招生 | 第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班

武汉墨光长久以来成功召开多期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线上线下培训。武汉墨光将于2023年11月13日-17日开展第31届《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制》线下培训班。本次培训共计5天时间，课程涉及【理论知识+案例实操】两个模块的学习，讲师现场互动答疑，旨在让所有学员能够熟练掌握 ASAP 高级光学系统分析软件。 YQD/vc~8G  
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以下是本次培训具体详情： {G<1.  
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✦ 第一天 2+g'ul`  
光学和光线追迹的入门概念 .NxskXq)  
ASAP 简介 *O)i)["  
ASAP 新版本功能 W`TSR?4~t?  
程序检查和3D 查看器 u),.q7(m  
ASAP 数据输入 =ReSlt  
单透镜辐射计示例 %[azMlp<  
ASAP 数据库概念; 实体和物体; 追迹数据 K*4ib/'E a  
照明系统示例 s vS)7]{cU  
基本脚本操作 7m?fvKy  
几何规范和通用几何设置 b' ~WS4xlD  
光学特性 [8oX[oP  
光源设置 r>CBp$  
光线追迹概念 soX^$l  
系统分析与评价 %5@> nC?`[  
(*V!V3E3#  
✦ 第二天 Z,M2vRj"qT  
脚本和 ASAP 编辑器 |)*!&\Ch  
几何可视化与验证 kV!1k<f  
显示模式 C#3&,G W  
辐射强度分布 #MiO4zXgd  
光源切趾 [ <k&]Kv  
光线分裂和接收属性 t\Qm2Q)>  
ASAP 宏语言 roe_H>  
ASAP 优化功能 ?@MWV  
散射模型和重点采样 CUBL/U\=  
光线路径 _x,(576~  
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✦ 第三天 |tTcJ\bG  
杂散光术语 -@B6$XWL  
辐射度学基础 (|3?wX'2U  
杂散光成因 M8y|Lm}o  
杂散光影响、杂散光控制 wgq=9\+&  
杂散光分析、评价方法、分析软件对比 I'N!j>5oX  
ASAP 杂散光分析流程、步骤 ?MFXZ/3(ba  
练习 1- 找关键和被照表面 Z^mQb2e.  
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✦ 第四天 7_lgo6  
散光特性、散射模型 |t;Ktl  
练习 2 - 散射模型拟合 X?/32~\  
光学表面污染 b!nA.`T  
散射特性测量仪对比、重点区域采样 D}-HWJQA3  
练习 3 - 重点区域位置和大小计算 `1y@c"t  
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✦ 第五天 .G"T;w6d  
衍射杂散光、PST 分析 oU*e=uehj  
练习 4 - PST 分析 ?g0dr?H  
鬼像分析、光学设计中的杂散光控制 [=u@6Y  
练习 5 - 鬼像分析 47A[-&y*X  
遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析 =CCddLO  
杂散光计算器、扩展面源杂散光分析 O~6AX)|&=  
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•为达到培训效果，均为小班授课模式，名额有限，报名从速; Gvr>n@n  
•学员自备笔记本电脑，培训结束后合格者方颁发培训证书; U<'z,P
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•培训方安装最新正版软件，提供标准 ASAP 教材。 T?`Ha\go  
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✦ 主办单位：武汉墨光科技有限公司 {?X +Yw  
✦ 培训时间：2023年11月13日-17日 共五天(09：00-17：00) `/WOP`'zM  
✦ 培训费用：按7200元/人的标准进行收费。 {e0aH `me  
1.提供服务性发票，项目“培训费”; pF}E`U=Z  
2.团体(三人及以上)报名可以享受八折优惠，不与墨光其他优惠同时使用; Vn_>c#B  
3.食宿自理。 x_/H  
✦ 报名方式：报名咨询请扫描下方“二维码”即可。 F#qc#s  
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