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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 NCm=l  
    P)ne^_   
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 qzk]9`i1:  
    lHu/pSu@k  
    ADMeOdgca  
    场景 h^J :k  
    w}29#F\]R  
    48!F!v,j)x  
    $=C ` V  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 "`w*-O  
    A~L Ti  
    系统构建块
    /&!o]fU1C  
    XW{cC`&  
    }E)t,T>  
    y cWY.HD  
    组件求解器 M@0S*[O{"  
    rPHM_fW(O@  
    qtP*O#1q  
    4@-Wp]  
    rj<-sfs  
    4XeO^#  
    系统构建块 E/E|*6R  
    Wx8;+!2Q/  
    Qk^}  
    pU u')y  
    总结 ~\c  j  
    EV~?]Kt~  
    wJ7Fnj>u%  
    @_h=,g #@  
    几何光学仿真 li~=85 J  
    通过光线追迹 `oE.$~'  
    'RR,b*Ql  
    结果:光线追迹 Ge76/T%{Q  
    S @)P#  
    W#9LK Jj  
    ?;go5f+X  
    快速物理光学仿真 Btc[  
    通过场追迹 QW%xwV?8  
    ay28%[Q b4  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 2{L[D9c/6  
    -}Rh+n`  
    qPCI@5n3T?  
    ITjg]taD  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ,9 .NMFn  
    <|:$_&(  
    VO*fC  
    M5]$w]Ny9  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 c*)PS`]t  
    (HeIO  
    kwFo*1 {  
    ]T>YYz  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方  /?6  
    }cg 1CT5  
     PO=A^b  
    m] @o1J  
    总结 cLMFC1=b  
    ;B"S*wYMN  
    M,P:<-J  
    SwhArvS  
     
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