯度法，准牛顿法，针形优化，差分演化法） jJD*s/o  
4.6.3 膜层锁定和链接 7/K L<T9@  
5. Essential Macleod中各个模块的应用 $;rvKco)%  
5.1 非平行平面镀膜-棱镜镀膜透反吞吐量评估 &Qmb?{S0  
5.2 光通信用窄带滤光片模拟 k8b5~A,  
5.3 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号 *!9=?  
5.4 镀膜沉积过程噪声信号模拟 W~FU!C?]  
5.5 如何在Function中编写脚本 ft1V1 c  
6. 光学薄膜系统案例 bwI"V
&*  
6.1 常规光学薄膜案例-高反、增透、滤光片等 8@/MrEOW#  
6.2 仿生蛾眼/复眼结构等 (>uA(#Z  
6.3 Stack应用范例说明 Z^Yy sf  
7. 薄膜性能分析 (duR1Dz  
7.1 电场分布 =
>XjChM  
7.2 公差与灵敏度分析 Y+h ?HS  
7.3 反演工程 P$.$M}rMv  
7.4 均匀性，掺杂/孔隙材料仿真 *D67&/g.  
8. 真空技术 n~ZZX={a  
8.1 常用真空泵介绍 Z7I
\\M  
8.2 真空密封和检漏 bg5i+a,?  
9. 薄膜制备技术 tn;{r  
9.1 常见薄膜制备技术 &Im-@rV!  
10. 薄膜制备工艺 %2\6.c=c  
10.1 薄膜制备工艺因素 \Vpv78QF;  
10.2 薄膜均匀性修正技术 $o/i / wcj  
10.3 光学薄膜监控技术 xDNXI01o  
11. 激光薄膜 Qq%~e41ec  
11.1 薄膜的损伤问题 CwD=nT5`  
11.2 激光薄膜的制备流程 _WZ{i,  
11.3 激光薄膜的制备技术 PQUJUs  
12. 光学薄膜特性测量 9&{z?*  
12.1 薄膜光谱测量 'e_e*.z3  
12.2 薄膜光学常数测量 J%lrXm(l{  
12.3 薄膜应力测量 RL[F 9g  
12.4 薄膜损伤测量 ~14|y|\/  
12.5 薄膜形貌、结构与组分分析内容简介 6z]y =J  
Macleod软件自带的用户手册功能全面，其介绍涵盖了软件的方方面面，能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而，为了顺应目前薄膜行业的需求，急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍，以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作，因此，我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 $)$_}^.k  
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》（原著第二版）是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结，结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod，其内容丰富，实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法，还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题，如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节，首先，从光学薄膜的基本理论出发（第2章），为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次，在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作，以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后，从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合，从而使大家将理论知识与实际经验结合起来，对实际镀膜提出实用的建议，以减少设计时间并降低生产成本。 4 !m'9  
薄膜光学涵盖范围很广，书中并附设计光盘和参考文献，有兴趣者可依此深入研究，为精准起见，在不影响理解的情况下，尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助，通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限，书中错误纰漏之处在所难免，本书若有不周之处，尚请读者不吝赐教。 _
9dW+  
Q.fUpa v  
u@tH6k*cBz  
q/Zs]Gz  
目录 N)PkE>%X  
Preface 1 `KZu/r-M9  
内容简介 2 J#5V>7G  
目录 i ~NB|BwAh  
1  引言 1 x.$cP  
2  光学薄膜基础 2 qMoo#UX  
2.1  一般规则 2 {-Gh 62hDg  
2.2  正交入射规则 3 _ gGA/   
2.3  斜入射规则 6 hAt4+O&P  
2.4  精确计算 7 ' 6)Yf}I  
2.5  相干性 8 ^rd%{6m  
2.6 参考文献 10 @R<z=n"  
3  Essential Macleod的快速预览 10 <oi'yr  
4  Essential Macleod的特点 32 X"9N<)C  
4.1  容量和局限性 33 XpYd
|BvW  
4.2  程序在哪里？ 33 *>2e4j]  
4.3  数据文件 35 7rYB
FSp  
4.4  设计规则 35 5$Kd<ky  
4.5  材料数据库和资料库 37 ox_DEg7l  
4.5.1材料损失 38 Kz
z/]  
4.5.1材料数据库和导入材料 39 (BngwLVDK  
4.5.2 材料库 41 jT/P+2hMW  
4.5.3导出材料数据 43 `$XB_o%@  
4.6  常用单位 43 ~2nt3
3"  
4.7  插值和外推法 46 j5og}P
q:  
4.8  材料数据的平滑 50 n^b CrvD  
4.9 更多光学常数模型 54 K#'$_0.  
4.10  文档的一般编辑规则 55 Jd?qvE>Pp  
4.11 撤销和重做 56 +XSe;xk;rD  
4.12  设计文档 57 }%AfZ2g;h  
4.10.1  公式 58 uF1&m5^W  
4.10.2 更多关于膜层厚度 59 F'F6 &a+  
4.10.3  沉积密度 59 `%^w-'  
4.10.4 平行和楔形介质 60 :I2,  
4.10.5  渐变折射率和散射层 60 F|VKrH.  
4.10.4  性能 61 )wXE\$  
4.10.5  保存设计和性能 64 ]*gf$D  
4.10.6  默认设计 64 >ts}\.(]  
4.11  图表 64 oRJ!TAbD  
4.11.1  合并曲线图 67 'Z:wEt!  
4.11.2  自适应绘制 68 o4OB xHKy  
4.11.3  动态绘图 68 2(x| %  
4.11.4  3D绘图 69 w^=(:`  
4.12  导入和导出 73 f$9|qfW'$  
4.12.1  剪贴板 73 z}B8&*>  
4.12.2  不通过剪贴板导入 76 Jt#HbAY  
4.12.3  不通过剪贴板导出 76 gs7_Q  
4.13  背景 77 j8 `7)^  
4.14  扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 CrSBN~  
4.15  生成Rugate 84 Kv9FqrDj  
4.16  参考文献 91 &}0QnO_mj  
5  在Essential Macleod中建立一个Job 92 uMpuS1  
5.1  Jobs 92 ^FQn\,  
5.2  创建一个新Job（工作） 93 7h0u7N  
5.3  输入材料 94 }s:3_9mE  
5.4  设计数据文件夹 95 %IE;'aa }  
5.5  默认设计 95 j%D{z5,nKm  
6  细化和合成 97 XT*/aa-1'  
6.1  优化介绍 97  (:o:_U  
6.2  细化 (Refinement) 98 (+0(A777M  
6.3  合成 (Synthesis) 100 /d">}%Jn  
6.4  目标和评价函数 101 H+-x.l`  
6.4.1  目标输入 102 VbMud]40F  
6.4.2  目标 103 ,grx'to(X  
6.4.3  特殊的评价函数 104 Q'!'+;&%  
6.5  层锁定和连接 104 W}"tf L8  
6.6  细化技术 104 7[uN;B#V  
6.6.1  单纯形 105 _Pa@%/  
6.6.1.1 单纯形参数 106 if*~cPnN  
6.6.2  最佳参数(Optimac) 107 $tXW/  
6.6.2.1 Optimac参数 108 "KS"[i!3j  
6.6.3  模拟退火算法 109 08{^Ksg  
6.6.3.1　模拟退火参数 109 :-<30LS$  
6.6.4  共轭梯度 111 U1 *P  
6.6.4.1 共轭梯度参数 111 
^$C&{%  
6.6.5  拟牛顿法 112 JiO8EIM  
6.6.5.1 拟牛顿参数： 112 wq,&0P-v  
6.6.6  针合成 113 W(Md0*   
6.6.6.1 针合成参数 114 jcvq:i{  
6.6.7 差分进化 114 ~3%\8,0  
6.6.8非局部细化 115 6d6Dk>(V  
6.6.8.1非局部细化参数 115 mF!4*k  
6.7  我应该使用哪种技术？ 116 =R 4]Kf  
6.7.1 　细化 116 DfU= i'R  
6.7.2　 合成 117 kP/<S<h,g  
6.8  参考文献 117 p:$kX9mT&  
7  导纳图及其他工具 118 #8 ^b]  
7.1  简介 118 <gGO  
7.2  薄膜作为导纳的变换 118 w1(5,~OB  
7.2.1  四分之一波长规则 119 b/JjA  
7.2.2  导纳图 120 4p+Veo6B  
7.3  用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 "#gS?aS  
7.4  全介质抗反射薄膜中的应用 125 :is2 &-|x  
7.5  斜入射导纳图 141 ?(Tin80=r  
7.6  对称周期 141 ^'du@XCf}  
7.7  参考文献 142 (x@J@ GP*  
8  典型的镀膜实例 143 YU`k^a7%  
8.1  单层抗反射薄膜 145 fVa z'R  
8.2  1/4-1/4抗反射薄膜 146 :;hX$Qz  
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 {oF;ZM'r  
8.4  W-膜层 148 1JdMw$H  
8.5  V-膜层 149 ZREy I(_  
8.6  V-膜层高折射基底 150 vXwMo4F*  
8.7  V-膜层高折射率基底b 151 n@h$V\&\iM  
8.8  高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 0-aaLC~Z>  
8.9  四层抗反射薄膜 153  f<$*,P  
8.10  Reichert抗反射薄膜 154 )c1Pj#|  
8.11  可见光和1.06 抗反射薄膜 155 hR:i!  
8.12  六层宽带抗反射薄膜 156 t2.jg?`k
 
8.13  宽波段八层抗反射薄膜 157 6(t'B!x  
8.14  宽波段25层抗反射薄膜 158 \}9)`
1D
 
8.15十五层宽带抗反射膜 159 F Pjc;zNA  
8.16  四层2-1 抗反射薄膜 161 ^&y*=6C  
8.17  1/4波长堆栈 162 _D@QsQ_Z  
8.18  陷波滤波器 163
$s]&92  
8.19 厚度调制陷波滤波器 164 p\#;(pf}s  
8.20  褶皱 165
*SI,K)BP  
8.21  消偏振分光器1 169 ]]`[tVaFr  
8.22  消偏振分光器2 171 yw%ES  
8.23  消偏振立体分光器 172 pFiE2V_aS  
8.24  消偏振截止滤光片 173 #lSGH 5Fp?  
8.25  立体偏振分束器1 174 ]5:[6;wS  
8.26  立方偏振分束器2 177 7h!nt=8Y  
8.27  相位延迟器 178 lX/7  
8.28  红外截止器 179 59:kL<;S-  
8.29  21层长波带通滤波器 180 7@y}J5,  
8.30  49层长波带通滤波器 181 Xt:j~cVA  
8.31  55层短波带通滤波器 182 C~K/yLCAi  
8.32  47 红外截止器 183 )ezkp%I5D  
8.33  宽带通滤波器 184 OEzSItAI/[  
8.34  诱导透射滤波器 186 '4
3Uv  
8.35  诱导透射滤波器2 188 pNuU{:9 B0  
8.36  简单密集型光波复用（DWDM）滤波器 190 Wnp[8IEU  
8.37  高级密集型光波复用技术（DWDM）滤波器 192 S:xs[b.ZZ  
8.35  增益平坦滤波器 193 J8@+)hn  
8.38  啁啾反射镜 1 196 Dp#27Yzc  
8.39  啁啾反射镜2 198 %iYro8g!,  
8.40  啁啾反射镜3 199 *Sbc 8Y  
8.41  带保护层的铝膜层 200 LV0gw"  
8.42  增加铝反射率膜 201 P@n rcgM.  
8.43  参考文献 202 Rf>V]R  
9  多层膜 204 p<Tg}fg  
9.1  多层膜基本原理—堆栈 204 5^l-3s?M  
9.2  内部透过率 204 .{bT9S
c5  
9.3 内部透射率数据 205 ?
;(
!(<{  
9.4  实例 206 i!JSEQ_8  
9.5  实例2 210 @Xh8kvc81  
9.6  圆锥和带宽计算 212 Dk")/ ib  
9.7  在Design中加入堆栈进行计算 214 Oq3t-omXS  
10  光学薄膜的颜色 216 V1G5Kph  
10.1  导言 216 w)YTHY(k;  
10.2  色彩 216 fHI@' '0  
10.3  主波长和纯度 220  s-&
i!d  
10.4  色相和纯度 221 \Km+>G  
10.5  薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 4IM&#_6  
10.6 色差 226 _$HCNFdh  
10.7  Essential Macleod中的色彩计算 227 1. Q"<[M  
10.8  颜色渲染指数 234 3z#
fFP@E  
10.9  色差计算 235 JE$$6X  
10.10  参考文献 236 o@} qPvt0  
11  镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 chE}`I?  
11.1  短脉冲 238 K #JO#  
11.2  群速度 239 A9[
D.W9>  
11.3  群速度色散 241 :N xksL^  
11.4  啁啾(chirped) 245 (~b0-3s  
11.5  光学薄膜—相变 245 Z%r8oj\n  
11.6  群延迟和延迟色散 246 [f$pq5f='  
11.7  色度色散 246 {w99~?  
11.8  色散补偿 249 I;P! 
 
11.9  空间光线偏移 256 =)Goip  
11.10  参考文献 258 [{ A5BE -  
12  公差与误差 260 &,]yqG 2  
12.1  蒙特卡罗模型 260 (51;cj>J  
12.2  Essential Macleod 中的误差分析工具 267 ]tbl1=|  
12.2.1  误差工具 267 MSt@yKq  
12.2.2  灵敏度工具 271 i.ivHV~-  
12.2.2.1 独立灵敏度 271  Zzr  
12.2.2.2 灵敏度分布 275 gvP.\,U  
12.2.3  Simulator—更高级的模型 276 0=OvVU;P  
12.3  参考文献 276 3[m~6Ys  
13  Runsheet 与Simulator 277 '}P$hP_d  
13.1  原理介绍 277 f{]W*!VV-  
13.2  截止滤光片设计 277 G)9`Qn  
14  光学常数提取 289 gGbqXG^  
14.1  介绍 289 ve(@=MJ  
14.2  电介质薄膜 289 [{+ZQd  
14.3  n 和k 的提取工具 295 ]k.YG!$  
14.4  基底的参数提取 302 q&wv{  
14.5  金属的参数提取 306
"fd'~e$S#  
14.6  不正确的模型 306 m W4tW  
14.7  参考文献 311 GIUyW  
15  反演工程 313 x&FBh!5H  
15.1  随机性和系统性 313 <>=abgg  
15.2  常见的系统性问题 314 )VxC v
  
15.3  单层膜 314 >9Y0
t^Fl  
15.4  多层膜 314  0LU

w  
15.5  含义 319 k,[[ CZ0j  
15.6  反演工程实例 319 +n<;);h  
15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 '494^1"io  
15.6.2 反演工程提取折射率 327 6uWPIM;  
16  应力、张力、温度和均匀性工具 329 bLz('mUY  
16.1  光学性质的热致偏移 329 L0xh?B  
16.2  应力工具 335 d1d:5b  
16.3  均匀性误差 339 1swqs7rR|  
16.3.1  圆锥工具 339 V"sm+0J  
16.3.2  波前问题 341 e= _7Q.cn  
16.4  参考文献 343 ew8Manx  
17  如何在Function（模块）中编写操作数 345 +r__>V,  
17.1  引言 345 RsP^T:M}$  
17.2  操作数 345 Q .cL1uHc  
18  如何在Function中编写脚本 351 )/?s^D$,  
18.1  简介 351 ebB8.(k9G3  
18.2  什么是脚本？ 351 st(Y{Gs  
18.3  Function中脚本和操作数对比 351 M4}zRr([.5  
18.4  基础 352 7C^W<SUo  
18.4.1  Classes（类别） 352 kS(v|d  
18.4.2  对象 352 Kdd5ysTQ  
18.4.3  信息（Messages） 352 VK$s+"  
18.4.4  属性 352 ^g N?I
o  
18.4.5  方法 353 }F)eA1  
18.4.6  变量声明 353 )%(H'omvl  
18.5  创建对象 354 k|_LF[*Z  
18.5.1  创建对象函数 355 [ST7CrwC  
18.5.2  使用ThisSession和其它对象 355 --|L?-2k,  
18.5.3 丢弃对象 356 7.1FRxS  
18.5.4  总结 356 Gv}~  
18.6  脚本中的表格 357 VWE
`wan<  
18.6.1  方法1 357 qu0dWgK
 
18.6.2  方法2 357 aboA9pwH  
18.7 2D Plots in Scripts 358 si>gYO  
18.8 3D Plots in Scripts 359 KH76Vts  
18.9  注释 360 BYsQu.N  
18.10  脚本管理器调用Scripts 360 WzO[-csy  
18.11  一个更高级的脚本 362 -VRKQNT  
18.12  <esc>键 364 WEB enGQ  
18.13 包含文件 365 "Bbd[ZI8  
18.14  脚本被优化调用 366 wg 6
 
18.15  脚本中的对话框 368 AG<TY<nqL  
18.15.1  介绍 368 D,;6$Pvg^  
18.15.2  消息框-MsgBox 368 ,zH\&D$>u  
18.15.3  输入框函数 370 's6hCs&|NV  
18.15.4  自定义对话框 371 W2j@Q=YDS  
18.15.5  对话框编辑器 371 nL-kBW Ed>  
18.15.6  控制对话框 377 :l?/]K  
18.15.7  更高级的对话框 380 ;CdxKr-d  
18.16 Types语句 384 iQ_^MzA  
18.17 打开文件 385 \I`g[nT|  
18.18 Bags 387 @k,}>Tk  
18.13  进一步研究 388 g7U>G=,;?U  
19  vStack 389 S.A|(?x  
19.1  vStack基本原理 389 5Gsjt+ o  
19.2  一个简单的系统——直角棱镜 391 ~l>2NY  
19.3  五棱镜 393 cvl1X"  
19.4 光束距离 396 2*@.hBi  
19.5 误差 399 9Kd:7@U  
19.6  二向分色棱镜 399 5X"WgR;  
19.7  偏振泄漏 404 05Go*QvV  
19.8  波前误差—相位 405 joJ:*oL  
19.9  其它计算参数 405 K_E- Hgg_  
20  报表生成器 406 piKR*|F  
20.1  入门 406 2XGbqZj  
20.2  指令(Instructions) 406 "f<+~  
20.3  页面布局指令 406 8ORr  
20.4  常见的参数图和三维图 407 H@hHEzO  
20.5  表格中的常见参数 408 \Zms  
20.6  迭代指令 408 Di8;Tq  
20.7  报表模版 408 ^5d9n<_xnQ  
20.8  开始设计一个报表模版 409 TdH~sz  
21  一个新的project 413 ck4g=QpD{  
21.1  创建一个新Job 414 O/2Jz  
21.2  默认设计 415 sOLR*=F{  
21.3  薄膜设计 416 QHuh=7u)  
21.4  误差的灵敏度计算 420
f$^+;j  
21.5  显色指数计算 422 F|t_&$Is?  
21.6  电场分布 424 _ 0Ced&i  
后记 426 KdB9Q ;  
z@n779i  
qo"_w%{  
书籍名称：《Essential Macleod中文手册》 Rk.GrLp  
P",E/beV  
《Essential Macleod中文手册》 :Y;\1J<b1  
mjz<,s`D  
目  录 >E3 lY/[  
ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 [r5k8TB1  
第1章 介绍 ..........................................................1第2章 软件安装 ..................................................... 3 SQd`xbIuL  
第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 r@m2foaO  
第5章 软件结构 ............................................................... 21第6章 应用窗口 ................................................................. 44 znl_~:.4]X  
第7章 设计窗口 .................................................................. 62第8章 图形窗口 .................................................................. 100 Rr>h8Ni <  
第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 .}l&lj
@#  
第11章 表格窗口 ................................................................. 116第12章 优化和综合 ..................................................................120 ^ M4-O~  
第13章 材料管理 ........................................................................ 149第14章 多层膜 ........................................................................... 167 vAMr&[  
第15章 分析和设计工具 ........................................................180第16章 逆向工程 ................................................................ 200 ;Jrk#7  
第17章 报告生成器 ............................................................. 208第18章 堆栈 ......................................................................... 213 Z'I0e9Jw  
第19章 功能扩展 .................................................................. 229第20章 运行表单 .................................................................... 251 `F<[\@\d5  
第21章 模拟器 ...................................................................... 271第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 :'LG%E:b  
第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 \7Fkeo+  
第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 W=k%aB?p  
第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /Aq):T T  
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 /o_h'l|PS  
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价  格：400元