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    • Zemax光学设计从入门到精通 Zemax光学设计从基础到实践 成像衍射光学元件设计及应用 现代光学与光子学技术
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 光学设计与光学元件 计算光学带来的成像革命
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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    离线infotek
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 [tk x84M8  
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    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 zA9q`ePS  
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    场景 A#cFO)"  
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     ^(^P#EEG  
    nrKAK^  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 QIMd`c  
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    系统构建块     UDr 1t n  
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     yS~Y"#F!.  
    `f}s<At  
    组件求解器 HNS^:X R  
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    S.`y%t.GP  
    系统构建块 "'[M~Js  
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     "qq$i35x  
    3R< r[3WP  
    总结 %U{sn\V  
    P?V+<c{  
    C{/U;Ie-b  
    TNqL ')f  
    几何光学仿真  #B~ ;j5  
    通过光线追迹 3g!Z[SZ  
     )8oyo~4?  
    结果：光线追迹 0bh 6ay4  
    C&Q[[k"kb  
     ks. p)F>]  
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    快速物理光学仿真 <lFHmi$qt{  
    通过场追迹 YaS!YrpI  
     WDghlC6g!l  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 {2q"9Ox"  
    D Z*c.|W  
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    wqDf\k}'v  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 <fHHrmZ#/.  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 wp}Q4I  
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    +ZjDTTk  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 O<p=&=TD7  
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    总结 w%`S>+kX&  
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