微透镜，微功能器件，刻槽，光刻掩模，图像处理

成都纳工科技为您提供 n<,:;0{  
1.光刻产品：微透镜，刻槽，光学码盘，分划板，光栅，光刻掩模等，还可根据客户需要制作各类特殊微细结构。最大加工范围320*320m。                                                                                      2.设计：微功能器件设计。包括微机械（MEMS）设计、光学/微光学器件设计、掩模设计。                              v;6O# ta'  
3.图像信息技术：图像/高速图像数据采集、处理与储存模块及系统。 j(xVbUa  
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