主要用于介绍如何在OptiBPM中创建一个简单的多模干涉耦合器,主要步骤如下: Yyk~!G/@ • 定义MMI耦合器的材料; i?_Q@uA~<: • 定义布局设定; >D=X
Tgqqq • 创建一个MMI耦合器; +9HU&gQ3 • 插入输入面; &wNr2PHd# • 运行模拟; l"8g9z • 在OptiBPM_Analyzer中预览模拟结果。 ,IiKe_B +aL6$ 1. 定义MMI耦合器的材料 9ERdjS 为了定义MMI耦合器的材料,需要进行如下操作:
4H;g"nWqO 1) 通过File-New打开“初始性能对话框(Initial Properties)“ $bp'b<jx >(:3H+ 图1.初始性能对话框
ygTfQtN 2) 点击图1中的“轮廓和材料(Profiles And Materials)”以激活“轮廓设计窗口(Profile Designer)” :/->m6C`0 .UxkTads 图2.轮廓设计窗口
f?.}S]u5 3) 右键单击图2中材料(Materials)标签下的“电介质(Dielectric)“,选择New以激活电介质材料创建窗口 ccv
0yjYjIk"T %YxKWZ/? 图3.电介质材料创建窗口
Va[&~lA) 4) 在图3中窗口创建第一种电解质材料: }r04*P( − Name : Guide X'd\b}Bm − Refractive Index (Re) : 3.3 @kd$.7Y9 − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 -/8V2dv3 ,,FhE 图4.创建Guide材料
o5],c9R9b 5) 重复步骤3)和4),创建第二种电解质材料: hQ3@Cf W − Name : Cladding V xN!Ki= − Refractive Index (Re) : 3.27 G>dXK,f<B0 − 点击“Store”以保存创建的第一种电解质材料并关闭窗口 tli*3YIw Fkv284,LM 图5.左图为创建Cladding材料,右图为材料创建成功后电解质材料标签下的显示 %m|BXyf]_B
6) 双击Profiles标签下的Channel-Channel1,进入通道编辑窗口,构建通道: )~)T[S − Name : Guide_Channel pDC`Fi − 2D profile definition: Guide 6T"5,Q</h − 点击“Store”保存创建的通道并关闭通道编辑窗口,关闭Profile Designer窗口 @V4nc
'o. 9Eh*r@> 图6.构建通道
2. 定义布局设定 iLdUus!
为了定义布局设定,需要在“初始性能对话框(Initial Properties)”窗口进行以下操作: axG%@5
1) 点击“默认波导(Default Waveguide)”标签 Xe}I;sKrB
− Width:2.8 p+I`xyk
注意:所有的波导将会使用此设定以作为默认厚度 <MxA;A
− Profile:Channel-Guide a;i}<n7
图7.默认波导标签下“Width”以及“Profile”设置
:hHKm|1FE
&~"N/o
2) 切换到“晶圆尺寸(Wafer Dimension)”标签: 7WV"Wrl]
− Length:5300 "97sH_
,
− Width:60 mv<cyWp
图8.设置晶圆尺寸
fN`Prs A
USE!
3) 切换到“2D晶圆属性(2D Wafer Properties)”标签: (>Sy,
− Material:Cladding T+V:vuK
− 点击OK以激活布局窗口 45+kwo0
图9.晶圆材料设置
hzV%QDUpe
sI)jqHZG
4) 布局窗口 &Ai+t2
图10.默认情况下布局窗口显示
@
/e{-Q
.j!:Hp(z}
5) 调整显示比率,以便更好进行波导结构布局设置: _=w=!U&W
− View-Layout Options以激活布局设置选项窗口 <95*z @
− Display ratio : Z=40,点击OK,如图11所示 ZA4sEVHW
− 调整缩放比率为0.6 ,最终布局显示如图12所示 GyE5jh2
图11.调整Z方向和X方向的显示比率 4YMUkwh
图12.最终布局显示
Ud-c+, xX
Lz-(1~o
3. 创建一个MMI耦合器 pfk)_;>,
为了构建一个MMI耦合器,需要进入如下操作: voN, u>U
1) 在“绘图(Draw)”菜单下选择“线性波导(Linear Waveguide)”或者在波导栏 下选择线性波导 -z/>W+k
2) 当鼠标指针变为十字叉时,点击布局窗口左侧,并向右侧拖拽波导后松开鼠标,以生成第一个线性波导 Dk~
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图13 .绘制第一个线性波动
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