微透镜,微功能器件,刻槽,光刻掩模,图像处理
成都纳工科技为您提供
1.光刻产品:微透镜,刻槽,光学码盘,分划板,光栅,光刻掩模等,还可根据客户需要制作各类特殊微细结构。最大加工范围320*320m。 2.设计:微功能器件设计。包括微机械(MEMS)设计、光学/微光学器件设计、掩模设计。 3.图像信息技术:图像/高速图像数据采集、处理与储存模块及系统。 邮箱:ng@nagong.com.cn 分享到:
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