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Te;gVG * 内容简介 {DT4mG5 Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 h4Ia>^@ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 |1"!kA 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 W}h|K:-S _S"f_W 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 R uLvG+ 目录 2Pp&d>E4 Preface 1 a}>Dz 1R 内容简介 2 ]ZTcOf 目录 i =Ey`M#t; 1 引言 1 g]|_
` 2 光学薄膜基础 2 7UKYmJk. 2.1 一般规则 2 kM!V.e[g 2.2 正交入射规则 3 5 [4Z=RP 2.3 斜入射规则 6 ^YKy9zkTl 2.4 精确计算 7 cn%2OP:L^ 2.5 相干性 8 I]X 2.6 参考文献 10 8.?E[~ 3 Essential Macleod的快速预览 10 ?U_9{}r 4 Essential Macleod的特点 32 Pd~MiyO;K 4.1 容量和局限性 33 aX^+ O, 4.2 程序在哪里? 33 ^Dr.DWi{$ 4.3 数据文件 35 G;TsMq 4.4 设计规则 35 /)9W1U^B 4.5 材料数据库和资料库 37 se!mb _! 4.5.1材料损失 38 Fc8E Y* 4.5.1材料数据库和导入材料 39 nJJs%@y 4.5.2 材料库 41 M^6$
MMx 4.5.3导出材料数据 43 \&a.}t 4.6 常用单位 43 :[sOKV i 4.7 插值和外推法 46 iq6a|XGi 4.8 材料数据的平滑 50 WA.AFt 4.9 更多光学常数模型 54 knT.l" 4.10 文档的一般编辑规则 55 EvE,Dm?h 4.11 撤销和重做 56 s-k_d< 4.12 设计文档 57 frN3S 4.10.1 公式 58 6GYtY> 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 S &JJIFftO 4.10.3 沉积密度 59 n|i"S` 4.10.4 平行和楔形介质 60 \DA$6w\\ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 wqD5d
4.10.4 性能 61 ~O;y?]U 4.10.5 保存设计和性能 64 "&lN\&: 4.10.6 默认设计 64 LK}-lZ`
i 4.11 图表 64 alm-
r-Kb3 4.11.1 合并曲线图 67 *
OsU Y=; 4.11.2 自适应绘制 68 '<@=vGsye 4.11.3 动态绘图 68 ;;V\"7q' 4.11.4 3D绘图 69 47UO*oLS 4.12 导入和导出 73 +a|/l 4.12.1 剪贴板 73 }nud 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 jtKn3m7 +p 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ~]WVG@- 4.13 背景 77 Pxhz@":[ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 &|5GB3H= 4.15 生成Rugate 84 _3>djF_u 4.16 参考文献 91 wAYB RY[ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 h qmSE'8 5.1 Jobs 92 <7n]Ai@Y 5.2 创建一个新Job(工作) 93 R Fko>d 5.3 输入材料 94 _+w/
pS`M 5.4 设计数据文件夹 95 &mE?y% 5.5 默认设计 95 .Q>!B?) 6 细化和合成 97 ]Kdet"+ 6.1 优化介绍 97 Vq ^]s$' 6.2 细化 (Refinement) 98 :reTJQwr 6.3 合成 (Synthesis) 100 vR>o}%` 6.4 目标和评价函数 101 v6uxxsI>Hm 6.4.1 目标输入 102 naNyGE7) 6.4.2 目标 103 XU-m"_t 6.4.3 特殊的评价函数 104 mlu 3K 6.5 层锁定和连接 104 N.j
"S'(i 6.6 细化技术 104 fgF;&(b 6.6.1 单纯形 105
27 GhE 6.6.1.1 单纯形参数 106 ~]uZy=P? 5 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 x5Zrz<Y$w 6.6.2.1 Optimac参数 108 ^_>!B) 6.6.3 模拟退火算法 109 0ys~2Y!eH 6.6.3.1 模拟退火参数 109 nr\q7 6.6.4 共轭梯度 111 +F@_Es<6 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 @Doyt{|T 6.6.5 拟牛顿法 112 Z=+03 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ii4B?E 6.6.6 针合成 113 IA*KaX2S< 6.6.6.1 针合成参数 114 ?o[L7JI 6.6.7 差分进化 114 %_gho 6.6.8非局部细化 115 BC/_:n8O 6.6.8.1非局部细化参数 115 1n%8j*bJq 6.7 我应该使用哪种技术? 116 y,m2(V 6.7.1 细化 116 }zMf7<C 6.7.2 合成 117 {'bip`U. 6.8 参考文献 117 >HTbegi 7 导纳图及其他工具 118 ?IYY'fS" 7.1 简介 118 B0)]s<< 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 p25Fn`}H 7.2.1 四分之一波长规则 119 TbhH&kG)1 7.2.2 导纳图 120 c^.l2Q! 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 LSd*|3E}n 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 g+[kde;(^ 7.5 斜入射导纳图 141 fA^Em)cs2 7.6 对称周期 141 ~&VN_;j_ 7.7 参考文献 142 6yIvaY$KR 8 典型的镀膜实例 143 (36K3=Q a 8.1 单层抗反射薄膜 145
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