招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 3[#^$_96b  
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以下是本次培训具体详情： u?>},M/  
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✦ 第一天 'e:4  
光学和光线追迹的入门概念 }w)}=WmD  
ASAP 简介 KXMf2)pa  
ASAP 新版本功能 J_F\cM   
程序检查和3D 查看器 /[c_,G""  
ASAP 数据输入 &pK0>2  
单透镜辐射计示例 +.djC
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ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 EG4~[5[YgI  
照明系统示例 A8ViJ  
基本脚本操作 P)VQAM  
几何规范和通用几何设置 `K VSYC  
光学特性 ?z&n I#  
光源设置 jJ"(O-<)D  
光线追迹概念 d/GSG%zB
 
系统分析与评价 (6c/)MH  
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✦ 第二天 gZHgL7@  
脚本和 ASAP 编辑器 p#c41_?'e  
几何可视化与验证 4UbqYl3|a  
显示模式 P^o@x,V!&  
辐射强度分布 jR\pYRK  
光源切趾 b!t[PShw^  
光线分裂和接收属性 e!Z}aOeE  
ASAP 宏语言 ")ys!V9  
ASAP 优化功能 )h ,v(Rxa  
散射模型和重点采样 6b*xhu\  
光线路径 &fRz6Hd  
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✦ 第三天 b4:{PD~Mh  
杂散光术语 9qa/f[G  
辐射度学基础 JCxQENsVqB  
杂散光成因 _G)A$6weU  
杂散光影响、杂散光控制 !0pK8k&MG  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 7cV G?Wr  
ASAP 杂散光分析流程、步骤 %,$xmoj9O]  
练习 1- 找关键和被照表面 V+D<626o  
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✦ 第四天 t=eI*M+>h  
散光特性、散射模型 nh7_ jEX  
练习 2 - 散射模型拟合 F<h+d917  
光学表面污染 |FFz $'8)  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 ZxOo&YR3  
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 "+2
C
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✦ 第五天 r4cz?e|  
衍射杂散光、PST 分析 :}36;n<['  
练习 4 - PST 分析 ;Ows8  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 |L*=\%t8  
练习 5 - 鬼像分析 tvno3"  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 mUl0D0#  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 ZweAY.]e  
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•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; yk!K5  
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; Yt=)=n  
•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 }>y!I5O  
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 qh W]Wd"g  
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) ?=)lbSu K  
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 dHAT($QG  
1.提供服务性发票，项目“培训费”; H9'psv  
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; Kt qOA[6  
3.食宿自理。 ?zP 2   
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 22ySMtxn  
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